公开(公告)号：CN113767075A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202080032093.X

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社NSC ,  松下电器产业株式会社

Inventor： 西川晴香 ,  岛田和哉 ,  永井忠 ,  三好雄三 ,  富家夏树 ,  大小田健太 ,  柏原康宏 ,  齐藤俊介 ,  大山阳照 ,  林笃嗣 ,  福成良介 ,  石垣畅规 ,  元持健 ,  久米贵大

IPC: C03B33/02 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  B23K26/382

Abstract: 本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。

公开(公告)号：CN113767075B

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202080032093.X

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社NSC ,  松下控股株式会社

Inventor： 西川晴香 ,  岛田和哉 ,  永井忠 ,  三好雄三 ,  富家夏树 ,  大小田健太 ,  柏原康宏 ,  齐藤俊介 ,  大山阳照 ,  林笃嗣 ,  福成良介 ,  石垣畅规 ,  元持健 ,  久米贵大

IPC: C03B33/02 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  B23K26/382

Abstract: 本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。