公开(公告)号：CN103917499B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201280050824.9

申请日：2012-10-09

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  C03B33/023

CPC classification number: C03C15/00

Abstract: 本发明提供一种可以在单片方式的化学研磨装置中将1片薄片状的玻璃基材分割为多个玻璃基板的玻璃基板的制造方法。本发明是适用于以对连续地搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置的玻璃基板的制造方法。化学研磨装置至少具备搬送部及研磨处理部。在该化学研磨装置中，通过分别调整从上侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量、和从下侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量，而使形成于第一主面的分区槽及形成于第二主面的分区槽在从玻璃基材的厚度方向的中心偏离规定量的位置贯通。

公开(公告)号：CN103459342B

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201280017721.2

申请日：2012-02-08

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  C03C15/02 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C15/02

Abstract: 本发明的课题在于，提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的化学研磨装置。其解决手段为，本发明的化学研磨装置具有：输送通路，其沿水平方向输送玻璃基板（GL）；研磨处理部（16）、（22），其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化；洗涤处理部（24），其对经过研磨处理部（22）而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤，其中，在向研磨处理部（16）导入玻璃基板的导入部设置有：旋转滚轮（43），其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转；喷射部（NZ1）、（NZ2），其从研磨处理部（16）的外侧向旋转滚轮（43）喷射水。

公开(公告)号：CN103189931A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201180051309.8

申请日：2011-10-27

Applicant: 信越聚合物株式会社 ,  株式会社NSC

Inventor： 谷口敦 ,  吉田一义 ,  藤木弘直 ,  西山荣 ,  竹内一马 ,  羽鸟宏隆

IPC: H01B5/14 ,  G02F1/1333 ,  H01B13/00

CPC classification number: G02F1/133305 ,  G02F2202/022 ,  G02F2202/09

Abstract: 本发明提供一种柔性的透明导电玻璃基板，该透明导电玻璃基板具有与塑料基板同样的柔软性，并且能够实现对于塑料基板所不具备的硬度和透明度且具有能够承受在曲面上使用的密合性。本发明制造具有如下特征的透明导电玻璃基板：在薄玻璃基板上的至少一个面上具有导电性聚合物层，表面电阻为1.8GΩ／□以下，总光线透过率为85%以上，表面铅笔硬度H以上、在R25mm的弯曲下不破损。另外，形成导电性聚合物层的导电性聚合物涂料含有导电性聚合物以及聚阴离子，进一步含有选自含有粘合剂、固化剂、高导电化剂、界面活性剂、催化剂以及接合性提高剂的组中1种或2种以上。

公开(公告)号：CN112105984A

公开(公告)日：2020-12-18

申请号：CN201980031999.7

申请日：2019-05-29

Applicant: 株式会社NSC ,  夏普株式会社

Inventor： 茅野真吾 ,  柏原康宏 ,  山内宽之 ,  堂园哲孝 ,  家原惠太 ,  向原聪 ,  镰苅守

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1345 ,  G02F1/1368

Abstract: 本发明所涉及的液晶面板制造方法至少包括：激光照射步骤，通过沿着多块获取用玻璃母材(50)中的与液晶面板的形状对应的形状切割预定线照射激光，从而形成容易被蚀刻的性质的改性线(20)；以及划线槽形成步骤，针对彩色滤光片基板(14)，沿着端子部区域切割预定线形成划线槽。激光照射步骤包括：向不与电极端子部相邻的位置照射激光时的通常动作模式；以及向与电极端子部相邻的位置照射激光时的聚光区域调整模式。在聚光区域调整模式中，调整聚光区域以使聚光区域不到达中间层。

公开(公告)号：CN103608309B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201280029748.3

申请日：2012-06-29

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣 ,  柏原康宏

IPC: C03C15/00 ,  C03B33/02 ,  G02F1/1333 ,  G06F3/041

CPC classification number: G06F3/041 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明提供一种能够从实施了坚固的强化处理的大型的玻璃基材稳定地获取多片玻璃基板的玻璃基板的制造方法。玻璃基板的制造方法包括第一化学研磨步骤及第二化学研磨步骤。在第一化学研磨步骤中，以规定的单面研磨量仅对玻璃基材(10)的第一主面实施化学研磨处理。在第二化学研磨步骤中，对第一主面及第二主面的双方实施化学研磨处理。然后，在第一主面形成的第一分区槽(102)及在第二主面形成的第二分区槽(104)在从玻璃基材(10)的厚度方向的中心线(110)偏离了相当于单面研磨量的偏离量(114)的位置贯通。

公开(公告)号：CN103917499A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201280050824.9

申请日：2012-10-09

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  C03B33/023

CPC classification number: C03C15/00

Abstract: 本发明提供一种可以在单片方式的化学研磨装置中将1片薄片状的玻璃基材分割为多个玻璃基板的玻璃基板的制造方法。本发明是适用于以对连续地搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理的方式构成的化学研磨装置的玻璃基板的制造方法。化学研磨装置至少具备搬送部及研磨处理部。在该化学研磨装置中，通过分别调整从上侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量、和从下侧向玻璃基材喷射的化学研磨液的量，而使形成于第一主面的分区槽及形成于第二主面的分区槽在从玻璃基材的厚度方向的中心偏离规定量的位置贯通。

公开(公告)号：CN102822729A

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN201180015615.6

申请日：2011-01-17

Applicant: 株式会社NSC ,  信越聚合物株式会社

Inventor： 西山荣 ,  吉田一义 ,  作田俊秀

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1343 ,  H01B13/00

CPC classification number: C03C17/32 ,  C03C2204/08 ,  C03C2218/31 ,  C09K13/08 ,  G02F1/1335 ,  G02F2202/022 ,  G02F2202/16 ,  G02F2202/22

Abstract: 本发明提供一种在不使用溅射法的情况下在玻璃基板设置导电膜的显示装置的制造方法。所述制造方法包括：化学研磨工序，使显示装置用玻璃基板表面与浸蚀液接触，由此将玻璃表面的算术平均粗糙度Ra设在0.7nm-70nm的范围；成膜工序，对化学研磨工序后的玻璃表面涂布导电性聚合物，形成400-1200Ω/sq的导电膜；将成膜工序后的玻璃基板的全光线透过率设成板厚0.5mm的玻璃基板的全光线透过率的87％以上。

公开(公告)号：CN115968359A

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN202180053123.X

申请日：2021-06-30

Applicant: 株式会社NSC ,  国立大学法人宇都宫大学

Inventor： 山本裕绍 ,  陶山史朗 ,  佐事郁弥 ,  林笃嗣 ,  柏原康宏 ,  谷口信吾 ,  福成良介 ,  鸨田百荣

IPC: C03C15/00

Abstract: 本发明提供一种廉价且无需增加部件数量而能够使观察者目视确认立体视觉图像的立体显示用玻璃基板以及非接触操作装置。立体显示用玻璃基板(10)构成为通过所照射的光来显现使用两眼视差的立体视觉图像。该立体显示用玻璃基板(10)具备设置有基于要立体显示的像的形状而配置而多个立体显示用微细槽(圆弧状微细槽(102))的立体显示用区域(100)。该立体显示用区域(100)构成为通过使照射到多个立体显示用微细槽的光进行散射、折射以及反射中的至少一种，从而在远离基板面的位置使观察者目视确认立体视觉图像。

公开(公告)号：CN110546109B

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN201880027139.1

申请日：2018-03-22

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 石川直辉 ,  甲斐康司 ,  中世古隆生 ,  中岛孝仁 ,  樱井健一 ,  藤原武史 ,  山崎优

IPC: C02F1/58 ,  B01D53/40 ,  C02F1/60

Abstract: 本发明提供一种废弃物处理系统和废弃物处理方法，该废弃物处理系统不管玻璃基板的蚀刻处理中产生的蚀刻废液的状态如何，都可以简易且抑制成本地实施蚀刻废液的处理。蚀刻废液处理系统(10)以对在进行玻璃基板的蚀刻处理的蚀刻装置中产生的蚀刻废液进行处理的方式构成。该蚀刻废液处理系统(10)至少具备反应槽(15)和作为无害化单元的酸性洗涤器(30)。在反应槽(15)中，一边缓和蚀刻废液的酸性度一边增稠至能够输送的程度，进而进行增稠蚀刻废液的中性污泥化。

公开(公告)号：CN113767075A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202080032093.X

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社NSC ,  松下电器产业株式会社

Inventor： 西川晴香 ,  岛田和哉 ,  永井忠 ,  三好雄三 ,  富家夏树 ,  大小田健太 ,  柏原康宏 ,  齐藤俊介 ,  大山阳照 ,  林笃嗣 ,  福成良介 ,  石垣畅规 ,  元持健 ,  久米贵大

IPC: C03B33/02 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  B23K26/382

Abstract: 本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。