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公开(公告)号：CN114639326A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202210548852.9
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种呈现立体浮雕图像的精密微结构及其制备方法与应用。本发明提供的精密微结构包括：复数个微纳子结构，复数个所述微纳子结构的周期按预设规律排布，用于呈现立体浮雕效果；所述微纳子结构上设置有至少一个凹槽，所述凹槽包含至少两个相对的侧壁和一个底部，所述凹槽内设置有油墨，用于呈现颜色效果。这样，所述精密微结构可以呈现立体浮雕效果和呈现颜色效果。本发明提供了一种精密微结构的制备方法，通过转印固化、填充油墨和清洗的方法，使用的油墨量少。本发明还提供了另一种制备方法，通过网纹辊将油墨附着在模版上，在转印微纳子结构的同时，将油墨一并填充在凹槽中，该方法步骤更为简便，使用的油墨量更少，低碳环保。
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公开(公告)号：CN113515021A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110667771.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。
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公开(公告)号：CN113269842A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202010096447.9
申请日：2020-02-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种图形光栅化方法、装置及存储介质，属于图像处理技术领域，该方法包括：获取待光栅化目标；确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形；可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题；解决同一文件中相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。由于对于重复的目标图形只需要进行一次光栅化过程，后续只需要调用光栅化图形即可，因此可以提高光栅化效率，节省设备资源。
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公开(公告)号：CN112684677A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN112269271A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107908086B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN115497402B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202211138997.8
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层；第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层；第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层，第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构，油墨填充于第一镀膜层的凹槽内；或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层，第一微结构层上设置有精密微结构，其包括复数个微纳子结构，微纳子结构上设置有凹槽，凹槽内填充有油墨；第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上，通过在基材上设置精密微结构，呈现立体，光影，彩色的效果；且能具备纹理的炫光效果。
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公开(公告)号：CN114913559B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202110179852.1
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06V40/13 , G06V10/147 , G02B3/00
Abstract: 本发明涉及一种微透镜阵列成像组件的生产装置及制备方法，该微透镜阵列成像组件的生产装置通过传输系统传输基底，使基底依次通过出胶系统、压印系统、喷涂系统、显影系统和清洁系统，以依次完成在基底上涂覆胶水、在基底上压印出微透镜阵列、在基底正面和背面涂覆黑色光阻材料和挡光材料并在基底背面进行曝光、向基底正面喷涂显影剂以及对基底进行清洁，从而制备得到高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
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公开(公告)号：CN117666292A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211462987.X
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统，所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件；所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束；所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件，两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转，所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面；所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制，使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光，进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统，通过控制分光组件和偏振组件，能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量，与偏振感光材料进行光化学作用，形成特定的偏振图形分布，偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件，控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位，进行光场拼接光刻，在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。
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公开(公告)号：CN116750712A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202210051875.9
申请日：2022-01-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，多层微结构仿生干黏附结构包括多个多层微结构单元，每一所述多层微结构单元包括底层的微米级柱体结构、中间层的微米级蘑菇头结构，以及顶层的纳米阵列结构，其中纳米阵列结构为纳米柱阵列结构或者纳米孔阵列结构。本发明提供的多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，通过设置顶层的纳米阵列结构，使得微结构与物体面之间的接触端由微米量级的蘑菇头“面结构”变成纳米量级的纳米珠阵列或纳米孔阵列的“点结构”，增加了接触面积，进一步提升产品的黏附性能，结构稳定性更强。
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