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公开(公告)号：CN114905855A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210601841.2
申请日：2022-05-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于微结构制备领域，并具体公开了一种微圆周曲面共形敏感结构及其制备方法和装置，其如下步骤：S1、在微圆周曲面上制备一层疏水层，然后对微圆周表面进行图案化照射，得到可限制液滴滑移的图案化亲水区域，使待沉积区域亲水，非沉积区域疏水；S2、采用电流体喷印工艺在微圆周表面喷印液滴，液滴沉积到图案化亲水区域内；S3、对图案化亲水区域内沉积的液滴立即进行加热处理，使液滴中的溶剂蒸发，完成微圆周曲面共形敏感结构制备。本发明整合了精准定位限域加工位置、高精度高分辨率电喷印和快速烧结固化后处理的技术，实现在微圆周等高曲率表面上对传感器等共形敏感结构的制备。
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公开(公告)号：CN114734063A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210426056.8
申请日：2022-04-21
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于柔性/曲面电子微纳制造相关技术领域，其公开了一种等离子体包轴输运与同步烧结的打印装置及方法，该打印装置包括墨水模块、等离子体射流模块、隔绝鞘气模块、该等离子体射流模块及该隔绝鞘气模块分别连接于该墨水模块；该墨水模块用于将打印用的液态金属墨水输送到喷嘴中，该等离子体射流模块用于放电产生等离子体射流，该隔绝鞘气模块用于产生隔离液态金属墨水和等离子体射流的鞘气气流；该墨水模块、该等离子体射流模块及该隔绝鞘气模块相互配合以实现等离子体射流自身局域动态强电场诱导电流体生成泰勒锥。本发明解决了复杂型面绝缘基板液态金属电路的打印成形难题，为柔性/曲面电子器件的高效共形喷印制造提供了技术支撑。
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公开(公告)号：CN112928211B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110280005.4
申请日：2021-03-16
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于有机薄膜晶体管制备相关技术领域，其公开了一种复杂曲面薄膜晶体管及自对准电流体共形光刻制造方法，包括以下步骤：(1)依次在曲面基底上制备底栅电极、底栅介电层及半导体层；(2)采用电流体喷印工艺在半导体层上制备纤维掩膜，电流体喷印时空间电场受曲面基底影响而空间分布畸变，使得产生的射流及纤维沉积在曲面基底的法向最短位点，进而实现法向曲面自对准；(3)采用纤维掩膜在半导体层上制备源漏电极及引线，且纤维掩膜位置处因存在高度差而自动生成沟道；(4)加热纤维掩膜以使纤维掩膜转变为熔融态，继而实现自对准封装，由此制造完成。本发明通过电流体喷印自对准工艺实现了曲面基底上薄膜晶体管的原位制备与自封装。
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公开(公告)号：CN112752410A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011546836.3
申请日：2020-12-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于柔性器件技术领域，更具体地，涉及电流体光刻制备透明可拉伸液态金属电路的方法和应用。本发明制备方法包括以下步骤：制备透明可拉伸基底；基于电流体光刻技术在基底表面打印液态金属网格；基于电流体光刻技术在液态金属网格表面打印电路图案，即可得到液态金属电路。本发明可以制备不同尺度和透明度的可拉伸液态金属电路，相比于复合材料法或传统的结构设计法，具有高度灵活性，在生产中不受限于复杂的掩膜设计，可赋予液态金属电路任意功能，获得的产品具有高度可拉伸性，因而可以粘附于各类复杂或动态曲面上，并在使用过程中保持性能稳定，具有广阔的市场前景。
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公开(公告)号：CN111189493A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201911299342.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01D21/02
Abstract: 本发明属于柔性电子皮肤领域，并公开了一种多物理场测量的柔性智能蒙皮、变胞结构及其应用。该柔性智能蒙皮自上而下依次包括第一电极、介电层、第二电极、压电层和第三电极，其中，第一电极、介电层和第二电极形成电容传感器，第二电极、压电层和第三电极形成压电传感器；第二电极包括两根电阻，分别为第一电阻和第二电阻，第一电阻形成电阻传感器，第一电阻和第二电阻共同形成电容传感器；第三电极包括电阻两根热电系数不同的电阻，分别为第三电阻和第四电阻，第三电阻形成电阻传感器，第三电阻和第四电阻共同形成热电偶传感器。通过本发明，实现压力，温度，应变，振动，湿度，流速和健康状态等物理量的测量，功能高度集成，结构的简化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109094200B
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201810898865.2
申请日：2018-08-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷印装置技术领域，并具体公开了一种空间分布可调的阵列集成式喷印装置和方法，其包括箱体、布置在箱体内部呈阵列分布的喷头组以及用于调节喷头位置的移动组件，喷头组中的喷头包括由上至下依次设置的固定接头、衔接头、中间接头和输出头，中间接头内部开设有通孔及气体输入通道，通孔内安装有从输出头下端穿出的石英管，其出口作为喷嘴，其内插装有高压电极，高压电极与石英管之间留有间隙，高压电极中空部分作为墨液通道；每一喷头组对应设置有移动组件，用于安装喷头并调节喷头的位置，箱体内设置有电极板和紫外灯。所述方法采用上述装置进行。本发明实现大规模生产的同时，极大提升了设备的灵活性和适用范围。
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公开(公告)号：CN107195569A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710326311.0
申请日：2017-05-10
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/67 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67011 , H01L21/3065
Abstract: 本发明属于半导体器件相关技术领域，其公开了一种微等离子体刻蚀加工装置，所述微等离子体刻蚀加工装置包括第一运动机构、第二运动机构及电喷印喷头，所述电喷印喷头连接于所述第一运动机构；所述微等离子体刻蚀加工装置还包括单针式等离子体喷头及扫描式等离子体喷头；所述单针式等离子体喷头及所述扫描式等离子体喷头之一可拆卸地连接于所述第二运动机构上，所述第二运动机构带动所述单针式等离子体喷头或者所述扫描式等离子体喷头进行移动，进而采用直写式或者掩膜式对石墨烯薄膜进行图形化加工。本发明还涉及微等离子刻蚀加工方法。上述的微等离子体刻蚀加工装置可同时实现直写式及掩膜式，依工况选择直写式或者掩膜式，提高了效率及精度。
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公开(公告)号：CN120038101A
公开(公告)日：2025-05-27
申请号：CN202510339032.2
申请日：2025-03-21
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于柔性电子微纳制造相关技术领域，其公开了一种等离子体辅助电喷雾制备导电薄膜的方法与导电薄膜及其应用，步骤为：(1)采用等离子体对绝缘基板进行表面改性处理，以改善所述绝缘基板表面的电荷耗散速度和亲水性；(2)采用静电喷雾的方式在所述绝缘基板表面上制备薄膜，以得到导电薄膜。本发明通过等离子体改性处理绝缘基板表面，以改善绝缘基板表面的电荷耗散速度和亲水性，并采用静电喷雾对绝缘基板表面进行静电喷漆来制备导电薄膜，改性处理提升了绝缘基板表面电流体喷雾的性能，获得绝缘基板表面的连续、致密、无缺陷的导电薄膜。
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公开(公告)号：CN119259293A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411499223.7
申请日：2024-10-25
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于电喷雾曲面封装相关技术领域，其公开了一种阵列化电喷雾自适应共形装置与方法，包括轮廓扫描模块、工控机、喷嘴运动模块及阵列化电喷雾模块；阵列化电喷雾模块设置在喷嘴运动模块上，喷嘴运动模块用于带动阵列化电喷雾模块上下移动；工控机分别连接于喷嘴运动模块及阵列化电喷雾模块；轮廓扫描模块用于扫描电喷雾基板的曲面形状，并将扫描得到的曲面点云数据传输给工控机；工控机用于对接收到的曲面点云数据进行处理并根据处理结果来生成高度控制信号，高度控制信号被传输给喷嘴运动模块，以动态控制喷嘴运动模块，继而使得阵列化电喷雾模块位于曲面各个位置点时的喷雾高度与曲面相对应。本发明针对不同曲面具有高度通用性及适应性。
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公开(公告)号：CN115079513B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202210590241.0
申请日：2022-05-26
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于柔性电子器件制备相关技术领域，其公开了一种基板结构化处理的嵌入式微纳器件及其喷印制备方法，包括以下步骤：(1)提供纳米压印模板，纳米压印模板的表面上形成有多个拱形的条状凸起；(2)在柔性透明基板上旋涂聚合物胶液，并采用纳米压印模板连续压合进所聚合物胶液，进而得到结构化基板，得到的聚合物胶层形成有多个沟道；(3)对结构化基板进行局部亲/疏水处理，以使沟道的底面及侧壁面具有亲水性，沟道侧壁的上表面具有疏水性；(4)利用电流体喷印方式在结构化基板的沟道内填充纳米金属浆料，进而得到嵌入式微纳器件。本发明实现了大面积、曲面制造，克服了现有制造技术的局限性，还具有成本低、效率高等优点。
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