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公开(公告)号：CN102254789B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110083255.5
申请日：2011-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H01L21/02057 , C09D9/005 , C11D7/5027 , H01L21/6835 , H01L2221/68327 , H01L2221/68381 , Y10T156/1111 , Y10T156/1116 , Y10T156/19
Abstract: 本发明提供一种在短时间内容易地从基板上剥离支承板的剥离方法，其为将利用粘接剂粘贴于设有在厚度方向贯通的贯通孔的支承板的基板从该支承板剥离的方法，其中，包括有经由贯通孔使剥离液与粘接剂接触来溶解粘接剂的工序，粘接剂为以烃树脂为粘着成分的粘接剂，剥离液为粘度为1.3mPa·s以下、且对粘接剂的溶解速度为30nm/sec以上的烃系溶剂。
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公开(公告)号：CN1720485A
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN200380104698.1
申请日：2003-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G77/14 , H01L21/027
Abstract: 一种用于形成抗反射涂层的组合物，特征在于其包含有机溶剂并,在其中溶解下列物质：(A)由(a1)10－90摩尔％(羟基苯基烷基)倍半硅氧烷单元、(a2)0－50摩尔％(烷氧基苯基烷基)倍半硅氧烷单元和(a3)10－90摩尔％烷基或苯基倍半硅氧烷单元组成的梯形硅酮共聚物，(B)暴露于热或光下可产生酸的产酸剂，和(C)交联剂，而且该组合物能够形成对ArF激光的光学参数(k值)为0.002－0.95的抗反射涂层。该组合物可溶于有机溶剂，能够通过常规的旋涂法容易地进行涂覆，具有良好的储存稳定性，且可以向其中通过引入吸收辐射线的发色团来表现出对反射的调节预防能力。
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公开(公告)号：CN1677235A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510062432.6
申请日：2005-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供掩模线性优异的正型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物为含有基础树脂组分(A)、通过曝光产生酸的酸发生剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物，所述基础树脂组分(A)是硅树脂，所述酸发生剂组分(B)含有以碳数3或4的全氟烷基磺酸根离子为阴离子的鎓盐类酸发生剂(B1)。
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公开(公告)号：CN102254789A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110083255.5
申请日：2011-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H01L21/02057 , C09D9/005 , C11D7/5027 , H01L21/6835 , H01L2221/68327 , H01L2221/68381 , Y10T156/1111 , Y10T156/1116 , Y10T156/19
Abstract: 本发明提供一种在短时间内容易地从基板上剥离支承板的剥离方法，其为将利用粘接剂粘贴于设有在厚度方向贯通的贯通孔的支承板的基板从该支承板剥离的方法，其中，包括有经由贯通孔使剥离液与粘接剂接触来溶解粘接剂的工序，粘接剂为以烃树脂为粘着成分的粘接剂，剥离液为粘度为1.3mPa·s以下、且对粘接剂的溶解速度为30nm/sec以上的烃系溶剂。
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公开(公告)号：CN1782872A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510120497.1
申请日：2003-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种用于形成抗反射涂层的组合物，特征在于其包含有机溶剂并，在其中溶解下列物质：(A)由(a1)10－90摩尔％(羟基苯基烷基)倍半硅氧烷单元、(a2)0－50摩尔％(烷氧基苯基烷基)倍半硅氧烷单元和(a3)10－90摩尔％烷基或苯基倍半硅氧烷单元组成的梯形硅酮共聚物，(B)暴露于热或光下可产生酸的产酸剂，和(C)交联剂，而且该组合物能够形成对ArF激光的光学参数(k值)为0.002－0.95的抗反射涂层。该组合物可溶于有机溶剂，能够通过常规的旋涂法容易地进行涂覆，具有良好的储存稳定性，且可以向其中通过引入吸收辐射线的发色团来表现出对反射的调节预防能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111205648B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN201911145041.9
申请日：2019-11-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物、微透镜及光学元件。本发明的课题在于提供能形成耐溶剂性良好、折射率高且透明的固化物的固化性组合物、该固化性组合物的固化物、由该组合物的固化物形成的微透镜、和具备前述的固化物或微透镜的光学元件。本发明使用下述固化性组合物，其包含：具有键合于硅原子、锗原子或锡原子的交联性基团的含硫聚合物(A)、和具有能与含硫聚合物(A)所具有的交联性基团交联的基团的多官能交联剂(B)。
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公开(公告)号：CN1677234A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510062425.6
申请日：2005-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0048 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10S430/12
Abstract: 本发明提供一种能够形成具有出色形状的抗蚀图形的正型抗蚀剂组合物。该组成物是把基础树脂成分(A)和因曝光而产生酸的产酸剂成分(B)溶解到有机溶剂而成的正型抗蚀剂组合物，所述基础树脂成分(A)是硅酮树脂，所述有机溶剂含有丙二醇单甲基醚(x1)和沸点高于该丙二醇单甲基醚的溶剂(S2)。
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公开(公告)号：CN107230613A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710183294.X
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L23/14 , C09D163/00 , C09D163/02 , C09D183/06 , C09D133/14 , C09D5/08 , C09D7/12
CPC classification number: H01L21/2007 , C09D5/08 , C09D133/14 , C09D163/00 , C09D183/06 , H01L23/145
Abstract: 本发明提供一种可通过涂布而顺利地形成耐化学药品性高的分离层的新型分离层形成用组合物。所述分离层形成用组合物用于形成层合体中的分离层，所述层合体是介由粘接层和通过照射光而改性的所述分离层、将基板和透光的支撑体进行层合而形成的，所述分离层形成用组合物含有聚合性树脂成分及聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN100582940C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200380104698.1
申请日：2003-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G77/14 , H01L21/027
Abstract: 一种用于形成抗反射涂层的组合物，特征在于其包含有机溶剂并，在其中溶解下列物质：(A)由(a1)10-90摩尔%(羟基苯基烷基)倍半硅氧烷单元、(a2)0-50摩尔%(烷氧基苯基烷基)倍半硅氧烷单元和(a3)10-90摩尔%烷基或苯基倍半硅氧烷单元组成的梯形硅酮共聚物，(B)暴露于热或光下可产生酸的产酸剂，和(C)交联剂，而且该组合物能够形成对ArF激光的光学参数(k值)为0.002-0.95的抗反射涂层。该组合物可溶于有机溶剂，能够通过常规的旋涂法容易地进行涂覆，具有良好的储存稳定性，且可以向其中通过引入吸收辐射线的发色团来表现出对反射的调节预防能力。
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