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公开(公告)号:CN1212266C
公开(公告)日:2005-07-27
申请号:CN01801051.2
申请日:2001-04-26
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C01B33/12 , C09D183/02 , C09D183/08 , H01L21/316 , H01L21/312
CPC classification number: C01B33/124 , B01J20/103 , B01J20/2809 , B82Y30/00 , C01P2002/70 , C01P2004/61 , C01P2004/64 , C01P2006/16 , C01P2006/17 , C01P2006/60 , C01P2006/80 , C01P2006/90 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C09C1/3045 , C09D183/02 , C09D183/08 , H01L21/31695 , Y10T428/264 , Y10T428/265
Abstract: 合成的孔隙均匀的防水性多孔二氧化硅,该二氧化硅包括硅石骨架,其中氟原子通过共价键固定,并且碱金属含量不超过10ppb。用该防水性多孔二氧化硅,防水性多孔二氧化硅膜具有均匀的孔隙,适用于光功能性材料或电子功能性材料,还提供了该物质的制备方法,和它的用途。
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公开(公告)号:CN1637097A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410097089.4
申请日:2003-02-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09D183/04 , H01L21/316
CPC classification number: H01L23/5329 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , Y10T428/31663 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物,含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂,作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂,作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物,具有如下固化性能,在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物,在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
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公开(公告)号:CN1633484A
公开(公告)日:2005-06-29
申请号:CN01818076.0
申请日:2001-07-13
Applicant: 新材料公共服务公司研究所 , 乌萨法药剂两合公司
IPC: C09D183/04 , C09D183/02 , C09D4/00 , C09D183/08 , C08K5/00
CPC classification number: C09D183/08 , C09D4/00 , C09D5/14 , C09D183/02 , C09D183/04 , C08G77/00 , C08L2666/52
Abstract: 具有杀微生物涂层的物品,特别是容器,其至少部分具有包含有机改性的无机基质的涂层,所述无机基质包括银胶体,该物品可以通过将包含a)基于至少一种具有至少一个不可水解取代基的可水解硅烷的水解产物或缩合物及b)银化合物的涂料组合物涂布在物品的表面上,并经过热和/或辐射处理形成银胶体涂层而得到。因此,根据本发明涂布的物品特别适用于消毒,防腐,化妆,药物或医疗目的。药物或医疗部门的物品,尤其是药品容器或者与人体接触并且要求无菌的物品或组件,是优选的应用领域。
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公开(公告)号:CN1555342A
公开(公告)日:2004-12-15
申请号:CN02818135.2
申请日:2002-09-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: C01B37/02 , H01L21/316
CPC classification number: H01L21/02126 , C01B37/02 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/3121 , H01L21/31695
Abstract: 通过在衬底上施加含有烷氧基硅烷、表面活性剂和溶剂的组合物,并且随后除去表面活性剂和溶剂可以获得具有中孔二氧化硅层的电子器件。如果该组合物含有四烷氧基硅烷特别是四乙氧基原硅酸酯(TEOS)和芳基取代的烷氧基硅烷特别是苯基取代的、甲基取代的或者是烷基取代的三烷氧基硅烷的混合物,则不需要传统的去羟基化处理。如果两种硅烷的摩尔比大约为1∶1,则可以获得介电常数为2.5或者更小的层。
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公开(公告)号:CN1125138C
公开(公告)日:2003-10-22
申请号:CN98805450.7
申请日:1998-07-15
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L67/02 , C08L69/00 , C08L71/02 , C08K5/10 , C08K5/20 , C08J5/18 , C08J9/26 , B32B27/00 , C01B33/12 , H01L21/3205 , H01L21/316
CPC classification number: C08J5/18 , C08J2383/02 , C08J2383/04 , C09D183/02 , C09D183/12 , C09D183/14 , H01L21/02126 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/02359 , H01L21/3122 , H01L21/316 , H01L21/31695 , H05K3/4676
Abstract: 一种用于制造绝缘薄膜的烷氧基硅烷/有机聚合物组合物,该组合物含有(A)一种特殊的烷氧基硅烷,(B)一种特殊的有机聚合物,和(C)一种用于所述烷氧基硅烷(A)和所述有机聚合物(B)的溶剂,该溶剂含有一种带有酰胺基和/或酯基的有机溶剂;一种硅石/有机聚合物复合绝缘薄膜,该绝缘薄膜是通过在薄膜中形成所述组合物,将薄膜中的烷氧基硅烷进行水解并脱水缩合使烷氧基硅烷胶凝,并除去残留在薄膜中的溶剂而得到;以及一种通过将所述复合薄膜中的有机聚合物除去而得到的多孔硅石薄膜。这二种薄膜不仅具有低的介电常数并适用于作为半导体元件的多层互连的绝缘层,而且可以通过目前半导体元件制造工艺中的简单适用的方法制备。
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公开(公告)号:CN1230207A
公开(公告)日:1999-09-29
申请号:CN97197799.2
申请日:1997-07-16
Applicant: 东陶机器株式会社
CPC classification number: C09D5/021 , B01J31/0272 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/0219 , C03C17/007 , C03C2217/45 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/71 , C03C2217/75 , C09D1/00 , C09D5/00 , C09D183/02 , C09D183/04 , F21S41/37 , F21V7/22 , C08L2666/54
Abstract: 本发明公开了一种可使部件表面亲水化,并付与表面防雾浊性的组合物。它至少含有(a)金属氧化物构成的光催化粒子,(b)从二氧化硅微粒、可形成硅酮树脂皮膜的硅酮树脂皮膜前躯体,和可形成二氧化硅皮膜的二氧化硅皮膜前躯体中至少选出一种,和(C)溶剂,该组合物中上述光催化粒子和上述二氧化硅微粒或上述前躯体固体成分的总量浓度为0.01-5重量%。通过将用于部件,以干燥或加热极为简便的操作能使部件表面亲水化。形成的亲水性薄膜呈透明状,不损害本来透明部件的透明性和外观。并使应用了它的部件表面附着的水滴立即干燥、难以污染、又易去除附着污染物。
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公开(公告)号:CN1226918A
公开(公告)日:1999-08-25
申请号:CN97196953.1
申请日:1997-06-02
Applicant: 东陶机器株式会社
IPC: C09K3/00 , C09K3/18 , C09D1/00 , C09D5/14 , C09D5/16 , C09D127/12 , C09D183/04 , B05D5/00 , A61L27/00
CPC classification number: C09D183/04 , B08B17/02 , B08B17/06 , B08B17/065 , C09D5/00 , C09D183/02 , F28F19/00 , F28F2245/02 , F28F2245/04 , C08L2666/04 , C08L2666/54
Abstract: 本发明公开了具有难以附着堆集物、污染物等所谓污物的防污性表面的构件。疏水性部分和由光催化剂引起的亲水性部分同时在该构件表面上以微观分散且以暴露的状态存在。更具体地说,按照本发明的第一实施方案,该构件具有包括基体材料,和在该基体材料上设置的含有光催化性氧化物、聚硅氧烷树脂或硅石和憎水性氟树脂的表面层,上述聚硅氧烷或硅石和憎水性氟树脂在该表面层的最外表面以微观分散且以暴露的状态存在。另外,按照本发明的第二实施方案,该部件具有包括基体材料,和在该基体材料上设置的包括疏水性树脂和光催化性氧化物的表面层,上述疏水性树脂和上述光催化性氧化物在该表面层的最外表面以微观分散且以暴露的状态存在,并且,上述光催化性氧化物,通过光激发引起的光催化作用,使该光催化性氧化物本身亲水化,或者,在该光催化性氧化物的附近存在的光催化性氧化物亲水化。这样的疏水性部分和亲水性部分,在表面中相邻连接而存在的,在亲水性部分亲合的亲水性附着物,在相邻连接的憎水性部分不亲合,换句话说,在疏水性部分亲合的疏水性附着物,在相邻连接的亲水性部分也不亲合。因此,在构件表面,亲水性附着物和疏水性附者物均不能附着,而即使附着上,其附着也不稳定,该附着物容易脱离,使构件表面保持清洁的状态。
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公开(公告)号:CN1175971A
公开(公告)日:1998-03-11
申请号:CN96192034.3
申请日:1996-02-16
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C09K3/00 , C09D183/02
CPC classification number: C09D183/02 , C08K5/5415 , C08L83/02 , C09D5/1637 , C09D7/63 , C09D127/12 , C09D133/06 , C09D143/04 , C08L2666/44 , C08L2666/14
Abstract: 提供一种非水性涂料用组合物以及配合于其中的污染附着防止剂,该非水性涂料用组合物由通式(1)所示化合物组成的污染附着防止剂与树脂和固化剂和/或固化催化剂组成,利用该非水性涂料组合物可形成防污染附着性显著优良的涂膜。
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公开(公告)号:CN1168980A
公开(公告)日:1997-12-31
申请号:CN96112786.4
申请日:1996-10-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/111 , C03C17/009 , C09D183/02 , C09D183/14 , G02B1/105 , G02B1/18 , Y10S428/913 , Y10T428/21 , Y10T428/24942 , Y10T428/261 , Y10T428/31504 , Y10T428/31663 , C08L2666/04
Abstract: 本发明提供一种不溶、耐磨、耐候同时具有不起雾特性的抗反射膜。使用该不起雾抗反射膜的不起雾光学元件,以及生产该膜的方法。该不起雾抗反射膜由在一种聚丙烯酸化合物的存在下进行无机醇盐水解产物的缩聚反应衍生的组合物形成。
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