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公开(公告)号：CN114967365A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210538787.1
申请日：2022-05-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于投影物镜波像差绝对检测的测量装置和测量方法，检测装置包括光源及照明系统、滤波系统、被测投影物镜、球透镜、准直系统和波前传感器，沿所述的光源及照明系统输出空间非相干光方向依次是滤波系统、被测投影物镜、球透镜、准直系统、波前传感器，沿所述的滤波系统位于被测投影物镜的物方视场，滤波系统放置在光源及照明系统的衍射极限处，形成理想球面波，被测投影物镜与光源及照明系统的衍射极限处于共焦的位置，球透镜放在与被测投影物镜共焦的位置，准直系统与球透镜也处于共焦的状态；结合随机平均法标定出投影物镜波像差检测装置的系统误差，将系统误差从相对测量结果中剔除，从而提高波前测量精度。
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公开(公告)号：CN114740608A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210282522.X
申请日：2022-03-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种大视场高数值孔径投影光刻物镜，包括：第一透镜组，具有正光焦度；第二透镜组，具有负光焦度；第三透镜组，具有正光焦度；第四透镜组，具有负光焦度；第五透镜组，具有正光焦度；第六透镜组的具有正光焦度；所述第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组的光焦度的和为0；大视场高数值孔径投影光刻物镜共包含5个非球面透镜，每个非球面透镜包含一个非球面表面及一个球面表面；大视场高数值孔径投影光刻物镜最大像方数值孔径为0.82。本发明提供一种大视场高数值孔径投影光刻物镜，采用非球面以在实现系统高性能的同时降低结构复杂度，缩短光学系统结构长度，提高系统性能。
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公开(公告)号：CN113917646A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111291431.4
申请日：2021-11-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种动镜三自由度微调装置，该装置包括：驱动单元、执行单元、柔性铰链、镜片座及外镜筒。驱动单元和执行单元安装在外镜筒上，柔性铰链与执行单元连接，柔性铰链与镜片座连接。驱动单元带动执行单元调整镜片座运动。电机产生的驱动力经过杠杆机构放大，带动柔性铰链机构的三个运动点位置变化，从而带动镜片座运动。当三个驱动器同步运动时，实现Z向位移调节；三个驱动器差动调节时，实现相应的θx、θy调节。本发明提供的动镜三自由度微调装置调节精度高，重复性好，且易于安装调节。
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公开(公告)号：CN103837966B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201410076488.6
申请日：2014-03-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B13/18
Abstract: 本发明公开了一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜，其采用了双远心、28片4组对称结构，其中使用了2个低阶非球面。本设计的像方有效视场可以达到132×132mm，像方数值孔径能提高至0.17以弥补国内光学加工所造成的分辨率下降问题，能显著提高国产大面积平板光刻机的成像质量和生产效率。
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公开(公告)号：CN102889980B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201210390365.0
申请日：2012-10-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅剪切干涉检测系统的微透镜定焦检测方法，属于光学检测技术领域，该方法利用郎奇光栅的0级和1级衍射光干涉产生的条纹完成对微透镜的定焦测量：平行光经过郎奇光栅时，由于光栅的衍射效应产生0级和1级衍射光斑；根据衍射光波前相位变化，当光栅位于微透镜焦面上时，光斑重叠区域没有干涉条纹；当光栅位于离焦位置时，光斑重叠区域将由于位相差异产生干涉条纹；通过不同离焦位置的条纹周期变化，即可计算光栅的离焦量从而完成微透镜的定焦测量。本发明根据物理光学理论，定量分析光栅离焦量与条纹周期的关系，通过光栅在焦前和焦后两次离焦时条纹周期的不同，计算两次离焦量，从而完成微透镜及其阵列元件的定焦。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104199175A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410477962.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜由26片透镜组成，物镜分辨力1.5μm，放大倍率为-1.25倍，曝光视场132mm×132mm。本投影曝光物镜采用4面非球面校正系统场曲、畸变和波像差；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
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公开(公告)号：CN104198164A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410479415.1
申请日：2014-09-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G02B7/28 , G02B3/0006 , G02B21/008 , G03F7/70258 , G03F9/7026
Abstract: 本发明涉及一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。利用微透镜阵列对携带有硅片位置信息的波前进行检测，根据哈特曼波前检测原理，微透镜阵列的各个子单元将球面波波前分割，并成像于各自的焦面上。当硅片位于焦面位置时，微透镜阵列入射波前为平面波，衍射光斑位于微透镜阵列各个子单元的焦点上；当硅片存在离焦时，微透镜阵列入射波前为球面波，衍射光斑在微透镜阵列焦面上产生偏移。根据哈特曼波前检测原理，通过微透镜阵列对平面和球面波前成像光斑偏移，即可完成球面波前检测，从而完成硅片离焦测量。该检焦系统结构简单、精度和效率较高，适用于各类光刻机的高精度、实时性检焦测量。
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公开(公告)号：CN102607820B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201210098272.0
申请日：2012-04-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明是一种微透镜阵列焦距测量方法。微透镜阵列的各个子单元将球面波波前分割，并成像于各自的焦面上；分析成像原理，各个被分割的波面法线方向经过各个子孔径的中心、焦面上的光斑中心和球面波波前的汇聚中心；通过确定汇聚球面波波前的汇聚中心，测量微透镜阵列各个子单元的光斑中心与光轴的偏移量，可完成对各个子单元焦距的测量。该方法一次图像采集和处理可完成多个子单元焦距的测量，具有较高的测量效率和测量精度，可用于阵列数较多的微透镜阵列的检测。
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公开(公告)号：CN103837967A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410076527.2
申请日：2014-03-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜，其采用了双远心、25片4组结构，其中使用了5个低阶非球面来平衡像差。物镜的像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可以达到0.17。经过面型优化和微调后，能有效地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题。
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公开(公告)号：CN103837966A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410076488.6
申请日：2014-03-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B13/18
Abstract: 本发明公开了一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜，其采用了双远心、28片4组对称结构，其中使用了2个低阶非球面。本设计的像方有效视场可以达到132×132mm，像方数值孔径能提高至0.17以弥补国内光学加工所造成的分辨率下降问题，能显著提高国产大面积平板光刻机的成像质量和生产效率。
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