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公开(公告)号：CN112578639A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201910935175.4
申请日：2019-09-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种限位机构、掩模台及光刻机，运动部件设置于掩模台框架上并能够相对所述掩模台框架移动，限位机构设置于所述掩模台框架的掩模交接位上，所述限位机构的位置检测模块用于检测所述运动部件是否移动至所述掩模交接位时，所述限位机构的限位模块在所述运动部件到位时伸出以对所述运动部件进行限位，从而实现了进行掩模板交接时对所述运动部件进行限位的功能，保证了掩模板交接时的安全性。
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公开(公告)号：CN112415856A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201910785428.4
申请日：2019-08-23
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种柔性吸附装置及光刻设备，包括移动模块及设置于移动模块相对的两端的两个柔性支撑件，所述柔性支撑件内设置有一真空吸附腔，以实现对被吸附件的真空吸附，所述柔性支撑件的刚度小于所述被吸附件的刚度，以使吸附所述被吸附件时，形变发生在所述柔性支撑件上，使得所述被吸附件的形变量和扭曲度更小，并且，所述柔性支撑件与所述移动模块之间具有一阻尼气膜，能够抑制所述被吸附件的垂向高频振动，且振动越强，抑制效果越好。
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公开(公告)号：CN112415856B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201910785428.4
申请日：2019-08-23
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种柔性吸附装置及光刻设备，包括移动模块及设置于移动模块相对的两端的两个柔性支撑件，所述柔性支撑件内设置有一真空吸附腔，以实现对被吸附件的真空吸附，所述柔性支撑件的刚度小于所述被吸附件的刚度，以使吸附所述被吸附件时，形变发生在所述柔性支撑件上，使得所述被吸附件的形变量和扭曲度更小，并且，所述柔性支撑件与所述移动模块之间具有一阻尼气膜，能够抑制所述被吸附件的垂向高频振动，且振动越强，抑制效果越好。
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公开(公告)号：CN112578639B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN201910935175.4
申请日：2019-09-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种限位机构、掩模台及光刻机，运动部件设置于掩模台框架上并能够相对所述掩模台框架移动，限位机构设置于所述掩模台框架的掩模交接位上，所述限位机构的位置检测模块用于检测所述运动部件是否移动至所述掩模交接位时，所述限位机构的限位模块在所述运动部件到位时伸出以对所述运动部件进行限位，从而实现了进行掩模板交接时对所述运动部件进行限位的功能，保证了掩模板交接时的安全性。
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公开(公告)号：CN210436637U
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201920973962.3
申请日：2019-06-26
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种薄膜贴合装置，用于控制薄膜与基体之间的胶层厚度，包括：基体固定模块，用于吸附所述基体；薄膜固定模块，可拆卸的设置于所述基体固定模块上方，用于吸附所述薄膜，所述基体与所述薄膜相对设置；若干调节模块，用于调节所述基体固定模块与所述薄膜固定模块之间的垂向距离以控制所述基体与所述薄膜之间的距离。本实用新型能够对薄膜与基体之间的胶层厚度进行控制和精确调节，从而有效保证薄膜与基体之间的胶层厚度。
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