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公开(公告)号：CN102027414A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980118371.7
申请日：2009-05-13
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 东海旅客铁道株式会社
CPC classification number: C23C18/14 , G03F7/0047 , G03F7/0226 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
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公开(公告)号：CN102027414B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200980118371.7
申请日：2009-05-13
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 东海旅客铁道株式会社
CPC classification number: C23C18/14 , G03F7/0047 , G03F7/0226 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
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公开(公告)号：CN117839447A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311245938.5
申请日：2023-09-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及多孔质膜。本发明的课题是提供在进行膜蒸馏的情况下能够同时实现高渗透通量和经纯化的液体的高纯度化的多孔质膜、具备该多孔质膜作为膜蒸馏用的膜的膜蒸馏组件、和通过使用前述多孔质膜作为膜蒸馏膜的膜蒸馏来进行的经纯化的液体的制造方法。本发明的解决手段是使用具有亲水性主面和作为该亲水性主面的背面的疏水性主面、亲水性主面的水接触角大于0°且小于10°、并且疏水性主面的水接触角大于70°且为130°以下的多孔质膜。
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公开(公告)号：CN104649580A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410670258.2
申请日：2014-11-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 植松照博
IPC: C03C15/00
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供化学强化玻璃基板的加工方法以及供于该加工方法的化学强化玻璃基板，该加工方法是在化学强化玻璃基板的表面使用感光性树脂组合物形成蚀刻掩模后对化学强化玻璃基板的表面实施蚀刻加工的方法，该加工方法能够从化学强化玻璃基板的表面快速地除去蚀刻掩模而几乎不产生蚀刻掩模的残渣。在对具备使用感光性树脂组合物所形成的蚀刻掩模的化学强化玻璃基板进行蚀刻加工时，使用实施蚀刻的面的、从表面至深度10μm的表层的钠和钾的元素成分比率总和为13质量％以下的化学强化玻璃基板。
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公开(公告)号：CN103901726A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201310729421.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成分辨率优异的厚膜的感光性树脂层的、厚膜用负型感光性树脂组合物；具有包含该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜的感光性树脂层的厚膜感光性干燥膜；以及使用该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜抗蚀剂图案的形成方法。在含有（A）碱可溶性树脂和（B）光聚合性单体的厚膜用负型感光性树脂组合物中，配合（C）下述式（1）所示的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101044434A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200580036258.6
申请日：2005-10-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388
Abstract: 本发明提供了对h－射线高度灵敏并且抗蚀剂图案分辨率优异的、用于h－射线曝光的光敏树脂组合物、以及使用它们的光敏干膜。光敏树脂组合物由如下组成：碱可溶的树脂(A)，其在含羧基的丙烯酸类共聚物的羧基部分中具有包含脂环族环氧基团的不饱和化合物，并且具有1,000－100,000的重均分子量；烯键式不饱和化合物(B)；和光聚合引发剂(C)，其至少包括一种在405nm波长下光吸收系数为1或更大的光聚合引发剂(C1)作为主要组分。
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公开(公告)号：CN119503513A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410936144.1
申请日：2024-07-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: B65H23/198 , B65H23/34 , B65H18/10 , B65H35/02
Abstract: 本发明涉及收卷装置、膜收卷方法及多孔性酰亚胺系树脂膜的制造方法。本发明的课题是有效地抑制收卷时的褶皱等的产生。本发明的解决手段为收卷装置(80)，其为以带状延伸的膜(F)的收卷装置(80)，其具备对膜(F)进行收卷的驱动辊(81)、使驱动辊(81)进行旋转驱动的辊驱动部(82)、和控制装置(90)，所述控制装置(90)以在驱动辊(81)对膜(F)进行收卷时、驱动辊(81)于规定的时机反复进行旋转驱动和驱动停止的方式控制辊驱动部(82)。
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公开(公告)号：CN111624852A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010117100.8
申请日：2020-02-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 植松照博
Abstract: 本发明提供对用于玻璃基板的蚀刻的蚀刻剂具有足够的耐性且能够形成由有机溶剂类的剥离液可进行剥离的蚀刻掩模的感光树脂组合物、与包括使用该感光性树脂组合物形成蚀刻掩模的玻璃基板的蚀刻方法。在对玻璃基板进行蚀刻时的蚀刻掩模的形成中使用的感光性树脂组合物包含：具有酸解离性溶解抑制基团且因酸的作用使碱可溶性增大树脂成分(A)、通过放射线的照射而产生酸的产酸剂(B)、填料(C)与增塑剂(D)，或者包含具有酚羟基的树脂成分(A1)、通过与酚羟基反应而赋予酸解离性溶解抑制基团的保护剂(A2)、产酸剂(B)、填料(C)与增塑剂(D)。
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公开(公告)号：CN105579907B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201480052348.3
申请日：2014-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供灵敏度、保存稳定性、涂布性、显影性及安全性优异、并且能够利用曝光及显影形成使异物的产生受到抑制的图案的感放射线性组合物及使用该感放射线性组合物的图案制造方法。本发明的感放射线性组合物含有下述通式(1)所示的化合物。式中，R1表示氢原子或羟基，R2及R3独立地表示氢原子或C1～C3的烷基，R4及R5独立地表示C1～C3的烷基。
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公开(公告)号：CN104909581B
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201510102402.7
申请日：2015-03-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 植松照博
Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的前处理方法，在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模后，进行蚀刻加工、和蚀刻掩模的剥离的情况下，可以在玻璃基板整个表面，几乎不残留剥离残渣地迅速地使蚀刻掩模剥离，并提供在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模方法、和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，对该玻璃基板，分别实施规定的亲液化处理、碱金属除去处理、和疏水化处理。
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