公开(公告)号：CN106163741B

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：CN201580017776.7

申请日：2015-03-17

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 丝山光纪 ,  高桥大介

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  C08G18/00 ,  C08G18/10 ,  H01L21/304 ,  C08G101/00

Abstract: 本发明提供一种能够对被研磨物赋予高平坦性、且也能够抑制划痕的产生的研磨垫以及其制造方法。研磨垫在表面具有包含独立气泡和连续气泡的发泡聚氨酯片，所述发泡聚氨酯片以满足以下要件(1)～(3)的方式构成：(1)连续气泡率，即将独立气泡和连续气泡的合计体积设为100体积％时的连续气泡的体积比例为20～80体积％，(2)吸水状态下的损耗系数tanδ与干燥状态下的损耗系数tanδ的比[tanδ(湿/干)比]依照JIS K7244‑4以初期载荷20g、测定频率1Hz、温度26℃、拉伸模式、变形范围0.01～0.1％进行测定时为1.3～1.7，以及(3)肖氏DO硬度依照ASTM D2240测定时为60～80。

公开(公告)号：CN103563056B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201280025414.9

申请日：2012-04-16

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 糸山光纪 ,  宫泽文雄

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/24 ,  C08J5/14

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  C08G18/10 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/7621 ,  C08G2101/0008 ,  C08J9/12 ,  C08J2207/00 ,  C08J2375/04 ,  H01L21/304 ,  C08G18/3814 ,  C08G18/4829

Abstract: 本发明提供一种研磨垫及其制造方法，其改善在使用习知的硬质(干式)研磨垫的情况下产生的划痕问题，且研磨垫的研磨速率或研磨均匀性优异，不仅可应对一次研磨，亦可应对最后研磨。本发明的半导体器件研磨用研磨垫含有研磨层，该研磨层具有包含大致球状气泡的聚氨基甲酸酯聚脲树脂发泡体，其特征在于：聚氨基甲酸酯聚脲树脂发泡体的M成分的自旋-自旋弛豫时间T2为160μs～260μs，聚氨基甲酸酯聚脲树脂发泡体在40℃、初始负荷10g、应变范围0.01％～4％、测定频率0.2Hz、拉伸模式下的储藏弹性模数E′为1MPa～30MPa，且聚氨基甲酸酯聚脲树脂发泡体的密度D在0.30g/cm3～0.60g/cm3的范围内。

公开(公告)号：CN103930975A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201280055965.X

申请日：2012-10-12

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 糸山光纪 ,  宫泽文雄

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/20 ,  B24B37/24 ,  C08G18/32

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/3814 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/7621 ,  C08G2101/00 ,  C08G2101/0066 ,  C08K2201/005 ,  H01L21/31053 ,  C08G18/10 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/6685

Abstract: 提供一种研磨垫及其制造方法，研磨垫可改善使用之前的硬质(干式)研磨垫时产生的刮痕的问题，且研磨速率或研磨均匀性优异，不仅可满足一次研磨而且亦可满足精加工研磨。本发明是一种半导体装置研磨用的研磨垫，研磨垫具备研磨层，研磨层具有包含大致球状气泡的聚胺基甲酸酯聚脲树脂成形体，研磨垫的特征在于：聚胺基甲酸酯聚脲树脂成形体的独泡率为60％～98％，聚胺基甲酸酯聚脲树脂成形体的损失弹性模数E″相对于储存弹性模数E′的比例(损失弹性模数/储存弹性模数)tanδ为0.15～0.30，储存弹性模数E′为1MPa～100MPa，且聚胺基甲酸酯聚脲树脂成形体的密度D为0.4g/cm3～0.8g/cm3。

公开(公告)号：CN116887947A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202280015016.2

申请日：2022-02-18

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  糸山光纪 ,  関谷仁志 ,  小池坚一 ,  高见沢大和

IPC: B24B37/26

Abstract: 本发明可抑制对研磨性能的影响，并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12，在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度，所述环状槽11中，形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽，而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而，通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。

公开(公告)号：CN116867606A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202280015279.3

申请日：2022-03-29

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  栗原浩 ,  山口早月 ,  高见沢大和 ,  越智恵介 ,  川崎哲明

IPC: B24B37/24

Abstract: 一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。

公开(公告)号：CN110536775B

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN201880025797.7

申请日：2018-05-17

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 中濑惠介

IPC: B24B37/26 ,  B24B37/00 ,  B24B37/12 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 研磨垫，其具备基材、和配置于该基材上的树脂部，该树脂部单独或与上述基材共同构成凹凸图案，上述凹凸图案为具有研磨面的多个凸部排列而成的图案，在上述基材表面的每单位面积(1cm2)中，对上述凸部施加500g/cm2的研磨压力时的上述研磨面的总面积为0.05～0.8cm2，凸部的斜边与底边所成的角θ为5～60°。

公开(公告)号：CN111936268B

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN201980023988.4

申请日：2019-03-19

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 松冈立马 ,  栗原浩 ,  鸣岛早月 ,  高见沢大和

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/10 ,  C08G18/38 ,  C08G18/48 ,  C08G18/76 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种经时研磨速率的稳定性高的研磨垫及其制造方法。研磨垫，包括具有聚氨基甲酸酯片的研磨层，其中在水浴中浸泡3天的湿润状态的所述聚氨基甲酸酯片在初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值wet与未浸泡在水浴中的干燥状态的所述聚氨基甲酸酯片的初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值dry之间的tanδ峰值变化率为15％以下。tanδ峰值变化率＝|tanδ峰值wet‑tanδ峰值dry|/tanδ峰值dry×100。

公开(公告)号：CN114450126A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080067955.2

申请日：2020-09-18

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 松冈立马 ,  栗原浩 ,  鸣岛早月 ,  高见沢大和

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/26 ,  B24B37/013 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明在被研磨物的研磨加工时防止终点检测用窗自研磨层脱落。具有终点检测用窗3B的研磨层3C如以下那样制造。首先，将成为终点检测用窗的聚合物与硬化剂混合后，使两者的混合物流入模具99中来制作柱状原材料100(图4(a))。其次，调整柱状原材料100的外周面的粗糙度，在外周面形成多个凹凸(图4(b))。继而，在将柱状原材料100收容于模框101内的状态下，使将预聚物与硬化剂混合而成的混合物流入模框101中并凝固，而制作聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102(图4(c))。继而，若将聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102以成为所需的厚度的方式水平地切断来制作片状构件103，则所述片状构件103成为具有终点检测用窗(3B)的研磨层(3C)(图4(d))。

公开(公告)号：CN111051002B

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN201880057479.9

申请日：2018-10-09

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 广田幸史 ,  前田敏秀 ,  久米贵宏

IPC: B24B37/30 ,  H01L21/304

Abstract: 保持垫，其为具备树脂片材的保持垫，所述树脂片材具有用于保持被研磨物的保持面，其中，下述式(1)表示的、乙醇向上述保持面的渗透速度为1.0～2.0度/秒。渗透速度＝(C0‑C20)/20···(1)C0：刚向上述保持面滴加乙醇后的、上述乙醇与上述保持面的接触角，C20：从滴加上述乙醇起20秒后的、上述乙醇与上述保持面的上述接触角。

公开(公告)号：CN105102188B

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201480013724.8

申请日：2014-02-27

Applicant: 国立大学法人九州大学 ,  富士纺控股株式会社

Inventor： 土肥俊郎 ,  濑下清 ,  高木正孝 ,  柏田太志

IPC: B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种研磨垫，所述研磨垫具有研磨构件，所述研磨构件具有研磨面，所述研磨构件含有具有膨胀特性的材料。