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公开(公告)号:CN118146222A
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202410124598.9
申请日:2024-01-30
Applicant: 上海大学
IPC: C07D471/06 , G02B5/22 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种离子型萘二酰亚胺衍生物及其制备方法、光敏树脂组合物及其应用,所述衍生物中,R1至R6各自独立地选自氢、含有正离子的基团中的一种,所述基团选自取代或未取代的稠合杂环基、单环芳族杂环基、多环芳族杂环基中的一种;所述方法包括:2,6‑二卤代萘‑1,4,5,8‑四甲酸二酐的合成;第一中间体的合成;第二中间体的合成;萘二酰亚胺衍生物的合成;所述组合物包括萘二酰亚胺衍生物、溶剂、多官能基单体、碱可溶性树脂、光引发剂和添加剂,所述组合物应用于显示装置和传感装置的滤光片中。与现有技术相比,本发明具有良好的光热化学稳定性。
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公开(公告)号:CN117586195A
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN202311539306.X
申请日:2023-11-17
Applicant: 上海大学
IPC: C07D241/38 , C07D403/04 , C07D403/10 , C07D413/10 , C07D417/10 , C07D401/14 , C07D403/14 , C07F5/02 , C07D487/06 , C09K11/06 , H10K85/60 , H10K50/12
Abstract: 本发明涉及光电技术领域,尤其是涉及有机发光材料、有机电致发光器件及其制备。本发明的基于醋菲烯衍生物的有机发光材料及其有机发光器件,这类材料通过苯环稠合,保证激发态具有较高的振子强度,利于辐射跃迁,并且其刚性稠环结构可以有效抑制分子内的振动,有助于抑制激发态的非辐射跃迁行为并获得高的光致发光效率,另外这类分子可以形成分子间电荷转移聚集体进而减少电子的非绝热耦合从而实现低的非辐射跃迁速率,进一步提高光致发光效率,还可以稳定激发态能量,能够进一步应用于有机电致发光器件中,实现高电致发光效率。
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公开(公告)号:CN120048365A
公开(公告)日:2025-05-27
申请号:CN202311579300.5
申请日:2023-11-24
Applicant: 上海大学
IPC: G16C10/00 , G06F30/20 , G06F119/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明提供一种利用分子模拟快速筛选光刻胶的方法,包括:绘制待筛选的光刻胶的分子结构;根据分子结构,利用量子化学方法得到优化的分子结构和电荷分布;基于优化的分子结构,构建光刻胶力场参数结构文件,并将电荷分布代入力场参数结构文件;基于力场参数结构文件,构建分子动力学模型;根据分子动力学模型进行分子动力学计算,得到杨氏模量、光刻胶和显影液的接触角,以及显影液的表面张力三个参数;将三个参数代入二维弹性梁弯曲模型中,得到关于光刻胶图案线条的宽度、光刻胶图案高度和光刻胶图案间隔参数的三维曲面图,确定光刻胶的图案空间尺寸的图案化能力。本发明可以在不进行实验的情况下快速完成对光刻胶的初步定量筛选。
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公开(公告)号:CN117510346A
公开(公告)日:2024-02-06
申请号:CN202311492172.0
申请日:2023-11-10
Applicant: 上海大学
IPC: C07C211/61 , C07C255/58 , C07D209/86 , C07D265/38 , C07D279/22 , C09K11/06 , H10K85/60 , H10K50/11
Abstract: 本发明属于光电技术领域,具体涉及一种苊并荧蒽衍生物及其制备方法和应用,该衍生物的通式如式(Ⅰ)所示:式(Ⅰ)中,X1~X14包括至少一个电子给体基团和至少一个电子受体基团。与现有技术相比,本发明解决现有技术中有机TADF材料存在的发光效率和稳定性不足的问题。本发明提供一类新型的基于苊并荧蒽结构的衍生物,这类材料具有稠环π共轭母核结构,使其具有较高的化学键键能,因此可以实现良好的光化学与光物理稳定性,并且其刚性稠环结构与非键电子结构可以有效抑制分子内的振动,有助于抑制激发态的非辐射跃迁行为并获得高光致发光效率,在应用于电致发光器件中实现高电致发光效率。
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公开(公告)号:CN117209388A
公开(公告)日:2023-12-12
申请号:CN202211675502.5
申请日:2022-12-26
Applicant: 上海大学
IPC: C07C225/32 , G02B5/22 , G02B1/04 , G03F7/027 , G03F7/004 , C07D209/86 , C07D209/88 , C07C311/39 , C09B57/00
Abstract: 本发明属于染料化合物技术领域,提供了一种具有通式(Ⅰ)的化合物:其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8各自独立地表示氢原子或取代基;所述取代基为芳胺基及其衍生物。本发明提供的化合物,用于染料、着色剂、着色固化性树脂组合物、滤光片,以及图像传感器、液晶显示器等显示装置。本发明采用菲醌这类闭环稠环π共轭母核结构,其闭环与π共轭特性可以使分子骨架具有高化学键能,因此菲醌衍生物具有良好的光化学稳定性。本发明克服了传统染料光物理特性与热稳定性不稳定的问题,以及其在彩色光刻胶体系中溶解性、相容性不好的问题。
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公开(公告)号:CN116675713A
公开(公告)日:2023-09-01
申请号:CN202310543861.3
申请日:2023-05-15
Applicant: 上海大学
IPC: C07F7/22 , C07D333/46 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C17/00 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种含锡的可聚合光致产酸剂,所述含锡的可聚合光致产酸剂的通式如下:其中,R1为氢或者甲基,R2为烷基、氟代烷基、含氧烷基、苯基或氟代苯基,X+为锍阳离子或碘鎓阳离子。本发明在光致产酸剂中引入高极紫外吸收元素Sn,达到提高光刻胶灵敏度的目的。
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公开(公告)号:CN118471351A
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202310090724.9
申请日:2023-02-09
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及柔性显示制作领域,公开了一种基于机器学习的柔性显示用PI结构设计方法、设备及存储介质,其中,在基于机器学习的柔性显示用PI结构设计方法中通过文献专利数据分析生成PI材料的PI结构数据,以及运用机器学习算法分析PI结构数据的关键特征,生成对应的PI结构性能模型,并设计可达到预期效果的备选PI结构,利用PI结构性能模型对备选PI结构进行性能筛选,以获得适合用作柔性显示的PI结构分子,提高对柔性显示用PI新材料研发的速度。
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公开(公告)号:CN117800967A
公开(公告)日:2024-04-02
申请号:CN202311809629.6
申请日:2023-12-26
Applicant: 上海大学
IPC: C07D471/06 , G03F7/027 , G02B5/20 , G02B1/00 , G02F1/1335 , C09B5/62
Abstract: 本发明涉及一种苝二酰亚胺衍生物及其应用,该苝二酰亚胺衍生物的化学结构通式如下:#imgabs0#本发明改善了传统苝二酰亚胺染料的光学性质,提高了染料分子色纯度;解决了热稳定性、耐溶剂性不符合工业生产要求、以及其在彩色光刻胶体系中溶解性、相容性不好的问题,并筛选出性能较好的苝二酰亚胺化合物,作为染料应用于液晶显示器、图像传感器等显示与传感装置滤光片中。
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公开(公告)号:CN117756803A
公开(公告)日:2024-03-26
申请号:CN202311779129.2
申请日:2023-12-22
Applicant: 上海大学
IPC: C07D471/06 , C09B57/08 , G02B5/22 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及一种萘二酰亚胺衍生物、染料及其应用,该萘二酰亚胺衍生物具有以下通式(I):#imgabs0#其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6各自独立地表示氢原子或取代基。本发明的光敏树脂组合物包括以下组分及重量份含量:萘二酰亚胺衍生物90‑110份,溶剂230‑270份,多官能基单体90‑110份,碱可溶性树脂90‑110份,光引发剂4‑6份,其他添加剂0.4‑0.6份。与现有技术相比,本发明采用了具有高化学键能的闭环稠环π共轭萘二酰亚胺作为母核结构,因此保证了染料的光化学稳定性。同时,通过在外围修饰分子链段可以抑制发色团之间的聚集从而提高其热稳定性和在溶剂中的溶解性以及与彩色光刻胶其他组分的相容性。
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公开(公告)号:CN117003698A
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202310988871.8
申请日:2023-08-08
Applicant: 上海大学
IPC: C07D221/14 , G03F7/004 , G03F7/038 , C07D209/48
Abstract: 本发明涉及一种可聚合磺酸肟酯类光致产酸剂和光刻胶树脂及其制备方法,该方法包括:将溴化物Ⅰ和第一碱分散于第一溶剂中,加入R4H发生第一取代反应,加入羟胺发生脱水缩合反应,加入酸调节pH,过滤得到中间体Ⅱ;将中间体Ⅱ、第二碱和第二溶剂混合冷却,加入含R1‑R2的磺酰氯类化合物发生第二取代反应,得到光致产酸剂单体Ⅲ。与现有技术相比,本发明可以有效改善光致产酸剂分布不均匀和后烘过程中酸迁移的问题,实现了光致产酸剂在光刻胶膜中的均匀分布。
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