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公开(公告)号：CN103340013B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280007201.3
申请日：2012-03-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/45578 , H01L51/0011
Abstract: 具备：蒸镀源（60），该蒸镀源（60）具备放出蒸镀颗粒（91）的多个蒸镀源开口（61）；限制单元（80），该限制单元（80）具备多个限制开口（82）；和蒸镀掩模（70），该蒸镀掩模（70）仅在分别通过多个限制开口的蒸镀颗粒到达的多个蒸镀区域（72）内形成有多个掩模开口（71）。多个蒸镀区域，沿与基板（10）的法线方向和基板的移动方向正交的第二方向，夹着蒸镀颗粒不到达的非蒸镀区域（73）配置。在沿基板的法线方向看时，相对于与第二方向平行的直线上的非蒸镀区域，在基板的移动方向上的不同位置，形成有蒸镀颗粒通过的掩模开口。由此，能够在基板上的期望的位置稳定地形成端缘的模糊被抑制的蒸镀覆膜。
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公开(公告)号：CN103238375B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201180058067.5
申请日：2011-12-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L22/10 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0011 , H01L51/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 使基板(10)与蒸镀掩模(70)在隔开固定间隔的状态下相对地移动，同时使从蒸镀源(60)的蒸镀源开口(61)放出的蒸镀颗粒(91)依次通过限制板单元(80)所具有的多个限制板(81)间的空间(82)和蒸镀掩模的掩模开口(71)并附着在基板上，形成覆膜(90)。判断是否需要对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正，在需要进行校正的情况下，对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正。由此，能够在大型基板上的预期位置上稳定地形成抑制了端缘的模糊的覆膜。
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公开(公告)号：CN103429784B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201280012570.1
申请日：2012-03-05
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/564 , H01L21/02104 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀颗粒射出装置（20）具备：坩锅（22）；具有至少1个射出口（21a）的保持件（21）；和设置在保持件（21）内的板状部件（23～25）。板状部件（23～25）具有与射出口（21a）对应设置的开口部（23a～25a），并且板状部件（23～25）在与开口面垂直的方向上相互分离地设置。射出口（21a）和各开口部（23a～25a）在俯视时彼此重叠。
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公开(公告)号：CN102860132B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201180021351.5
申请日：2011-05-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/001 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L27/3211 , H01L51/56
Abstract: 依次配置蒸镀源（60）、多个限制板（81）和蒸镀掩模（70）。使基板相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口（61）放出的蒸镀颗粒（91），通过相邻的限制板之间，并通过在蒸镀掩模形成的掩模开口（71）附着于基板，而形成覆膜（90）。限制板限制向掩模开口入射的蒸镀颗粒的、沿基板的相对移动方向看时的入射角度。由此，在大型的基板也能够以不扩大像素间距、不降低开口率等的方式形成有机EL元件。
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公开(公告)号：CN103415645B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201280012934.6
申请日：2012-03-07
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/448 , C23C14/042 , C23C14/243 , H01L51/0003 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀颗粒射出装置(30)包括设置有第一喷嘴部和第二喷嘴部(50、60)的中空的旋转体(40)、旋转机构和热交换器(52、62)，当通过旋转机构使旋转体(40)旋转时，热交换器(52、62)与各喷嘴部的配置相应地切换冷却和加热，使面向外部的喷嘴部比蒸镀材料成为气体的温度低，使另一喷嘴部成为蒸镀材料成为气体的温度以上的温度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103270186B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201180060616.2
申请日：2011-12-16
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B03C1/005 , B03C1/30 , B03C2201/20 , C23C14/12 , C23C14/564 , H01L51/0016
Abstract: 在腔室内构成物(70)的至少与成膜材料接触的部分，设置有包含能够被磁铁吸附的材料的层(71)。成膜材料的回收方法包括：剥离工序，将附着在腔室内构成物(70)的表面的附着物(22)剥离；和分离工序，使剥离工序中被剥离的包含能够被磁铁吸附的材料的层(71)的碎片吸附在磁铁(202a)上，从附着物(22)分离，从而回收附着物(22)。
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公开(公告)号：CN103282543B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201280004309.7
申请日：2012-03-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/5012 , C23C14/042 , C23C14/243 , C23C14/564 , H01L51/0011 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 从至少1个蒸镀源开口（61）放出的蒸镀颗粒（91），通过限制单元（80）的多个限制开口（82）和蒸镀掩模（70）的多个掩模开口（71），附着在沿第二方向（10a）相对移动的基板（10）上形成覆膜。限制单元包括叠层的多个板材。由此，能够高效率并且低成本地在大型基板上形成端缘的模糊被抑制的蒸镀覆膜。
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公开(公告)号：CN104037195A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410083251.0
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社半导体能源研究所 , 夏普株式会社
CPC classification number: H01L33/08 , H01L27/3246 , H01L33/58 , H01L51/5044
Abstract: 本发明抑制发光装置的串扰现象的发生。本发明的一个方式是一种发光装置，包括：绝缘层416；形成在所述绝缘层上的第一下部电极421a；形成在所述绝缘层上的第二下部电极421b；形成在所述绝缘层上且位于所述第一下部电极与所述第二下部电极之间的结构物419；形成在所述绝缘层上且位于所述结构物与所述第一下部电极之间的第一隔壁418a；形成在所述绝缘层上且位于所述结构物与所述第二下部电极之间的第二隔壁418b；形成在所述第一下部电极、所述第一隔壁、所述结构物、所述第二隔壁及所述第二下部电极上的第一发光单元423a；形成在所述第一发光单元上的中间层424；形成在所述中间层上的第二发光单元423b；以及形成在所述第二发光单元上的上部电极422。
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公开(公告)号：CN102834541B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201180015261.5
申请日：2011-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/042 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23C14/24 , H01L27/3211 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供在有机EL显示器用的基板（10）上按规定的图案形成薄膜（3）的蒸镀装置（50）。在掩模（60）与放射蒸镀颗粒的蒸镀源（53）之间配置有第一校正板（81）和第二校正板（82）。各校正板（81、82）分别具有多个叶片板（83）和支承它们的框（84）。各叶片板（83）在相对于掩模（60）倾斜的状态下，以从与掩模（60）正交的方向来看，在与相邻的叶片板（83）之间隔着开口（86）相互平行地延伸的方式配置。
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公开(公告)号：CN103340012A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201280005773.8
申请日：2012-01-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L27/3295 , C23C14/042 , C23C14/56 , H01L27/3211 , H01L27/3276 , H01L27/3283 , H01L51/56 , H01L2227/323
Abstract: 在利用蒸镀装置（50）形成有蒸镀部的TFT基板（10）中，蒸镀装置（50）包括具有射出口（86）的蒸镀源（85）和具有开口部（82）的蒸镀掩模（81），蒸镀颗粒经开口部（82）被蒸镀而形成蒸镀部，TFT基板（10）具有在像素区域（AG）二维排列的像素和与各像素电连接的配线（14），相互隔着间隙（X）地形成有多个蒸镀部（Q），配线（14）的各端子配置于间隙（X）。
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