一种利用分子模拟快速筛选光刻胶的方法

    公开(公告)号:CN120048365A

    公开(公告)日:2025-05-27

    申请号:CN202311579300.5

    申请日:2023-11-24

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明提供一种利用分子模拟快速筛选光刻胶的方法,包括:绘制待筛选的光刻胶的分子结构;根据分子结构,利用量子化学方法得到优化的分子结构和电荷分布;基于优化的分子结构,构建光刻胶力场参数结构文件,并将电荷分布代入力场参数结构文件;基于力场参数结构文件,构建分子动力学模型;根据分子动力学模型进行分子动力学计算,得到杨氏模量、光刻胶和显影液的接触角,以及显影液的表面张力三个参数;将三个参数代入二维弹性梁弯曲模型中,得到关于光刻胶图案线条的宽度、光刻胶图案高度和光刻胶图案间隔参数的三维曲面图,确定光刻胶的图案空间尺寸的图案化能力。本发明可以在不进行实验的情况下快速完成对光刻胶的初步定量筛选。

Patent Agency Ranking