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公开(公告)号：CN112255820A
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN202011513541.6
申请日：2020-12-21
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；视角调控器件，其包括由多个谐衍射透镜子单元阵列排布而成的谐衍射透镜阵列，其中每个谐衍射透镜子单元与一个显示单元相对应，所述谐衍射透镜阵列的谐衍射透镜子单元被分成多组，同一组谐衍射透镜子单元射出的光线会汇聚成同一个视点，不同组谐衍射透镜子单元射出的光线会汇聚成的不同视点。这样，不仅可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，还可以提高光的利用效率。
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公开(公告)号：CN107908086B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN112132948A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910490271.2
申请日：2019-06-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。
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公开(公告)号：CN111290217A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
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公开(公告)号：CN111123608A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292758.1
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，电致变色像素阵列包括电致变色单元，电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，彩色结构层包括横向排布的RGB结构单元或RGBW结构单元；其中，第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，并在电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111123602A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292766.6
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，并在电致变色像素阵列中的电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备，节约了生产成本、提高了产品质量。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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公开(公告)号：CN118417683A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310080615.9
申请日：2023-02-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B23K26/046 , H01L31/18 , H01L31/0224 , B23K26/064
Abstract: 本发明涉及一种光伏电池片电极及其制作方法和制作装置、以及应用。光伏电池片电极的制作装置包括激光源、准直光束产生单元和光束聚焦单元；准直光束产生单元位于激光源的出光侧，用于将激光源射出的激光束转换成准直光束并投射至光束聚焦单元；光束聚焦单元位于准直光束产生单元的出光侧，用于将准直光束聚焦至待光刻电池片上。应用本发明的制作装置制作光伏电池片电极时，不需要多组空间光调制器、投影光学系统和照明光学系统，因此装置研制成本成倍下降；不需要数据处理和多路光路重叠对准，因而提升了制作可靠性和效率；可实现较高深宽比例如3μm～20μm线宽、1μm～20μm深、深宽比为0.3～2的电极图形沟槽的光刻，从而获得较为优质的光伏电池片电极。
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公开(公告)号：CN118330993A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202310034683.1
申请日：2023-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括：掩模版、基片及多个光学头，每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组，光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置，掩模投影光学模组为反向成像模组，投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配，各个光学头可以并行扫描曝光，解决单个光学头视场有限的问题，原理上幅面不受限制，且本发明光路实施可行性高，可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形，易于加工实现，且降低生产应用成本。
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公开(公告)号：CN116190465A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202111418131.8
申请日：2021-11-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L31/0224 , H01L31/06 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种太阳能电池及其制备方法。所述太阳能电池包括：太阳能电池模组；贴附于所述太阳能电池模组的一侧表面上的电极薄膜，所述电极薄膜包括：透明基层、透明压印层和形成于所述透明压印层内或所述透明压印层一侧表面的导电材料层，所述导电材料层与所述太阳能电池模组电性连接以形成所述太阳能电池模组的电极；其中，所述电极薄膜和所述太阳能电池模组通过层压贴合。这样得到的太阳能电池具备高透过率，光电转换效率高，同时该制备方法，可方便的进行批量生产，成本低。
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