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公开(公告)号:CN113631994B
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202080025809.3
申请日:2020-03-27
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式涉及具备能够解决各种技术问题的新的器件结构的可变相位器件。该可变相位器件具备排列成一维或二维并且各自进行发光或光调制的M(M为2以上的整数)个像素。M个像素的排列周期低于入射光的波长并且沿着规定方向为恒定。M个像素各自包含分别具有将射出光的相位设为可变的结构的N(N为2以上的整数)个子像素。在M个像素的各个中,从N个子像素输出的N条部分光束在远场被合成为具有单一相位的光。
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公开(公告)号:CN112119548B
公开(公告)日:2023-11-28
申请号:CN201980032040.5
申请日:2019-05-14
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式关于一种包含在构成一维排列或二维排列的多个像素分别调制相位的反射型超颖表面的发光器件。该发光器件具备面发光激光元件、导光层、超颖表面。超颖表面具有:透光层,其包含电介质层;一金属膜,其设置于透光层的一面上;及另一金属膜,其设置于透光层的另一面上。相当于多个像素的多个单位区域的各个中,透光层的一部分包含未被金属膜覆盖而露出的部分。各单位区域的宽度及透光层的厚度小于输入至超颖表面的激光的波长。超颖表面在各单位区域分别调制激光的相位。经调制后的激光自第1光输出面输出。
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公开(公告)号:CN110546564B
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN201880026748.5
申请日:2018-06-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式涉及能够降低半导体发光元件对从空间光调制元件输出的调制后的光产生的衰减或衍射作用的发光装置,该发光装置包括从光输出面输出光的半导体发光元件,和对该光进行调制的反射型的空间光调制元件。空间光调制元件包括面积比半导体发光元件的光输入面大的光入射出射面,对经由光输入输出面中的与半导体发光元件的光输出面相对的区域取入的光进行调制,将调制后的光从该光输入输出面中的其他的区域输出到半导体发光元件的光输入面以外的空间。
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公开(公告)号:CN111448725B
公开(公告)日:2023-03-31
申请号:CN201880078807.3
申请日:2018-11-28
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/18
Abstract: 本实施方式涉及一种分别关联的不同折射率区域的重心位置与晶格点的位置关系与现有的发光装置不同的发光装置及其制造方法。在该发光装置中,在基板上设置有包含发光部和与该发光部光学耦合的相位调制层的层叠体。相位调制层包含基本层和设置于该基本层内的多个不同折射率区域。各不同折射率区域的重心位置配置于通过设定于基本层的设计面上的假想的正方晶格的晶格点中的对应的基准晶格点的假想直线上。另外,基准晶格点与不同折射率区域的重心的沿该假想直线的距离以从该发光装置输出形成光学图像的光的方式对多个不同折射率区域的各个个别地设定。
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公开(公告)号:CN112136077A
公开(公告)日:2020-12-25
申请号:CN201980031940.8
申请日:2019-05-14
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: G02F1/01
Abstract: 一实施方式所涉及的反射型动态超颖表面具备用于在至少构成一维排列的多个像素的各个中能够进行相位调制的结构。该超颖表面具备具有透明导电层及电介质层的层叠结构体;设置于层叠结构体的一方的面上的第1金属膜、设置于层叠结构体的另一方的面上的第2金属膜、及控制向第1及第2金属膜间施加的电压的驱动电路。第1及第2金属膜以夹着构成一维排列的多个像素的方式配置。第1金属膜以在1个像素中露出一对窗区域的方式配置,第2金属膜包含规定像素各自的形状并且相互分离的多个部分金属膜。驱动电路通过个别地控制部分金属膜各自的电位,而在每个像素调制所输入的光的相位。
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公开(公告)号:CN112119548A
公开(公告)日:2020-12-22
申请号:CN201980032040.5
申请日:2019-05-14
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式关于一种包含在构成一维排列或二维排列的多个像素分别调制相位的反射型超颖表面的发光器件。该发光器件具备面发光激光元件、导光层、超颖表面。超颖表面具有:透光层,其包含电介质层;一金属膜,其设置于透光层的一面上;及另一金属膜,其设置于透光层的另一面上。相当于多个像素的多个单位区域的各个中,透光层的一部分包含未被金属膜覆盖而露出的部分。各单位区域的宽度及透光层的厚度小于输入至超颖表面的激光的波长。超颖表面在各单位区域分别调制激光的相位。经调制后的激光自第1光输出面输出。
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公开(公告)号:CN110546564A
公开(公告)日:2019-12-06
申请号:CN201880026748.5
申请日:2018-06-13
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式涉及能够降低半导体发光元件对从空间光调制元件输出的调制后的光产生的衰减或衍射作用的发光装置,该发光装置包括从光输出面输出光的半导体发光元件,和对该光进行调制的反射型的空间光调制元件。空间光调制元件包括面积比半导体发光元件的光输入面大的光入射出射面,对经由光输入输出面中的与半导体发光元件的光输出面相对的区域取入的光进行调制,将调制后的光从该光输入输出面中的其他的区域输出到半导体发光元件的光输入面以外的空间。
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公开(公告)号:CN110383609A
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201880016036.5
申请日:2018-03-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式所涉及的半导体发光模块包括分别输出所期望的光束投影图案的光的多个半导体发光元件和保持该多个半导体发光元件的支承基板,多个半导体发光元件分别包括用于使目标光束投影图案形成于目标光束投影区域的相位调制层,多个半导体发光元件包括光束投影方向、目标光束投影图案和发光波长中的至少任一者不同的第1和第2半导体发光元件。
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公开(公告)号:CN109690890A
公开(公告)日:2019-04-26
申请号:CN201780054735.4
申请日:2017-08-31
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01S5/183
Abstract: 本实施方式涉及一种具有能够从S-iPM激光器的输出光中除去0次光的结构的半导体发光元件等。该半导体发光元件包括活性层、一对覆盖层和相位调制层。相位调制层包括基本层和各自单独地配置于特定位置的多个差异折射率区域。一对覆盖层的一层具有分布布拉格反射层,其具有对相对于光出射面的倾斜方向的特定光像的透过特性和对沿光出射面的法线方向输出的0次光的反射特性。
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公开(公告)号:CN104106184B
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201280069122.5
申请日:2012-11-07
Applicant: 国立大学法人京都大学 , 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01L33/105 , H01L2933/0083 , H01S5/0425 , H01S5/105 , H01S5/18 , H01S5/183 , H01S2301/02 , H01S2301/176
Abstract: 本发明的半导体发光元件,具备电极(8)、活性层(3)、光子晶体层(4)、电极(9),活性层(3)和电极(8)之间、以及活性层(3)和电极(9)之间彼此导电类型不同,电极(8)具有开口部(8a),电极(8)、活性层(3)、光子晶体层(4)、电极(9)沿X轴层叠,X轴通过从该X轴的轴线方向看到的开口部(8a)的中央部(8a2),电极(9)具有从X轴的轴线方向看位于Y轴方向的相反方向的端部(9e1)、和位于Y轴方向的端部(9e2),开口部(8a)具有从X轴看位于Y轴方向的相反方向的端部(8e1)和位于Y轴方向的端部(8e2),电极(9)的端部(9e1)和开口部(8a)的端部(8e1),从X轴的轴线方向看大致一致。
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