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公开(公告)号：CN105020314A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201410171062.9
申请日：2014-04-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 本发明提出了一种双自由度主动减振装置及控制方法，柔性结构能够将垂向和水平向振动解耦，并分别经过减振控制算法，实现主动减振控制，以达到纳米级加工设备的振动要求，使用这种主动减振装置和控制算法的机构其减振效果达到了10～20dB，很好的降低了振动对光刻机动态性能的影响，保证了投影物镜的成像质量，进而提高了光刻工艺的精度。
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公开(公告)号：CN103324032B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201210078765.8
申请日：2012-03-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种多面体主基板，用于安装支撑装置、测量装置和镜筒装置，所述主基板上开设有至少一个工位，所述主基板的外表面是由所述支撑装置、测量装置、镜筒装置的安装区域的多边形包络面所限定，并由若干其他平面按凸包规则连接构成的凸多面体。本发明基于多面体结构设计，获得的主基板整体结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造的加工特性，其组合构成的主基板相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
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公开(公告)号：CN103472679A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201210189363.5
申请日：2012-06-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种双工件台长行程测量装置及其使用方法，其用于实时控制硅片台或掩模台等精密工件台的位置以进行精确的光刻加工作业，所述双工件台长行程测量装置包括粗动平面电机装置、两根导轨、两个长行程平面测量装置和控制系统，该装置不仅能够使长行程平面测量装置自动跟随工件台一起沿Y向移动，其长行程平面测量装置中的弹性缓冲装置还能够保证在工件台长行程运动控制失效时，测量传感器不会被损坏，并且仍然能够得到工件台的位置信号并反馈回该装置的控制系统，控制工件台复位回到工作零位。
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公开(公告)号：CN102487030B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201010575399.8
申请日：2010-12-06
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明的双工件台夹持机构包括静夹头、设置在所述静夹头下方的动夹头、设置在所述动夹头下方的夹持装置，以及驱动所述夹持装置动作的驱动装置，所述夹持装置推动所述动夹头与所述静夹头夹紧或松开，负载通过板簧与所述动夹头固定连接，其特征在于，还包括防护结构，所述防护结构包括所述静夹头一端设有的挂钩和所述动夹头顶端设有的凸起，所述挂钩插在所述凸起内，使所述动夹头和静夹头连接在一起。本发明的双工件台夹持机构能避免被动夹持力失效时负载碰撞夹持机构。
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公开(公告)号：CN103383271A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201210138025.9
申请日：2012-05-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01D5/26
Abstract: 本发明提出一种双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法。每个硅片台的交换位置测量装置包括：X向位置测量系统和Y向位置测量系统，其中，X向位置测量系统包括设置在硅片台上的两个X向干涉仪和X向反射镜；上述两个X向干涉仪与X向反射镜结合测量硅片台在X向的位置；Y向位置测量系统包括两个Y向干涉仪和两个Y向反射镜，上述两个Y向干涉仪设置在硅片台上，上述两个Y向反射镜分别与两个Y向干涉仪结合测量硅片台在Y向的位置。本发明的交换位置测量装置结构筒单，避免测量范围受硅片台尺寸的限制，同时受外界各种干扰影响小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103063140A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201110321373.5
申请日：2011-10-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种高精度调整装置，通过高精度的调整连接支架部件中三个导杆螺母的三个端面的平面度，从而可实现对待调整装置进行微米级的调整。该高精度调整装置的定位精度可调，调整装置可以通过调整获得微米级定位精度，且调整方便，快速。同时待调整装置的安装基准和调整基准之间的距离可以很大，当待调整装置的设计、加工、安装有所变化时本发明的高精度调整装置更能随待调整装置作相应的调整。本发明还提供一种高精度调整方法，采用三点确定一个平面的公理来测量一个基准相对于另一个原始基准的平行度，同时采用高精度装置作为原始基准对待调整装置进行测校。
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公开(公告)号：CN102681349A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110060978.3
申请日：2011-03-15
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台，包括基座、安装底板、承片台、第一永磁体、第二永磁体、水平向电机和垂向电机。安装底板设置在基座上方。承片台悬浮于安装底板上方。多个第一永磁体分别在安装底板的上表面与承片台的下表面，提供相斥的磁力，形成一定的垂向磁浮间隙。多个第二永磁体分别在安装底板与承片台的侧面，提供相斥的磁力，形成一定的侧向磁浮间隙。多个水平向电机安装在安装底板与承片台上，提供承片台在X、Y、Rz向的微动。多个垂向电机安装在安装底板与承片台上，提供承片台在Rx、Ry、Z向的微动。本发明提出的工件台具有六自由度方向的高精度运动，控制系统设计简单。
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公开(公告)号：CN102566293A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201010618426.5
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种二维长行程工作台运动系统，包括承载台、第一方向运动装置以及两个第二方向运动装置。第一方向运动装置包括第一方向导轨、第一方向滑台以及第一方向电机。两个第二方向运动装置分别连接于第一方向运动装置的两侧。每一第二方向运动装置包括第二方向导轨、第二方向滑台以及二维电机。第二方向滑台沿第一方向与第二方向可滑动地悬浮于第二方向导轨的上方，第二方向滑台连接于第一方向导轨。二维电机连接于第二方向滑台，驱动第二方向滑台以及第一方向运动装置沿第二方向作长行程运动的同时能够在第一方向作1～2mm的小行程运动。本发明公开的二维长行程工作台运动系统，简化了机械结构，降低了成本。
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公开(公告)号：CN102487030A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010575399.8
申请日：2010-12-06
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明的双工件台夹持机构包括静夹头、设置在所述静夹头下方的动夹头、设置在所述动夹头下方的夹持装置，以及驱动所述夹持装置动作的驱动装置，所述夹持装置推动所述动夹头与所述静夹头夹紧或松开，负载通过板簧与所述动夹头固定连接，其特征在于，还包括防护结构，所述防护结构包括所述静夹头一端设有的挂钩和所述动夹头顶端设有的凸起，所述挂钩插在所述凸起内，使所述动夹头和静夹头连接在一起。本发明的双工件台夹持机构能避免被动夹持力失效时负载碰撞夹持机构。
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公开(公告)号：CN102109011A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200910200941.9
申请日：2009-12-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16C32/06
Abstract: 本发明涉及一种气浮轴承，尤其涉及一种均压腔气浮止推轴承。这种均压腔气浮止推轴承，包括至少一个气浮滑块，每个气浮滑块的支撑面上至少开设有一个棱锥均压腔，所述支撑面与基座相对，所述棱锥均压腔的锥底面与所述支撑面齐平，所述棱锥均压腔的顶点处设有一节流孔，所述节流孔与设于所述气浮滑块内部的供气管路相通，所述供气管路与外部加压气源相通。本发明采用了渐扩的棱锥均压腔腔形，使高压气体经节流孔流入轴承间隙过程中更易沿平行流线流出，从而抑制节流孔附近涡流引发的轴承振动现象，降低微振动对整个运动系统的静态和动态性能的危害。
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