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公开(公告)号：CN116068856A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202111277340.5
申请日：2021-10-29
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种蘑菇状微结构、模具、蘑菇状干黏附结构及制备方法，蘑菇状微结构的制备方法，包括：提供基板；在所述基板表面涂布光刻胶；软烘所述光刻胶；图形化紫外曝光所述光刻胶，包括：使所述光刻胶表面吸附一定量的碱性分子形成一层显影钝化层，所述碱性分子能与由紫外曝光所产生的酸性分子发生中和反应而消耗一部分酸性分子，以及对形成了显影钝化层的所述光刻胶进行图形化紫外曝光；显影图形化紫外曝光后的所述光刻胶，利用所述显影钝化层的显影速率低于中间层和底层光刻胶，去掉部分所述光刻胶，保留的所述光刻胶形成所述蘑菇状微结构。本发明工艺复杂程度低、步骤简单，而且蘑菇头几何尺寸精度可控、可大面积稳定加工，有助于大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN115993755A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202111215136.0
申请日：2021-10-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种蘑菇状微结构、模具、蘑菇状干黏附结构及制备方法，蘑菇状微结构的制备方法包括：提供基板；在所述基板表面涂布光刻胶；软烘所述光刻胶，涂布完成后快速将让带所述光刻胶的所述基板放置于预定温度的烘箱内部进行快速烘烤，在所述光刻胶表面形成一层曝光钝化层，同时所述光刻胶中间层和底层处于正常曝光所需的半固态，从而使所述光刻胶由上而下、由表及里是溶剂含量逐层减少，硬度逐层降低；图形化曝光显影，利用所述曝光钝化层的光化学反应程度低于中间层和底层光刻胶，去掉部分所述光刻胶，保留的所述光刻胶形成所述蘑菇状微结构。本发明工艺复杂程度低、步骤简单，而且蘑菇头几何尺寸精度可控、可大面积稳定加工，有助于大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN115717256A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202110976414.8
申请日：2021-08-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种金属掩模版电铸母版、金属掩模版及其制备方法，其金属掩模版电铸母版用于通过电铸生成金属掩模版，包括图形化导电基板，所述图形化导电基板第一表面设有凹陷，所述第一表面非凹陷部分包含所述金属掩模版的图案，所述凹陷内填充有非导电材料。本发明提供的金属掩模版电铸母版、金属掩模版及其制备方法，通过图形化导电基板第一表面设有凹陷，采用非导电材料在凹陷内进行填充，电铸后剥离金属掩模版时，非导电材料也不会脱落，从而该电铸母版能重复多次使用，能显著降低工艺成本。
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公开(公告)号：CN111844736A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN210820931U
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201920579789.9
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本实用新型提供一种三维打印系统，其包括传送机构、透明支撑板、载物机构和成像机构。所述传送机构用于输送透明薄膜传送带，所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置。所述透明支撑板设置于机台的投影窗口上方，且位于所述透明薄膜传送带的下方。所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带。所述成像机构，位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本实用新型提供的三维打印系统可以实现三维打印，可满足生物医药领域对打印精度的要求。
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公开(公告)号：CN222779412U
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202420840555.6
申请日：2024-04-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州维业达科技有限公司
IPC: B25B11/00
Abstract: 本实用新型提供一种分区吸附载物台，用于吸附不同尺寸的导光板模具，包括载物台主体和与其固定连接的载物台底板，载物台主体开设有凹槽，载物台底板用于将凹槽闭合形成腔体；载物台主体上还开设有进气孔、分区结构和出气孔，分区结构设置在凹槽内用于将腔体分隔成多个子腔体，进气孔和出气孔与子腔体连通形成抽真空气道，用于在进气孔处产生负压吸附。本实用新型还提供一种加工设备，包括抽真空设备和如上的分区吸附载物台。本实用新型提出的分区吸附载物台可以通过单独控制多个子腔体的负压开关，组合形成不同尺寸的吸附区域，吸附不同尺寸的导光板模具。主要结构都设置在载物台主体上，提高了承载能力，而且可以降低整体厚度。
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公开(公告)号：CN220569067U
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202322284953.2
申请日：2023-08-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种并行照明的接近式光刻系统。所述系统包括：件台、多个照明模组和多个投影模组；照明模组和投影模组一一对应。照明模组、投影模组、掩模版及基片沿光路依次设置，掩模版接近式的放置于基片的上方，控制模块与多个照明模组、多个投影模组和工件台电连接。通过采用多个照明模组和投影模组，以及掩模版接近式的放置于基片的上方，利用光源束腰形状与图形直边衍射的补偿效益，本申请的光刻系统的准直度比采用大面积光源的系统的准直度很好，可以消除或减少线宽的展宽，形成均匀曝光。光源的成像景深一般可大于100微米，掩模版接近式放置于基片上，无需进行图形的镜像翻转放大等处理，既有利于批量化，又能提升的图形的品质。
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公开(公告)号：CN213303046U
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202022078888.4
申请日：2020-09-21
Applicant: 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06K9/00
Abstract: 本实用新型涉及一种光学图像采集单元、光学图像系统及电子设备。该光学图像采集单元包括基材、设置在所述基材上侧的透光层、部分覆盖在所透光层上的遮光层，所述透光层包括平面部、凸起部和微透镜部，所述遮光层覆盖所述平面部和凸起部、并在所述微透镜部上形成复数个光栅窗口，所述凸起部高于所述微透镜部。通过形成高于微透镜部的凸起部可以阻挡微透镜部侧面光线传递至微透镜部上，以避免及减少光束的串扰，提高感测精度干扰，且与现有技术相比，无需将平面部垫高，节省了材料，也减小了整体体积。
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公开(公告)号：CN212783511U
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN202022220124.4
申请日：2020-09-30
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H01L51/52
Abstract: 一种增亮膜，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面之内或之上设置有微纳结构层，微纳结构层包括第一微纳结构区以及绕着第一微纳结构区周向设置的第二微纳结构区，第一微纳结构区包括多个第一微纳结构，各第一微纳结构包括多个第一斜面，各第一斜面与第二表面之间具有第一倾斜锐角，第二微纳结构区包括多个第二微纳结构，各第二微纳结构包括多个第二斜面，各第二斜面与第二表面之间具有第二倾斜锐角，第二倾斜锐角与第一倾斜锐角角度不同，使得第二微纳结构区的出光率大于第一微纳结构区的出光率。本实用新型的增亮膜能够实现OLED显示装置增亮，并使OLED显示装置发光更均匀。
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