发光装置
    51.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110546564A

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201880026748.5

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 本实施方式涉及能够降低半导体发光元件对从空间光调制元件输出的调制后的光产生的衰减或衍射作用的发光装置,该发光装置包括从光输出面输出光的半导体发光元件,和对该光进行调制的反射型的空间光调制元件。空间光调制元件包括面积比半导体发光元件的光输入面大的光入射出射面,对经由光输入输出面中的与半导体发光元件的光输出面相对的区域取入的光进行调制,将调制后的光从该光输入输出面中的其他的区域输出到半导体发光元件的光输入面以外的空间。

    半导体发光元件和包含其的发光装置

    公开(公告)号:CN109690890A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201780054735.4

    申请日:2017-08-31

    CPC classification number: H01S5/183

    Abstract: 本实施方式涉及一种具有能够从S-iPM激光器的输出光中除去0次光的结构的半导体发光元件等。该半导体发光元件包括活性层、一对覆盖层和相位调制层。相位调制层包括基本层和各自单独地配置于特定位置的多个差异折射率区域。一对覆盖层的一层具有分布布拉格反射层,其具有对相对于光出射面的倾斜方向的特定光像的透过特性和对沿光出射面的法线方向输出的0次光的反射特性。

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