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公开(公告)号：CN113721313B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202110918058.4
申请日：2021-08-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种低吸收低热畸变薄膜及其制备方法，包括基础膜系选择、膜系优化、基板的超声清洗、基板的真空离子束清洗、离子束溅射制备薄膜、退火后处理；将膜系分为低吸收控制层和低热畸变控制层两部分分别优化的膜系优化方法，并通过镀膜前的基板处理及镀膜后的退火后处理降低薄膜内部的吸收性缺陷，使用双离子束溅射的沉积方式并通过沉积过程中的参数调控进一步改善薄膜的热畸变。本发明可以在整个工艺流程上获得和保障反射率大于99.995％的高反射膜，同时与普通工艺制备出的薄膜相比吸收降低99％。采用本发明制备出的薄膜在长时间工作下损耗低，具有工艺重复性好、可控性强、可靠性高等优点，适用于引力波探测、激光陀螺等高精度测量和高稳定性光学系统的使用。
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公开(公告)号：CN112267098B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010928969.0
申请日：2020-09-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及空间激光薄膜制备方法。该方法提出一种制备空间激光薄膜的全流程技术方案，包括去除基底表面污染物和亚表面缺陷、增加抗辐照保护层，基底上镀膜，明确了各环节的技术方案和实现途径，使用本发明制备的薄膜，基底表面及亚表面缺陷大大减少，薄膜折射率可达到体材料水平，在大气‑真空环境下光谱偏移小，也不易受到空间粒子辐照的影响，并且具有较高的激光损伤阈值，改善了常规激光薄膜不适用于空间环境的情况。
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公开(公告)号：CN112733375A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202110056317.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G06F30/20
Abstract: 一种基于多波长效应下的薄膜元件时域动态电场仿真方法，包括：计算单波长的时域动态电场，测试实际入射的激光脉宽和光谱，在波长域上对各频率分量的时域电场进行叠加。本方法能够弥补传统膜系设计软件电场计算的不足，准确得到薄膜元件在超短激光脉冲作用下的实际电场分布，为后续设计高抗损伤性能的薄膜元件提供了有效的分析模型。
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公开(公告)号：CN111999912A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010870803.8
申请日：2020-08-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法。通过在单层膜表面刻蚀周期性微结构形成折射率可调谐薄膜结构，其结构由下而上依次是致密膜层和周期性微结构膜层，致密膜层的折射率等于薄膜材料自身折射率，周期性微结构膜层的折射率与微结构参数相关。表面微结构相当于一个折射系数连续变化的介质层，介质层的等效折射系数小于薄膜材料折射率，通过调控介质层的等效折射率即可调控薄膜的整体折射率。制备方法包括：(1)基底表面镀制薄膜；(2)清洁膜面，在膜面上旋涂光刻胶；(3)采用双光束干涉对样品进行曝光；(4)显影得到所需的掩膜图样；(5)采用反应离子束刻蚀技术将掩膜图样转移至薄膜上；(6)清洁刻蚀产生的残留物。本发明通过调控薄膜中的纳米微结构高度、占空比来控制空气在薄膜中的占比，从而做到薄膜材料的折射率可调控。本发明具备极宽的折射率调控范围(从空气层折射率到薄膜材料自身折射率)，且工艺简单，可重复强。
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