Patent search ap:("上海精测半导体技术有限公司") AND inv:"朱敏" Page 1

1.

发明公开
获取膜厚光学量测设备系统参数的最优值的方法、膜厚光学量测设备稳定性监控方法及膜厚测量方法审中-实审

公开(公告)号：CN117781902A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202410021055.4

申请日：2024-01-08

Applicant: 上海精测半导体技术有限公司

Inventor： 金秀龙 , 翟冬梅 , 张云 , 朱敏 , 杜航

IPC: G01B11/06 , H01L21/66

Abstract: 本发明提供了获取膜厚光学量测设备系统参数的最优值的方法、稳定性监控方法及膜厚测量方法，包括：获取表面覆盖介质膜的标准晶片，介质膜的厚度为参考膜厚；在标准晶片的表面设置至少一个目标量测区域，目标量测区域包括由若干量测点位组成的区域点阵；对每个目标量测区域设定对应的系统参数初值，对目标量测区域内的各个量测点位在相应的系统参数初值的条件下分别进行膜厚测量，并计算得到系统参数初值对应的膜厚均值和膜厚标准差；基于膜厚均值和膜厚标准差，获取系统参数的参考值；基于系统参数的参考值获取膜厚量测设备系统参数的最优值。本发明有效的解决了常规办法对量测机台即量测设备进行监控对固定点位多次测量时产生的热积累问题。

Patent Agency Ranking