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公开(公告)号:CN105980494A
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201480068285.0
申请日:2014-12-11
IPC: C09D153/00 , B82Y40/00 , G03F1/00
CPC classification number: C09D183/00 , B81C1/00428 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C08G77/00 , C09D153/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明涉及通过嵌段共聚物的自组装允许纳米结构的产生的方法,其中所述嵌段共聚物的至少一个嵌段可以是结晶的或具有至少一个液晶相。
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公开(公告)号:CN102190780B
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:CN201110055372.0
申请日:2011-03-08
Applicant: 株式会社理光
IPC: C08G63/08 , C08G63/64 , C08G63/78 , C08F2/00 , C08F112/08
CPC classification number: C08G63/08 , C08G63/52 , C08G63/823 , C08G77/00 , C08G77/20 , C08G77/26 , Y02P20/544
Abstract: 本发明涉及聚合物颗粒及其制造方法。所述制造方法包括:(A)在压缩流体中在表面活性剂的存在下使用催化剂使能开环聚合的单体聚合和造粒,或(B)在压缩流体中在有机硅表面活性剂的存在下使能加成聚合的单体聚合和造粒。
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公开(公告)号:CN102515228A
公开(公告)日:2012-06-27
申请号:CN201110400016.8
申请日:2008-03-20
Applicant: 氰特技术公司
Inventor: 戴奇 , 唐纳德·保罗·斯皮策 , 霍华德·I·海特纳 , H·L·托尼·陈
CPC classification number: C02F1/56 , B03D3/06 , C01F7/0653 , C02F1/52 , C02F1/545 , C08F216/18 , C08F220/06 , C08F220/56 , C08F222/06 , C08F230/08 , C08G77/00 , C08G77/80
Abstract: 通过将Bayer加工流与含硅聚合物接触减少该流中的悬浮固体含量。
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公开(公告)号:CN102017015A
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN200980114788.6
申请日:2009-04-28
Applicant: 巴斯夫欧洲公司
IPC: H01B3/44 , C08J9/26 , C09D183/06 , H01B3/02
CPC classification number: H01B3/441 , C08G77/00 , C08J9/26 , C08J2383/00
Abstract: 本发明涉及一种具有3.5或更小的介电常数的介电层,其包含可由至少一种双单体聚合得到的电介质,所述至少一种双单体包含:a)包含金属或半金属的第一单体单元,以及b)通过化学键连接至该第一单体单元的第二单体单元,其中所述聚合包括通过使该化学键断裂并形成包含该第一单体单元的第一聚合物及包含该第二单体单元的第二聚合物而使该双单体聚合,且其中该第一单体单元及该第二单体单元通过相同机理聚合。
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公开(公告)号:CN101611043A
公开(公告)日:2009-12-23
申请号:CN200880004682.6
申请日:2008-02-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07F7/18 , C09D5/25 , C09D183/06 , C23C16/42 , H01L21/316
CPC classification number: H01B3/46 , C07F7/1804 , C08G77/50 , C09D4/00 , C23C16/401 , C23C16/56 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02274 , H01L21/31633 , C08G77/00 , C08G77/04
Abstract: 本发明提供一种含硅膜形成用材料,含有通式(1)所示的至少1种有机硅烷化合物。(式中,R1~R6相同或不同,表示氢原子、碳原子数1~4的烷基、乙烯基、苯基、卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基,并且R1~R6中的至少一个是卤原子、羟基、乙酰氧基、苯氧基或烷氧基,n表示0~3的整数。)
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公开(公告)号:CN100473469C
公开(公告)日:2009-04-01
申请号:CN03826421.8
申请日:2003-09-23
Applicant: 德古萨公司
CPC classification number: C23C28/00 , B05D3/0254 , B05D7/14 , B05D7/584 , C09D4/00 , C23C18/1212 , C23C18/1225 , C23C18/1241 , C23C18/1254 , C23C18/1295 , C23C2222/20 , Y10T428/31663 , Y10T428/31678 , C08G77/00 , C08G77/04
Abstract: 本发明涉及一种金属防腐的涂层,包括下列的层序列:(i)金属表面,(ii)基于含硅化合物的溶胶的层,(iii)基于至少一种有机硅烷的层,(iv)如果需要,一种或多种涂层膜。本发明还涉及上述涂层的制备方法及其用途。
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公开(公告)号:CN100349959C
公开(公告)日:2007-11-21
申请号:CN02822644.5
申请日:2002-10-25
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 迈克尔·S·特拉萨斯 , 马克·J·佩尔特 , 鲁道夫·J·达姆斯
IPC: C08G65/336 , C08G77/00 , C09D183/00
CPC classification number: C08G65/336 , C08G65/007 , C09D4/00 , Y10T428/3154 , Y10T428/31663 , C08G77/00
Abstract: 本发明涉及用于将氟化硅烷水输送到基底上的可稀释的非水浓缩物和水稀释物,用水稀释物组合物处理基底从而使其斥油和斥水的方法,及具有由水稀释物制得的涂层的制品。
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公开(公告)号:CN1289618C
公开(公告)日:2006-12-13
申请号:CN02800111.7
申请日:2002-01-10
Applicant: 皇家菲利浦电子有限公司
IPC: C09D183/14 , C09D183/04 , C09D9/00
CPC classification number: C09D4/00 , C09D183/04 , C09D183/14 , C08G77/00 , C08L2666/52 , C08L2666/54
Abstract: 公开了一种制备漆组合物的方法,所述方法包括使有机硅烷化合物和二氧化硅颗粒在碱性条件下混合在一起的步骤。为阻止反应混合物的过早凝胶,在反应混合物中加入烷氧基金属。也公开了通过上述方法得到的漆组合物及将漆涂层施用到基质的方法,并得到经涂敷的基质。
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公开(公告)号:CN1585794A
公开(公告)日:2005-02-23
申请号:CN02822644.5
申请日:2002-10-25
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 迈克尔·S·特拉萨斯 , 马克·J·佩尔特 , 鲁道夫·J·达姆斯
IPC: C08G65/336 , C08G77/00 , C09D183/00
CPC classification number: C08G65/336 , C08G65/007 , C09D4/00 , Y10T428/3154 , Y10T428/31663 , C08G77/00
Abstract: 本发明涉及用于将氟化硅烷水输送到基底上的可稀释的非水浓缩物和水稀释物,用水稀释物组合物处理基底从而使其斥油和斥水的方法,及具有由水稀释物制得的涂层的制品。
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