-
公开(公告)号：CN211696278U
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202020562698.7
申请日：2020-04-16
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本实用新型公开一种表面微观形貌测量传感器，用于测量待测工件表面的形貌，包括：触针，用于测量微观形貌；触针轴，一端与所述触针连接，用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动；磁恒力模块，与所述触针轴的另一端连接，用于调节所述触针与待测工件之间的测量力；触针轴气浮模块，环绕在所述触针轴外围，用于使所述触针轴悬浮；位移测量模块，设置在所述触针轴的正上方，用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本实用新型通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙，保证触针轴悬浮且摩擦最小，提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力，以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号：CN210571846U
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201921368547.1
申请日：2019-08-21
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01N15/02
Abstract: 本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统。在匹配液中放置有第一光阻断结构和第二光阻断结构。第一光阻断结构设置于入射光束正向延长线上，用以吸收和反射光束，使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。第二光阻断结构设置于多个散射光通孔接收的散射光束的反向延长线上，用于吸收和反射测量接收角互补角上的散射光束，使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。通过匹配液、第一光阻断结构以及第二光阻断结构可以极大程度上减少传统纳米颗粒粒径测量系统中样品池壁面反射光的影响，并避免多个散射光通孔接收自身角度的散射光信号中混入反射光信息，从而大幅提高了测量结果的准确性。
-
公开(公告)号：CN204650060U
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201520202914.6
申请日：2015-04-07
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G02B21/08
Abstract: 一种248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜，包括设在同一光轴的前部中继镜组及后部成像镜组，该前部中继镜组由前后依次设置的第一至第三透镜组成；该后部成像镜组由前后依次设置的第四至第十二透镜组成，其中第十二透镜为平行平板镜片，在透射深紫外光线的同时用于支撑被测样品；该两个镜组安装在恒温密封套筒内，每一透镜安装在对应的透镜框内。本实用新型采用高数值孔径的科勒式照明设计，具有亮度均匀、不引入光源伪像、优化像差、抑制杂散光的优点，高数值孔径保证了很高的分辨力。实验证明紫外显微镜下本装置能对100nm线宽产生清晰轮廓像，适用于集成电路光刻掩模版、纳米几何结构栅格和MEMS/NEMS器件关键尺寸的检测照明。
-
公开(公告)号：CN215177566U
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202121597359.3
申请日：2021-07-14
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本实用新型公开了一种椭偏测量初始入射角校准装置，包括平移装置、第一俯仰调节装置、第二俯仰调节装置和中间调节装置。平移装置包括平移平台、CCD相机和远心镜头，远心镜头可拆卸式安装于CCD相机上，CCD相机在平移平台上平移；第一俯仰调节装置包括第一俯仰偏摆调节平台和安装于第一俯仰偏摆调节平台上的自准直仪；第二俯仰调节装置包括第二俯仰偏摆调节平台和安装于第二俯仰偏摆调节平台上的稳频激光器；中间调节装置包括位置调节平台和安装于位置调节平台上的五棱镜。相比于现有技术，本实用新型能够实现自准直仪光轴与CCD相机运动轴成90°，稳频激光器光轴与CCD相机运动轴成180°，从而完成椭偏测量初始90°入射角的校准。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN212207832U
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN202020635834.0
申请日：2020-04-24
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本实用新型公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构，主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置，能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直，通过移动可变光阑上的拨杆，能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围，通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉，能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调，紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下，互相配合，共同作用，从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号：CN206113868U
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201620868854.6
申请日：2016-08-11
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本实用新型公开了一种基于分光激光干涉的六自由度纳米位移台的校准装置，属于激光精密测距技术领域；所述装置包括支撑平台、分光测量装置系统及纳米位移台；这种设计，保证了纳米移动平台6自由度姿态的测量，解决了任意姿态纳米尺度位移测量难题，适用于X轴、Y轴、Z轴和旋转角度的纳米位移台同时变化的全姿态识别与超精密测量校准。
-
公开(公告)号：CN205211424U
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201520719876.1
申请日：2015-09-17
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 一种柔性铰链导向的二维纳米位移台，包括外层固定框架、中层嵌套移动框架、内层嵌套移动框架、移动平台和柔性铰链，其特征在于，在所述的外层固定框架与中层嵌套移动框架的至少一个横向边的中部之间装有一个X轴预紧装置，在所述的中层嵌套移动框架与内层嵌套移动框架的至少一个纵向边之间装有两个Y轴预紧装置；所述的轴压电陶瓷驱动器和轴压电陶瓷驱动器分别安装在一固定套筒内，分别组成X轴PZT套筒装置和Y轴PZT套筒装置。本实用新型具有压电陶瓷驱动器和预紧结构双重调节机制来调节位移台的行程以及耦合位移的优点。
-
公开(公告)号：CN204346373U
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201520016874.6
申请日：2015-01-09
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本实用新型公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置，包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本实用新型的有益效果为：该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统，压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进；压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进；Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头)，基于白光干涉原理，可实现0.1nm的Z向分辨率，同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统，将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
59
records
(took 0.03 seconds)
