一种抗单粒子栅穿的SiC MOSFET及制备方法

    公开(公告)号:CN118763110A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202410738115.4

    申请日:2024-06-07

    Abstract: 本发明提供一种抗单粒子栅穿的SiC MOSFET及制备方法,从下到上依次包括:漏极金属化层、N+衬底层、N‑漂移区、电流扩展区、P‑well区、第二N+源区、第二P‑base区、第一P‑base区、第一N+源区、栅氧、多晶硅栅、隔离氧、源极金属化层;所述第一N+源区、第二N+源区、P‑well区与源极金属化层接触;所述第二N+源区将沟槽栅氧的底部、两个拐角、一个侧壁包围;所述第二N+源区被P‑well区、第二P‑base区屏蔽,与电流扩展区、N‑漂移区隔离。本发明有效抑制了高能带电粒子辐射导致的栅氧强电场,极大提高了沟槽型SiC MOSFET的抗单粒子栅穿能力。

    一种总剂量通用试验系统及方法
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116298615A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310197034.3

    申请日:2023-03-01

    Abstract: 一种总剂量通用试验系统及方法,系统包括试验架、电源和PC机;试验架包括可移动卡槽、第一线缆接口、可拆式电压表、第二线缆接口、轨道;可移动卡槽安装在轨道上,可移动卡槽承载待测试验板,可移动卡槽能够沿轨道移动;第一线缆接口位于可移动卡槽远离辐射源的一端,第一线缆接口与待测试验板的供电线缆相连;第二线缆接口通过电源线缆与电源相连;在第一线缆接口与第二线缆接口之间连接线缆;可拆式电压表并联在第一线缆接口与第二线缆接口之间;PC机控制电源的输出电压,并监控电源线缆的电流、记录电流数据并生成电流曲线。本发明试验系统体积小、通用性强、效率高、可靠性高、使用成本低。

Patent Agency Ranking