公开(公告)号：CN119731777A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202480003749.3

申请日：2024-03-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 富冈武敏

IPC: H01L21/683 ,  C23C16/458 ,  H01L21/3065

Abstract: 提供一种能够提高静电吸盘所保持的基片的温度均匀性的技术，静电吸盘包括：载置基片的电介质部件；和配置在电介质部件内的静电电极，电介质部件包括：具有供气体流出的气体流出部的第一上表面；和配置在第一上表面的外侧，具有比第一上表面高的高度的环状的密封带，密封带包括：外周部；和具有比外周部低的高度的内周部，静电电极至少配置在密封带的内周部的正下方。

公开(公告)号：CN113496925A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110372663.6

申请日：2021-04-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 千叶谅 ,  永山晃 ,  佐佐木康晴 ,  佐藤大树 ,  富冈武敏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种边缘环,其能够降低导热气体的泄露。该边缘环配置于基板的周缘,其以如下方式形成:以将上述边缘环的中心轴线上的一点设定为中心点的、上述边缘环的内径以上外径以下的直径的假想圆为基准,自上述假想圆上的多个点至上述边缘环的下表面的垂直方向的高度的最大值与最小值的差值的绝对值为预定的的上限值以下。

公开(公告)号：CN112640060A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980057784.2

申请日：2019-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永山晃 ,  佐佐木康晴 ,  富冈武敏 ,  山口伸

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H02N13/00 ,  H05H1/46

Abstract: 提供一种基板支承体，其包括：基台；静电吸盘，用于放置基板；电极，设置于所述静电吸盘；所述电极的接点部；粘接层，在所述基台上将所述静电吸盘与所述基台粘接，并且不覆盖所述接点部；以及供电端子，以不被固定于所述电极的接点部的方式与所述电极的接点部接触。

公开(公告)号：CN106504969B

公开(公告)日：2018-12-14

申请号：CN201610766213.4

申请日：2016-08-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 富冈武敏 ,  佐佐木康晴 ,  岸宏树 ,  徐智洙

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明的目的在于使聚焦环的吸附特性稳定化。本发明提供一种聚焦环，其在处理容器内配置于载置基板的下部电极的周缘部、与该下部电极的部件接触，上述聚焦环的接触面由含硅材料、氧化铝(Al2O3)和石英中的任一者形成，上述聚焦环的接触面和上述下部电极的部件的接触面中的至少一者为0.1μm以上的表面粗糙度。

公开(公告)号：CN106504969A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201610766213.4

申请日：2016-08-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 富冈武敏 ,  佐佐木康晴 ,  岸宏树 ,  徐智洙

IPC: H01J37/32

CPC classification number: B24B37/32 ,  B24B37/20 ,  H01J37/32642

Abstract: 本发明的目的在于使聚焦环的吸附特性稳定化。本发明提供一种聚焦环，其在处理容器内配置于载置基板的下部电极的周缘部、与该下部电极的部件接触，上述聚焦环的接触面由含硅材料、氧化铝(Al2O3)和石英中的任一者形成，上述聚焦环的接触面和上述下部电极的部件的接触面中的至少一者为0.1μm以上的表面粗糙度。