校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN112797923B

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202110005840.7

    申请日:2021-01-05

    Abstract: 本发明提供了一种校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质。所需数据包括粒子衍射得到的晶体的实验衍射花样,以及所述晶体所对应的标准图案;校正方法是将所述标准图案与所述实验衍射花样配准,配准过程中通过目标函数来表征所述标准图案与所述实验衍射花样的差别,以欧拉角和图案中心的坐标为所寻求的参数,最小化所述目标函数以至收敛,得到校正后的图案中心和欧拉角。图案中心可根据几何关系做降噪处理,例如平面拟合、均匀格点拟合,随后进行第二次配准以进一步提高校正精度。本发明实现简单,处理单张实验衍射花样耗时在秒级,精度比现有软件高3‑5倍以上,在处理高分辨率图片时角分辨率可达0.005°,且可方便的应用于多种衍射实验领域。

    校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN112213339A

    公开(公告)日:2021-01-12

    申请号:CN202011064748.X

    申请日:2020-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质。所需数据包括粒子衍射得到的晶体的实验衍射花样,以及所述晶体所对应的标准图案;校正方法是将所述标准图案与所述实验衍射花样配准,配准过程中通过目标函数来表征所述标准图案与所述实验衍射花样的差别,以欧拉角和图案中心的坐标为所寻求的参数,最小化所述目标函数以至收敛,得到校正后的图案中心和欧拉角。本发明实现简单,鲁棒性高,计算速度快,处理单张实验衍射花样耗时在秒级,精度比现有软件高3‑5倍,且可方便的应用于多种衍射实验领域。

    校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN112213339B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202011064748.X

    申请日:2020-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质。所需数据包括粒子衍射得到的晶体的实验衍射花样,以及所述晶体所对应的标准图案;校正方法是将所述标准图案与所述实验衍射花样配准,配准过程中通过目标函数来表征所述标准图案与所述实验衍射花样的差别,以欧拉角和图案中心的坐标为所寻求的参数,最小化所述目标函数以至收敛,得到校正后的图案中心和欧拉角。本发明实现简单,鲁棒性高,计算速度快,处理单张实验衍射花样耗时在秒级,精度比现有软件高3‑5倍,且可方便的应用于多种衍射实验领域。

    校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN112797923A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202110005840.7

    申请日:2021-01-05

    Abstract: 本发明提供了一种校正粒子衍射图像图案中心和欧拉角的方法、系统及介质。所需数据包括粒子衍射得到的晶体的实验衍射花样,以及所述晶体所对应的标准图案;校正方法是将所述标准图案与所述实验衍射花样配准,配准过程中通过目标函数来表征所述标准图案与所述实验衍射花样的差别,以欧拉角和图案中心的坐标为所寻求的参数,最小化所述目标函数以至收敛,得到校正后的图案中心和欧拉角。图案中心可根据几何关系做降噪处理,例如平面拟合、均匀格点拟合,随后进行第二次配准以进一步提高校正精度。本发明实现简单,处理单张实验衍射花样耗时在秒级,精度比现有软件高3‑5倍以上,在处理高分辨率图片时角分辨率可达0.005°,且可方便的应用于多种衍射实验领域。

    修正粒子衍射技术投影成像误差的方法及系统

    公开(公告)号:CN118376637A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410428759.3

    申请日:2024-04-10

    Abstract: 本发明提供了一种修正粒子衍射技术投影成像误差的方法及系统,包括:步骤S1:定义包含晶向角或图案中心坐标的投影参数P,以有投影成像误差的实验衍射花样为配准目标构建目标函数,修正投影参数P直至目标函数收敛,获得校正后的投影参数P和无投影误差的模拟图案;步骤S2:定义投影误差参数d,以无投影成像误差的模拟衍射花样为配准目标构建目标函数,修正投影误差参数d直至目标函数收敛,获得校正后的投影误差参数d;步骤S3:利用校正后的投影误差参数d表征每一个实验图案在(x,y)方向的投影畸变位移,通过投影畸变位移纠正实验衍射图案中的畸变。本发明在晶体材料微观结构表征领域具有广泛的应用前景。

    一种处理Laue衍射图片的方法及系统

    公开(公告)号:CN112730486A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202110077129.2

    申请日:2021-01-20

    Abstract: 本发明提供了一种处理Laue衍射图片的方法及系统,包括:步骤M1:基于Laue实验测得衍射观测图案;步骤M2:对衍射观测图案进行预处理,得到预处理后的衍射观测图案;步骤M3:基于预设弹性变形梯度张量采用全局集成数字图像相干技术配准衍射参考图案和预处理后的衍射观测图案,得到配准后的被衍射区域的弹性变形梯度张量;步骤M4:基于得到的配准后被衍射区域的弹性变形梯度张量,得到衍射样品中的弹性应力;本发明通过将全局集成数字图像相干技术和Laue衍射实验相结合,提升了Laue衍射实验测量局部应变和应力的精度。

    测量单晶晶向的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN116930226A

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202210343742.9

    申请日:2022-04-02

    Abstract: 本发明提供一种测量单晶晶向的方法、系统及介质,涉及晶体学凝聚态物理和粒子衍射技术领域,包括:步骤S1:扫描单晶样品,录得一部分衍射图案,依据布拉格衍射条件计算标准衍射图案,配准两类衍射图案以得到各个实验衍射图案对应的晶向角、图案中心坐标值;步骤S2:根据几何关系对图案中心坐标值做拟合计算,得到样品表面相对于衍射探测器的位置;步骤S3:应用拟合所得的样品表面的位置来计算单晶样品的实际晶向角。本发明能够纠正实验操作误差、精确测量单晶晶向。

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