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公开(公告)号：CN101785089A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880104007.0
申请日：2008-08-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , B23K20/08 , C23C16/448
CPC classification number: B23K20/08 , C23C16/4486
Abstract: 本发明提供一种构造简单且能够使热效率提高的汽化器。汽化器(8)具备：雾状地喷出液体原料的喷嘴单元(72)；具有使原料雾汽化形成原料气体的多个汽化通路(74)的汽化单元(76)；和向后段送出原料气体的排出头(78)。汽化单元具备：形成有汽化通路的汽化单元主体(108)；收纳汽化单元主体(108)的主体收纳容器(110)；对通过汽化通路的原料雾进行加热的加热器(112)；和设置在主体收纳容器的两端部的连接部件(114、116)。汽化单元主体和主体收纳容器由热传导性比连接部件的构成材料高的材料形成。主体收纳容器的端部与连接部件通过爆炸而接合。
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公开(公告)号：CN101689499A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022567.1
申请日：2008-08-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481
Abstract: 在使液体原料的液滴通过通气性部件气化时，将整个通气性部件的温度均匀，防止未完全气化而引起堵塞。具有：导入液滴状的液体原料的导入口(354)；板状的通气性部件(410)，其与导入口对置地配置，由具有借助通电发热的电阻的部件构成；以夹持通气性部件的方式对置配置的一对电极(420、430)；经由一对电极使通气性部件通电发热的交流电源(380)；将原料气体送到外部被的送出口(132)，该原料气体是使来自导入口的液滴状的液体原料通过发热的通气性部件的内部来气化而生成的。
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公开(公告)号：CN100426463C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200580000376.1
申请日：2005-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/34 , C23C16/401 , C23C16/405
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，包括供给液态原料的原料供给部、使液态原料汽化并生成原料气体的汽化器、导入原料气体从而在被处理基板上形成薄膜的成膜室的成膜装置。所述汽化器具备喷射从原料供给部供给的液态原料的喷舞喷嘴、具有喷雾喷嘴开口的一个端部以及封闭的另一个端部，使从喷雾喷嘴喷射的雾状的液态原料汽化并生成原料气体的汽化室、对汽化室进行加热的加热器、在喷雾喷嘴的附近朝着汽化室开口并从汽化室导出原料气体的导出口。所述汽化室的封闭的另一个端部，为了使从喷雾喷嘴喷射的液态原料发生汽化，而仅与喷雾喷嘴保持足够的距离。
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公开(公告)号：CN1788334A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200580000376.1
申请日：2005-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/34 , C23C16/401 , C23C16/405
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，包括供给液态原料的原料供给部、使液态原料汽化并生成原料气体的汽化器、导入原料气体从而在被处理基板上形成薄膜的成膜室的成膜装置。所述汽化器具备喷射从原料供给部供给的液态原料的喷雾喷嘴、具有喷雾喷嘴开口的一个端部以及封闭的另一个端部，使从喷雾喷嘴喷射的雾状的液态原料汽化并生成原料气体的汽化室、对汽化室进行加热的加热器、在喷雾喷嘴的附近朝着汽化室开口并从汽化室导出原料气体的导出口。所述汽化室的封闭的另一个端部，为了使从喷雾喷嘴喷射的液态原料发生汽化，而仅与喷雾喷嘴保持足够的距离。
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公开(公告)号：CN101785089B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200880104007.0
申请日：2008-08-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , B23K20/08 , C23C16/448
CPC classification number: B23K20/08 , C23C16/4486
Abstract: 本发明提供一种构造简单且能够使热效率提高的汽化器。汽化器(8)具备：雾状地喷出液体原料的喷嘴单元(72)；具有使原料雾汽化形成原料气体的多个汽化通路(74)的汽化单元(76)；和向后段送出原料气体的排出头(78)。汽化单元具备：形成有汽化通路的汽化单元主体(108)；收纳汽化单元主体(108)的主体收纳容器(110)；对通过汽化通路的原料雾进行加热的加热器(112)；和设置在主体收纳容器的两端部的连接部件(114、116)。汽化单元主体和主体收纳容器由热传导性比连接部件的构成材料高的材料形成。主体收纳容器的端部与连接部件通过爆炸而接合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102016116A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980116734.3
申请日：2009-06-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/31645 , C23C16/4481 , H01J37/3244 , H01L21/31641
Abstract: 本发明提供一种气化器及使用该气化器的成膜装置，该气化器能够防止液体原料的排出口因附着物而堵塞。气化器(300)使从喷嘴(320)的排出口(322)排出的液体原料在被加热的气化室(360)内气化而生成原料气体，该气化器(300)包括：在喷嘴的前端部(323)与气化室之间按照覆盖排出口的周围的方式设置的筒形状的被加热部件(340)；从排出口的附近喷出载气的载气喷出口(326)；使从排出口排出的液体原料与载气混合后向气化室喷出的混合室(344)；从气化室的外侧加热气化室的第一加热部(加热器(392、394))；和从被加热部件的外侧加热被加热部件的第二加热部(加热器(342))。
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公开(公告)号：CN102016116B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200980116734.3
申请日：2009-06-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/31645 , C23C16/4481 , H01J37/3244 , H01L21/31641
Abstract: 本发明提供一种气化器及使用该气化器的成膜装置，该气化器能够防止液体原料的排出口因附着物而堵塞。气化器(300)使从喷嘴(320)的排出口(322)排出的液体原料在被加热的气化室(360)内气化而生成原料气体，该气化器(300)包括：在喷嘴的前端部(323)与气化室之间按照覆盖排出口的周围的方式设置的筒形状的被加热部件(340)；从排出口的附近喷出载气的载气喷出口(326)；使从排出口排出的液体原料与载气混合后向气化室喷出的混合室(344)；从气化室的外侧加热气化室的第一加热部(加热器(392、394))；和从被加热部件的外侧加热被加热部件的第二加热部(加热器(342))。
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公开(公告)号：CN101689499B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200880022567.1
申请日：2008-08-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481
Abstract: 在使液体原料的液滴通过通气性部件气化时，将整个通气性部件的温度均匀，防止未完全气化而引起堵塞。具有：导入液滴状的液体原料的导入口(354)；板状的通气性部件(410)，其与导入口对置地配置，由具有借助通电发热的电阻的部件构成；以夹持通气性部件的方式对置配置的一对电极(420、430)；经由一对电极使通气性部件通电发热的交流电源(380)；将原料气体送到外部被的送出口(132)，该原料气体是使来自导入口的液滴状的液体原料通过发热的通气性部件的内部来气化而生成的。
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公开(公告)号：CN100490086C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200680009290.X
申请日：2006-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/4401 , C23C16/45523 , C23C16/45548
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其是具有在内部保持被处理基板的处理容器、将第一处理气体供给所述处理容器且包含流量调整单元的第一气体供给单元、和将第二处理气体供给所述处理容器的第二供给单元的基板处理装置的基板处理方法，其特征在于：其反复进行将所述第一处理气体通过所述流量调整单元控制为第一流量并在所述第一方向上进行供给的第一工序、从所述处理容器排出该第一处理气体的第二工序、将所述第二处理气体供给所述处理容器的第三工序、和从所述处理容器排出该第二处理气体的第四工序，在1的第一工序与在该1的第一工序接下来实施的2的第一工序之间设有处理气体流量稳定工序。
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公开(公告)号：CN101147245A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200680009290.X
申请日：2006-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/4401 , C23C16/45523 , C23C16/45548
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其是具有在内部保持被处理基板的处理容器、将第一处理气体供给所述处理容器且包含流量调整单元的第一气体供给单元、和将第二处理气体供给所述处理容器的第二供给单元的基板处理装置的基板处理方法，其特征在于：其反复进行将所述第一处理气体通过所述流量调整单元控制为第一流量并在所述第一方向上进行供给的第一工序、从所述处理容器排出该第一处理气体的第二工序、将所述第二处理气体供给所述处理容器的第三工序、和从所述处理容器排出该第二处理气体的第四工序，在1的第一工序与在该1的第一工序接下来实施的2的第一工序之间设有处理气体流量稳定工序。
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