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公开(公告)号：CN100336156C
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN03810274.9
申请日：2003-05-07
Applicant: BTU国际公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了等离子体辅助气体产生的方法和装置。在一个实施例中，包括至少一种原子或分子种类的气体流入腔(305)。使该气体受到频率小于约333GHz(可选地在等离子体催化剂存在的情况下)的电磁辐射，在腔(305)中形成等离子体(310)。过滤器(315)与该腔(305)流体连通，它能使所述原子或分子种类通过，但阻止其它种类通过。用这种方法，所选的种类可以被提取和收集，用于存储或直接使用。
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公开(公告)号：CN1987490A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610171233.3
申请日：2006-12-21
Applicant: 许廷格电子有限及两合公司
CPC classification number: H01J37/3444 , G01R19/0061 , G01R31/12 , H01J37/34 , H01J2237/0206
Abstract: 本发明设计用于在等离子工艺中检测电弧的一种方法和电弧检测装置(1)，包括至少一个比较器(ADC)，为所述比较器提供AC发生器的输出信号或者与所述输出信号有关的内部信号作为评估信号，还为所述比较器提供参考值(R1到R4)，其中，比较器(3到6)连接到逻辑器件(16)，所述逻辑器件(16)生成用于电弧抑制设备(23)的信号。
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公开(公告)号：CN1952205A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610131894.3
申请日：2006-10-17
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32761 , H01J2237/0206
Abstract: 一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包括相对于被设定在所述旋转台上的所述基质进行布置的多个蒸发源，且所述用于进行轰击的电弧蒸发源相对于所述基质进行布置，并且成形以使得其在真空室高度方向上的长度等于沉积组电弧蒸发源的上端和下端之间的长度。根据这种结构，在进行轰击时几乎不能在基质中产生温度过度升高或在基质上发生异常放电，由此导致工艺可控性得到改进。
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公开(公告)号：CN1230802C
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN01142786.8
申请日：2001-10-04
Applicant: ENI技术公司
Inventor： 杰弗·C·塞勒斯
CPC classification number: H01J37/3444 , C23C14/54 , H01J37/34 , H01J2237/0206
Abstract: 一种用无源电路控制直流溅射系统中的电弧形成的方法和系统，该电弧控制系统包括：溅射腔；此溅射腔包括阳极和由靶材料形成作为阴极的溅射靶。直流电源，用来提供直流阴极电压使阴极电流由阳极流向阴极；谐振网络，连接在直流电源和腔之间，此谐振网络具有与电弧产生对应地，使阴极电流谐振通过0，在阴极和阳极之间形成正电压的Q；以及反向电压钳位电路，与谐振网络连接，用来将阴极电压钳制到预先设定的反向电压。反向阴极电压通过在溅射靶沉积带正电的电介质来抑制随后的电弧。电弧控制系统限制了由电弧消耗的能量。
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公开(公告)号：CN1665955A
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN03815275.4
申请日：2003-06-27
Applicant: 东京电子株式会社
CPC classification number: H01J37/32174 , H01J37/32706 , H01J37/32935 , H01J2237/0206
Abstract: 本发明涉及一种用于等离子体加工的电弧抑制系统，其包括至少一个耦合到等离子体加工系统上的传感器，和耦合到至少一个传感器上的控制器。该控制器提供至少一种算法用于确定和衬底接触的等离子体的状态并控制等离子体加工系统抑制电弧放电发生，该衬底使用至少一个信号，该信号由至少一个传感器产生。当传感器之间的电压差超过目标差时，等离子体加工系统被确定为易产生电弧放电。在该条件下，通知操作员，并做出是否继续加工，修改加工，或中止加工的决定。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1653248A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810266.8
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了等离子体辅助发动机排气处理的方法和装置。在一个实施例中，发动机排气处理系统包括至少一个管道，该管道包括入口部分(215)、出口部分(216)、中间部分(205)和至少一个等离子体腔(210)。该入口部分设置成与发动机气缸(510)相连并接收排气。该出口部分在等离子体处理后排出所述气体。该中间部分将排气从入口部分传送到出口部分。在一个实施例中，一个或多个等离子体腔(342，344，346)位于入口部分附近，用于处理排气。该系统也包括与各腔相连的电磁辐射源(340)，用于将辐射提供到各腔，其中辐射的频率小于大约333GHz。还提供了采用等离子体催化剂(70，170)的排气处理。
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公开(公告)号：CN1653161A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810271.4
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明为各种掺杂过程提供了激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在的情况下，通过使气体受到一定量的电磁辐射，在腔(285)中形成等离子体(610)，并将至少一种掺杂材料加入等离子体，来掺杂衬底(250)。然后允许所述材料浸入衬底。本发明还提供了各种活性和惰性催化剂。
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公开(公告)号：CN1652889A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810272.2
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了用于等离子辅助烧结的方法和系统。该方法包括在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到辐射在腔(12)内激发烧结等离子体，并将可以是粉末材料成分的物体的至少一部分暴露在等离子体中一段足够长的时间以烧结物体的至少一部分。
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公开(公告)号：CN1565148A
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN02819904.9
申请日：2002-09-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 栗山升
IPC: H05H1/00
CPC classification number: C23C14/564 , H01J37/32045 , H01J37/32082 , H01J37/32935 , H01J2237/0206 , H01L21/67069
Abstract: 在检测具有高频电源PS的辉光放电装置GD内的电弧放电的方法中，当dVr/dt－dVf/dt增加到第一电平以上时，向高频电源PS输出切断脉冲时间T1，以停止辉光放电装置GD的电力供应，其中Vf和Vr分别是施加给辉光放电装置GD的行波电压和反射波电压。当在辉光放电装置的电力供应终止之后的预定时间To内Vr/Vf增大为第二电平或更高的电平时，判定在辉光放电装置中已经发生了电弧放电。
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公开(公告)号：CN107454978A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201680009034.4
申请日：2016-01-26
Applicant: 通快许廷格有限公司
CPC classification number: H01J37/3476 , G01R31/1254 , H01J37/241 , H01J37/244 , H01J37/32944 , H01J37/3444 , H01J2237/0206 , H01J2237/24564 , H01J2237/3322
Abstract: 一种电弧处理设备(14)包括：a.电弧检测设备(21)，其检测等离子体腔(30)中是否存在电弧；b.电弧能量确定设备(22)，其用于确定电弧能量值，所述电弧能量值是对应于当所述等离子体腔(30)中存在所述电弧时被供应到所述等离子体腔(30)的能量的值；c.切断时间确定设备(24)，其用于根据所确定的电弧能量值确定切断时间。
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