一种实现喷墨打印均匀图案阵列的方法

    公开(公告)号:CN110614863A

    公开(公告)日:2019-12-27

    申请号:CN201910841335.9

    申请日:2019-09-06

    Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域,公开了一种实现喷墨打印均匀图案阵列的方法。将玻璃基板经预处理后旋涂一层聚合物溶液,紫外光固化得到聚合物薄膜;所述聚合物薄膜与后续喷墨打印墨水的溶剂相溶;将喷墨打印墨水在上述聚合物薄膜上喷墨打印均匀墨滴阵列,退火处理后自然冷却,得到均匀图案阵列。本发明通过在喷墨打印前预先制备一层聚合物薄膜,利用喷墨打印过程中的“咖啡环”效应,可以得到高精细均匀图案阵列,突破了传统制备方法的极限,且获得的图案阵列具有良好的可重复性、均匀性。

    一种适用于喷墨打印的纳米纤维素墨水

    公开(公告)号:CN110564212A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201910902487.5

    申请日:2019-09-24

    Abstract: 本发明公开了一种适用于喷墨打印的纳米纤维素墨水;步骤(1),纳米纤维素筛选:预选纳米纤维素,要求纳米纤维素的粒径以及长度同时满足小于0.1d,d为喷墨打印孔的直径;步骤(2),墨水配置:将步骤(1)预选的纳米纤维素溶于水中,通过加入聚合物调节墨水的表面张力与粘度等物理特性,通过加入混合溶剂抑制纳米纤维素的团聚;然后将配置的墨水溶液放于超声清洗仪中,室温下超声振荡1-2小时,进行超声溶解,得到适用于喷墨打印的纳米纤维素墨水。本发明通过引入可降解的聚合物调解墨水的表面张力等物理特性,并加入带活泼羟基的混合溶剂来抑制纳米纤维素的团聚,获得了喷墨均匀稳定、不易团聚的纳米纤维素墨水。

    一种无铟氧化物半导体薄膜晶体管及其室温制备方法

    公开(公告)号:CN110534418A

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201910623038.7

    申请日:2019-07-11

    Abstract: 本发明公开了一种无铟氧化物半导体薄膜晶体管的室温制备方法,包括步骤:(1)将玻璃基板清洗、烘干;(2)在玻璃基板上采用直流磁控溅射沉积Al:Nd合金薄膜,通过湿法刻蚀图形化,形成栅极;(3)在Al:Nd栅极上通过阳极氧化法生长一层Al2O3:Nd栅极绝缘层;(4)采用脉冲激光沉积系统,通过掩模在Al2O3:Nd栅极绝缘层上沉积一层GZO半导体层;(5)采用真空蒸镀设备,通过掩模在GZO半导体层上蒸镀一层Al源漏电极。本发明采用了GZO半导体材料制备薄膜晶体管的有源层,不含In元素且Ga、Zn、O三种元素均无毒,符合绿色环保的发展趋势。有源层采用了脉冲激光沉积法制备,操作简单,可重复性高,整个器件制备均在室温下完成,无需退火,有效降低器件成本。

    一种利用深紫外激光对氧化物半导体薄膜进行退火的方法

    公开(公告)号:CN109767973A

    公开(公告)日:2019-05-17

    申请号:CN201811532972.X

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明属于深紫外激光退火领域,公开了一种利用深紫外激光对氧化物半导体薄膜进行退火的方法。该方法包括以下步骤:在玻璃基板上制备非晶氧化物半导体薄膜,然后将薄膜平放在样品台上,设定激光器透镜与薄膜样品间的最小距离、设定激光光速的移动速度、光束移动的横向重叠率纵向间距,然后用激光光束进行横向连续扫描,直至作用完所有区域。本发明通过深紫外激光在薄膜上连续扫描,使薄膜的表面形貌,物理性质和光学特性得到改善,且提高了光透射率,同时激光处理使STO的光学带隙增大。与传统的高温热处理相比有高能量,处理范围可选择,时间短,能耗低等优点,作用完整片10×10mm的样品只需要1.98s。

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