公开(公告)号：CN1310091C

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN02824118.5

申请日：2002-11-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 岩井武 ,  久保田尚孝 ,  藤村悟史 ,  羽田英夫

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，(C)一种有机溶剂组分，其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2-甲基-2-金刚烷基更容易消除的多环溶解抑制基团作为侧链上的可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含内酯的多环基团，和(a3)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含羟基的多环基团；以及使用这种组合的光刻胶图案形成方法。

公开(公告)号：CN1918217A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200580004964.2

申请日：2005-01-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 绪方寿幸 ,  松丸省吾 ,  木下洋平 ,  羽田英夫 ,  盐野大寿 ,  清水宏明 ,  久保田尚孝

IPC: C08G85/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C69/54 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  C08F290/06 ,  C08F290/061 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。

公开(公告)号：CN1841199A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610007166.1

申请日：2002-11-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 岩井武 ,  久保田尚孝 ,  藤村悟史 ,  宫入美和 ,  羽田英夫

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(B)能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有内酯的单环基团或多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有羟基的多环基团；组分(A)还含有结构单元(a4)，由(甲基)丙烯酸酯衍生并含有多环基团，此多环基团不同于含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团、含有内酯的单环基团或多环基团、或含有羟基的多环基团。

公开(公告)号：CN1276304C

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN02821757.8

申请日：2002-11-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 羽田英夫 ,  藤村悟史 ,  岩下淳

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其是通过在一种有机溶剂(C)中溶解(A)一种在主链中具有衍生自(甲基)丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分而形成的，其中树脂组分(A)是一种共聚物，其包含(a1)衍生自包含含有可酸离解的、溶解抑制基团的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，(a2)衍生自包含含有内酯的单环基团或多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，(a3)衍生自包含含有羟基的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元，和(a4)衍生自包含不同于单元(a1)，单元(a2)和单元(a3)的多环基团的(甲基)丙烯酸酯的单元。此组合物提供一种化学放大正型光刻胶组合物，其显示优异的分辨率，并且可以提高隔离光刻胶图像的聚焦范围的深度和可以抑制邻近效应。

公开(公告)号：CN1800846A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200510137592.2

申请日：2004-01-27

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  羽田英夫 ,  藤村悟史 ,  岩井武 ,  佐藤充 ,  高须亮一 ,  立川俊和 ,  岩下淳 ,  石塚启太 ,  山田知孝 ,  高山寿一 ,  吉田正昭

IPC: G01N33/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70616 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/70341 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种在包括浸渍曝光的抗蚀剂图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物的评价方法，该方法包括：由抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，将该膜选择性曝光，其后使在浸渍曝光中使用的浸渍溶剂与膜接触，将如此得到的膜曝光后烘焙，接着将膜显影，以及评价得到的抗蚀剂图案。