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公开(公告)号：CN1035141C
公开(公告)日：1997-06-11
申请号：CN93120817.3
申请日：1993-12-10
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L28/86 , H01L21/26533 , H01L28/87 , H01L28/88
Abstract: 一种半导体存储器的制造方法，其中，提供具有双翅状结构的一种电容器。在由导电层组成的两翅片之间、通过施加能够被湿法腐蚀的厚层平面材料形成存储电极。因此，能够解决由常规结构中的不良台阶差所引起的光刻工艺问题。另外，采用腐蚀速率较大的薄的高温氧化膜形成存储电极。于是改善了单元的构形和减少了存储电极的损坏。
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公开(公告)号：CN1151550C
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN00122482.4
申请日：2000-08-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/768 , H01L21/31 , H01L21/283
CPC classification number: H01L27/10855 , H01L21/76831 , H01L21/76897 , H01L27/10885
Abstract: 一种在集成电路器件中形成自对准结构的方法，包括以下步骤：在衬底上形成多个互连图形；用帽盖绝缘层覆盖互连图形的表面和衬底的表面；在帽盖绝缘层上形成上部层间绝缘层填充互连图形之间的间隙区域；依次地构图上部层间绝缘层和帽盖绝缘层在互连图形之间形成第一接触孔；以及通过选择性湿腐蚀上部层间绝缘层，拓宽第一接触孔形成第二接触孔，露出互连图形侧壁上的帽盖绝缘层。此方法提高了工艺的可靠性。
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公开(公告)号：CN1319886A
公开(公告)日：2001-10-31
申请号：CN00122482.4
申请日：2000-08-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/768 , H01L21/31 , H01L21/283
CPC classification number: H01L27/10855 , H01L21/76831 , H01L21/76897 , H01L27/10885
Abstract: 一种在集成电路器件中形成自对准结构的方法,包括以下步骤:在衬底上形成多个互连图形;用帽盖绝缘层覆盖互连图形的表面和衬底的表面;在帽盖绝缘层上形成上部层间绝缘层填充互连图形之间的间隙区域;依次地构图上部层间绝缘层和帽盖绝缘层在互连图形之间形成第一接触孔;以及通过选择性湿腐蚀上部层间绝缘层,拓宽第一接触孔形成第二接触孔,露出互连图形侧壁上的帽盖绝缘层。此方法提高了工艺的可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101211138A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200710142686.8
申请日：2007-08-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03G15/0194 , G03G15/0173 , G03G2215/0132 , G03G2215/0141 , G03G2215/0187
Abstract: 本发明公开了具有透明调色剂和白色调色剂的电子照相成像设备，包括：第一和第二感光体；第一和第二曝光单元，分别在充电至均匀电势的第一和第二感光体上形成静电潜像；第一显影单元，通过提供彩色调色剂到第一感光体的静电潜像上而显影第一感光体的静电潜像；以及第二显影单元，其包含充电至不同极性的透明调色剂和白色调色剂，其通过分别向第二感光体的静电潜像的图像部分和无图像部分供应透明调色剂和白色调色剂来显影透明调色剂图像和白色调色剂图像。
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公开(公告)号：CN101277357A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810092070.9
申请日：2008-02-14
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H04N1/00405 , H04N1/00488 , H04N2201/0094
Abstract: 一种成像设备的成像方法，包括：如果输入了附加语音信号，则基于将要发送的图像数据产生语音数据；并且将所述图像数据和语音数据中的至少一个发送到外部装置，以使得当接收和发送所述图像数据时，视觉减弱人士能够识别所述图像数据。
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公开(公告)号：CN101211138B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200710142686.8
申请日：2007-08-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03G15/0194 , G03G15/0173 , G03G2215/0132 , G03G2215/0141 , G03G2215/0187
Abstract: 本发明公开了具有透明调色剂和白色调色剂的电子照相成像设备，包括：第一和第二感光体；第一和第二曝光单元，分别在充电至均匀电势的第一和第二感光体上形成静电潜像；第一显影单元，通过提供彩色调色剂到第一感光体的静电潜像上而显影第一感光体的静电潜像；以及第二显影单元，其包含充电至不同极性的透明调色剂和白色调色剂，其通过分别向第二感光体的静电潜像的图像部分和无图像部分供应透明调色剂和白色调色剂来显影透明调色剂图像和白色调色剂图像。
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公开(公告)号：CN101211130A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200710153193.4
申请日：2007-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03G15/0121 , G03G15/6585 , G03G2215/00578 , G03G2215/0081 , G03G2215/0132
Abstract: 本发明公开一种用于形成电子照相图像的打印方法，包括：施加透明调色剂图像到打印介质的表面上，根据图像信息施加彩色调色剂图像到该透明调色剂图像上，以及施加另一透明调色剂图像到该彩色调色剂图像上。
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公开(公告)号：CN1090090A
公开(公告)日：1994-07-27
申请号：CN93120817.3
申请日：1993-12-10
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L28/86 , H01L21/26533 , H01L28/87 , H01L28/88
Abstract: 一种半导体存储器的制造方法，其中，提供具有双翅状结构的一种电容器。在由导电层组成的两翅片之间，通过施加能够被湿法腐蚀的厚层平面材料形成存储电极。因此，能够解决由常规结构中的不良台阶差所引起的光刻工艺问题。另外，采用腐蚀速率较大的薄的高温氧化膜形成存储电极。于是改善了单元的构形和减少了存储电极的损坏。
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