公开(公告)号：CN103000552A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210316737.5

申请日：2012-08-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川上雅人 ,  似鸟弘弥 ,  莫云

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供基板冷却机构、基板冷却方法和热处理装置。能够在加热多张基板的分批式的热处理装置中快速且均匀地冷却热处理后的基板。该基板冷却机构具有：筒状的热量屏蔽构件（30），屏蔽向热处理后的基板（W）辐射的辐射热，能够在插入到加热部件（12）和处理容器（11）内的基板保持构件（15）之间的插入位置与自插入位置抽出的抽出位置之间移动；空气冷却部（21），配置在处理容器的外部，热量屏蔽构件以两个半筒状构件（31）能够合为一体或分开的方式设置在抽出位置，在两个半筒状构件合为一体的状态下，热量屏蔽构件在抽出位置与插入位置之间移动，且外侧面由辐射率比内侧面的辐射率低的材料构成。

公开(公告)号：CN101252081A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200810009041.1

申请日：2008-01-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥 ,  菱谷克幸

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  F27B17/00 ,  F27B5/06 ,  F27D5/00 ,  F27D3/00

CPC classification number: F27B17/0025 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67757 ,  Y10S414/14

Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，其特征在于，具备：具有炉口的热处理炉；封闭上述热处理炉的炉口的盖体；通过保温筒载置在上述盖体上的，用于多层保持多个基板的第一和第二基板保持件；使上述盖体升降，将任何一个基板保持件搬入和搬出热处理炉内的升降机构；当一个基板保持件在上述热处理炉内时，为了移载基板，载置另一个基板保持件的保持件载置台；和在上述保持件载置台和上述保温筒之间进行各基板保持件的搬送的保持件搬送机构，其中，设置有用于以不翻到的方式把持基板保持件的保持件把持机构。

公开(公告)号：CN112962084B

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202110135975.5

申请日：2017-09-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福岛讲平 ,  似鸟弘弥

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够控制面间均匀性的基板处理装置。一实施方式的基板处理装置具有：内管，其收容多张基板；外管，其包围所述内管；可动壁，其设置成能够在所述内管的内部或所述内管与所述外管之间移动；气体供给部件，其向所述基板供给处理气体；以及排气部件，其对向所述基板供给的所述处理气体进行排气，在所述内管的侧壁形成有第1开口部，在所述可动壁形成有第2开口部，所述排气部件经由所述第1开口部和所述第2开口部对向所述基板供给的所述处理气体进行排气。

公开(公告)号：CN102637618A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201210030625.3

申请日：2012-02-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥

IPC: H01L21/67 ,  F26B21/00 ,  F26B21/02

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供热处理装置及热处理方法。在从前表面朝向与该前表面相对的后表面的气流形成用的排气口地形成有横向的气流的加载区域内，在处于热处理炉的下方侧的卸载位置的晶圆舟皿与上述排气口之间设有排气风道，该排气风道形成有用于对由于卸载而被加热成高温的气氛气体进行排气的热排气用的排气口。

公开(公告)号：CN101252081B

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200810009041.1

申请日：2008-01-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥 ,  菱谷克幸

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  F27B17/00 ,  F27B5/06 ,  F27D5/00 ,  F27D3/00

CPC classification number: F27B17/0025 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67757 ,  Y10S414/14

Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，其特征在于，具备：具有炉口的热处理炉；封闭上述热处理炉的炉口的盖体；通过保温筒载置在上述盖体上的，用于多层保持多个基板的第一和第二基板保持件；使上述盖体升降，将任何一个基板保持件搬入和搬出热处理炉内的升降机构；当一个基板保持件在上述热处理炉内时，为了移载基板，载置另一个基板保持件的保持件载置台；和在上述保持件载置台和上述保温筒之间进行各基板保持件的搬送的保持件搬送机构，其中，设置有用于以不翻到的方式把持基板保持件的保持件把持机构。

公开(公告)号：CN116581053A

公开(公告)日：2023-08-11

申请号：CN202310094499.6

申请日：2023-01-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 门部雅人 ,  似鸟弘弥 ,  佐藤薰 ,  乡右近清彦

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 提供一种能够将具有多个批量处理部的基板处理装置的设置面积设定为较小,并且能够容易地实施批量处理部的维护的技术。本发明的一个方式的基板处理装置包括:运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧面；基板输送部,其沿与上述第二侧面正交的第一方向延伸；以及多个批量处理部,其沿上述基板输送部的长度方向相邻,上述多个批量处理部分别具有:处理容器,其容纳多个上述基板而进行处理；气体供给单元,其向上述处理容器内供给气体；以排气单元,其对上述处理容器内的气体进行排气,上述气体供给单元以及上述排气单元设于上述处理容器的相同侧。

公开(公告)号：CN111430268A

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN202010026896.6

申请日：2020-01-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 门部雅人 ,  名须川信也 ,  似鸟弘弥 ,  菊池一行 ,  金子裕史

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括：多个加工模块，其相连地配置；以及装载模块，其用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板，所述多个加工模块均具有：热处理单元，其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器；以及气体供给单元，其配置于所述热处理单元的一侧面，并向所述处理容器内供给气体。

公开(公告)号：CN102637618B

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201210030625.3

申请日：2012-02-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥

IPC: H01L21/67 ,  F26B21/00 ,  F26B21/02

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供热处理装置及热处理方法。在从前表面朝向与该前表面相对的后表面的气流形成用的排气口地形成有横向的气流的加载区域内，在处于热处理炉的下方侧的卸载位置的晶圆舟皿与上述排气口之间设有排气风道，该排气风道形成有用于对由于卸载而被加热成高温的气氛气体进行排气的热排气用的排气口。

公开(公告)号：CN101409220A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200810167750.2

申请日：2008-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  似鸟弘弥 ,  竹内靖

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67389 ,  H01L21/67775

Abstract: 提供不产生被处理体的位置偏移，可迅速平稳地将收纳容器体内气氛置换为惰性气体的被处理体导入口机构和处理系统。其包括用于分隔容器体搬送区域(34)和被处理体移放区域(36)之间并具有开口闸门(52)的分壁壁38和放置收纳被处理体(W)的收纳容器体(2)的放置台(54)。还设置具有可开闭地关闭开口闸门(52)的开闭门(56)的开闭门机构(57)，在开闭门(56)上设有开闭开闭盖(12)的盖开闭机构(64)。还设有在开口闸门(52)的内周具有向着收纳容器体2内喷射惰性气体用的由多孔材料作成筒体状的多孔气体喷身管(80)的气体喷射装置(100)、和具有对利用惰性气体清洗的收纳容器体(2)内气氛进行排气的排气口(82)的排气装置(102)。

公开(公告)号：CN101207006A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710159742.9

申请日：2007-12-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥 ,  金子裕史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/673 ,  F27B5/04 ,  F27B5/06 ,  F27B17/00 ,  C23C16/44

CPC classification number: F27B17/0025

Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，该装置包括：在下部具有炉口的热处理炉；封闭该炉口的盖体；在盖体上通过保温筒对载置的多枚基板(W)以多层的方式保持的基板保持具；通过设置在盖体上的保温筒使基板保持具旋转的旋转机构；和使盖体升降后将基板保持具搬入搬出炉内的升降机构。当一个基板保持具位于炉内时，另一个基板保持具为了基板的移动载置而被载置在载置台上，在载置台与保温筒之间通过搬送机构搬送基板保持具。在保温筒的上部与各个基板保持具的底部设置有在利用搬送机构使基板保持具位于保温筒的正上方的状态下，当利用旋转机构使保温筒旋转规定角度时能够相互卡合固定或者解除卡合固定的卡合固定部与被卡合固定部。