-
公开(公告)号：CN111819654B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201980017872.X
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
Abstract: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器，其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
-
公开(公告)号：CN116313708A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310393035.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
-
公开(公告)号：CN115881498A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211651256.X
申请日：2018-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
-
公开(公告)号：CN114420523A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210041735.3
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 本发明涉及多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
-
公开(公告)号：CN113906535A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080040172.5
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/26
Abstract: 公开了一种降低带电粒子束设备中库仑相互作用效应的系统和方法。带电粒子束设备可以包括带电粒子源和源转换单元，该源转换单元包括：孔径透镜形成电极板，被配置为处于第一电压；孔径透镜板，被配置为处于与第一电压不同的第二电压以用于生成第一电场，使得孔径透镜形成电极板和孔径透镜板能够形成孔径透镜阵列的孔径透镜以分别使带电粒子束的多个子束聚焦；以及成像透镜，被配置为使多个子束聚焦在像平面上。带电粒子束设备可以包括物镜，该物镜被配置为将多个子束聚焦到样品的表面上并在样品的表面上形成多个探测斑。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113892163A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080039350.2
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器(140)上的电光系统。该电光系统包括第一预限制孔径板(155P)和射束限制孔径阵列(155)，第一预限制孔径板(155P)包括被配置为阻挡多个二次带电粒子射束的外围带电粒子的第一孔径；射束限制孔径阵列(155)包括被配置为修整多个二次带电粒子射束的第二孔径。带电粒子检测器可以包括多个检测元件(140_1、140_2、140_3)，其中多个检测元件中的一个检测元件与多个二次带电粒子射束中的对应修整后的射束相关联。
-
公开(公告)号：CN113192815A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110492081.1
申请日：2017-01-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/06 , H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/28 , G01N23/00
Abstract: 本公开的实施例涉及多个带电粒子束的装置。提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地，作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。
-
公开(公告)号：CN113056806A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201980075411.8
申请日：2019-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/28 , H01J37/143
Abstract: 电磁复合透镜可以被配置为聚焦带电粒子束。复合透镜可以包括设置在次级光轴上的静电透镜和也设置在次级光轴上的磁透镜。磁透镜可以包括永磁体。带电粒子光学系统可以包括束流分离器，该束流分离器被配置为将由源沿初级光轴生成的初级带电粒子束的多个束波与次级带电粒子的次级光束分开。该系统可以包括次级成像系统，该次级成像系统被配置为沿次级光轴将次级光束聚焦到检测器上。次级成像系统可以包括复合透镜。
-
公开(公告)号：CN112889127A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201980068721.7
申请日：2019-09-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
-
公开(公告)号：CN112041965A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980029418.6
申请日：2019-04-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/317
Abstract: 公开了一种带电粒子束装置的改进的源转换单元。源转换单元包括第一微结构阵列，该第一微结构阵列包括多个微结构。多个微结构被分组为一个或多个组。一个组中的微结构的对应电极由驱动器电连接和驱动以影响对应的一组束波。一个组中的微结构可以是单极结构或多极结构。一个组中的微结构具有相对于装置的光轴的相同或基本相同的径向偏移。一个组中的微结构相对于其径向偏移方向具有相同或基本相同的取向角。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
52
records
(took 0.039 seconds)
