基于P型帽层低膝点电压的增强型AlGaN/GaN HEMT器件及方法

    公开(公告)号:CN114628495A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202210157686.X

    申请日:2022-02-21

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于P型帽层低膝点电压的增强型AlGaN/GaN HEMT器件及方法。其器件包括自下而上依次设置的衬底、缓冲层、GaN沟道层、AlN中间层和AlGaN势垒层;AlGaN势垒层上方设有电子气恢复层,电子气恢复层上刻蚀或者腐蚀出源极区域、漏极区域以及栅极区域,栅极区域位于源极区域和漏极区域之间,其中,源极区域设有源电极,漏极区域设有漏电极,栅极区域设有栅区P型帽层和栅电极,栅电极位于栅区P型帽层上方。本发明在AlGaN势垒层上沉积兼容剥离工艺无刻蚀损伤的P型帽层,使栅区P型帽层和栅电极同步成型,并且在耗尽沟道电子实现增强型工作的同时,改变沟道的电场分布,促进器件膝点电压的降低。

    一种基于氧化镓偏振选择特性的带通日盲紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108807586B

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201810399948.7

    申请日:2018-04-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 基于氧化镓偏振选择特性的带通日盲紫外探测器,包括β相的氧化镓衬底、金属(Au)叉指状电极、绝缘介质钝化层和另一同晶体取向的β相氧化镓单晶滤光片,在(100)、(001)或(010)β相的单晶衬底上沉积金属得到叉指状电极阵列,然后覆盖绝缘介质钝化层,所述绝缘介质钝化层漏出金属(Au)叉指状电极;氧化镓单晶滤光片是位于Au叉指状电极器件的上方2‑5mm处放置,氧化镓单晶滤光片的晶体取向与衬底相同,面积稍大于衬底,氧化镓单晶滤光片面内晶体取向垂直于氧化镓衬底。上述器件具有封装结构,可以实现阵列化信号输出。本探测器能实现有效的滤除杂波,增强对短波的抑制作用,实现窄带的日盲紫外探测器;探测器结构简单,成本较低,抑制较高,有利于推广使用。

    一种基于氧化镓偏振选择特性的带通日盲紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108807586A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201810399948.7

    申请日:2018-04-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 基于氧化镓偏振选择特性的带通日盲紫外探测器,包括β相的氧化镓衬底、金属(Au)叉指状电极、绝缘介质钝化层和另一同晶体取向的β相氧化镓单晶滤光片,在(100)、(001)或(010)β相的单晶衬底上沉积金属得到叉指状电极阵列,然后覆盖绝缘介质钝化层,所述绝缘介质钝化层漏出金属(Au)叉指状电极;氧化镓单晶滤光片是位于Au叉指状电极器件的上方2‑5mm处放置,氧化镓单晶滤光片的晶体取向与衬底相同,面积稍大于衬底,氧化镓单晶滤光片面内晶体取向垂直于氧化镓衬底。上述器件具有封装结构,可以实现阵列化信号输出。本探测器能实现有效的滤除杂波,增强对短波的抑制作用,实现窄带的日盲紫外探测器;探测器结构简单,成本较低,抑制较高,有利于推广使用。

    一种ZnO基自支撑薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN107887452A

    公开(公告)日:2018-04-06

    申请号:CN201710933791.7

    申请日:2017-10-10

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种ZnO基自支撑薄膜的制备方法,ZnO基薄膜是在蓝宝石衬底上使用MOCVD方法生长的外延层薄膜,采用先低温缓冲层然后现高温外延生长相结合的两步生长法,解决蓝宝石衬底与ZnO材料之间的失配;低温缓冲层厚度约为200-400nm,高温外延层厚度约为2-5μm;然后采用激光剥离的方法将制备的ZnO基外延层与蓝宝石衬底的分离:激光剥离外延层时,调节激光光束聚焦于样品,从蓝宝石一侧照射样品,蓝宝石对该入射激光透明,而ZnO对该激光有强烈吸收。本发明提出的获得ZnO基自支撑薄膜的剥离工艺简单,成本低,易于制备,有利于改善ZnO基光电子器件性能和制备柔性电子器件。

    一种应用于小型MOCVD系统的高温加热装置

    公开(公告)号:CN105862013A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201610439793.6

    申请日:2016-06-17

    Applicant: 南京大学

    CPC classification number: C23C16/48

    Abstract: 一种应用于小型MOCVD系统的高温加热装置,包括加热元件、电炉盘和电极连接线,加热元件上面设有盖板,电炉盘底部预留若干孔洞,连接加热元件的电极连接线有陶瓷管加以保护;加热装置外部由不锈钢外罩所封闭,电炉盘下方有隔热板,隔热板上预留若干和电炉盘底部相对应的孔洞,隔热板上方外罩的侧面设有能通保护气体的不锈钢管,不锈钢管管可供氮气等保护气通入加热元件上部,对加热元件进行双重保护;本发明可实现小型MOCVD系统的高温加热,并能有效阻止高温情况下氧气等对加热元件造成的氧化和腐蚀影响,大幅提升了加热元件使用寿命,也可以屏蔽限制高温条件下加热元件的各种释放,有利于获得性能优异的沉积薄膜材料。

    一种获取均匀宽带隙半导体薄膜的同轴进气方法

    公开(公告)号:CN1333438C

    公开(公告)日:2007-08-22

    申请号:CN200510037733.3

    申请日:2005-02-02

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种获取均匀宽带隙半导体薄膜的同轴进气方法,该方法是在由一系列同轴的石英管和石英环的反应器中进行的。其方法步骤是:(1)、将衬底6放置在衬底托7上,一并放入反应室,并将反应室抽真空;(2)、反应物Ⅰ由进气管1输入,反应物Ⅱ由进气环3输入,隔离气由进气环2输入,压迫气由进气环4输入;(3)、将衬底加热至设定温度,反应物Ⅰ和反应物Ⅱ接近衬底6表面时均匀混合,并吸附在处于高温的衬底6表面发生分解反应,从而在衬底6上生长成均匀宽带隙的半导体薄膜。该方法成本低、技术难度小、实用性强、特别适用于各种GaN基和ZnO基等宽带隙结构材料的生长与器件结构材料的研究。

    一种三明治结构的ZnON薄膜
    78.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206076241U

    公开(公告)日:2017-04-05

    申请号:CN201620088085.8

    申请日:2016-01-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种采用三明治结构的ZnON薄膜,三明治结构的ZnON薄膜的基底上的夹层为富氮ZnON薄膜,富氮ZnON薄膜厚度为20‑150纳米,夹层上部的覆盖层为富氧ZnON薄膜,富氧ZnON薄膜层厚为5‑30纳米,基底为硅片、石英、玻璃或柔性衬底。三明治结构中夹层富氮ZnON和原位制备覆盖层富氧ZnON,提高了晶体管沟道层的稳定性,抑制后续晶体管器件的功能老化衰退。

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