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公开(公告)号：CN105324511A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201480035328.5
申请日：2014-05-01
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L27/3244 , H01L51/5012
Abstract: 本发明提供能够抑制模糊宽度增大并且缩短成膜时间的有机EL元件的制造方法和有机EL显示装置。本发明是使用扫描蒸镀法的有机EL元件的制造方法，其特征在于，以与限制板的各开口部相对的方式在蒸镀源设置多个射出口，将与同一开口部相对的多个射出口相互分离地配置，使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下。Ri表示与同一开口部相对的多个射出口中的射出口i的最大成膜速率，i表示1以上m以下的整数，m表示与同一开口部相对的多个射出口的个数，ri表示蒸镀工序中的射出口i的实际的成膜速率，ni为射出口i的n值(0以上的数)，θi表示将射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主成膜方向所成的角。
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公开(公告)号：CN103270815B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180062668.3
申请日：2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H05B33/10 , C23C14/04 , C23C14/24 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/06 , H05B33/26
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/0008
Abstract: 本发明的蒸镀方法包括：准备工序，准备固定蒸镀掩模（81）与蒸镀源（85）的相对位置的掩模单元；蒸镀工序，使上述掩模单元和被成膜基板（200）中的至少一个相对移动，使从蒸镀源（85）射出的蒸镀流蒸镀在蒸镀区域（210）；和闸门位置调整工序，调整第二闸门（111）的位置，以遮蔽流向不需蒸镀区域（210）的蒸镀流。
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公开(公告)号：CN103270189B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201180061824.4
申请日：2011-12-19
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/45578 , C23C14/24 , C23C14/243 , H01L21/02263 , H01L51/001 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 本发明的蒸镀装置（50）是对被成膜基板（60）进行成膜的蒸镀装置，其具备：具有射出蒸镀颗粒的射出口（81）的蒸镀源（80）；向蒸镀源（80）供给蒸镀颗粒的蒸镀源坩埚（82）；通过使蒸镀源（80）旋转来使蒸镀颗粒的射出量的分布发生变化的旋转电动机（86）。
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公开(公告)号：CN103238374B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201180058041.0
申请日：2011-12-15
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/45578 , H01L27/3244 , H01L51/0011
Abstract: 依次配置有蒸镀源(60)、限制板单元(80)、蒸镀掩模(70)。限制板单元具备沿一个方向配置的多个限制板(81)。限制板单元的规定限制空间(82)的面(83)和限制板单元的与蒸镀源相对的面(84)中的至少一部分，由相对于基部(85)能够装卸的至少一个外面部件(110、120)构成。由此，能获得能够在大型的基板上形成端缘的模糊受到抑制的覆膜的维护性优良的蒸镀装置。
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公开(公告)号：CN103189542B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201180052599.8
申请日：2011-10-11
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L22/20 , C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/54 , H01L27/3211 , H01L51/001 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 在使基板(10)相对于蒸镀掩模(70)以隔开固定间隔的状态相对移动的同时，使从蒸镀源(60)的蒸镀源开口(61)放出的蒸镀颗粒(91)依次通过控制板单元(80)具有的多个控制板(81)间的空间和蒸镀掩模的掩模开口(71)并附着在基板上形成覆膜(90)。检测蒸镀源和控制板单元间的热膨胀量差并对该热膨胀量差进行校正。由此，能够在大型基板上的期望位置形成抑制了端缘的模糊及其偏差的覆膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103415645A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201280012934.6
申请日：2012-03-07
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/448 , C23C14/042 , C23C14/243 , H01L51/0003 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀颗粒射出装置(30)包括设置有第一喷嘴部和第二喷嘴部(50、60)的中空的旋转体(40)、旋转机构和热交换器(52、62)，当通过旋转机构使旋转体(40)旋转时，热交换器(52、62)与各喷嘴部的配置相应地切换冷却和加热，使面向外部的喷嘴部比蒸镀材料成为气体的温度低，使另一喷嘴部成为蒸镀材料成为气体的温度以上的温度。
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公开(公告)号：CN103340013A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201280007201.3
申请日：2012-03-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/45578 , H01L51/0011
Abstract: 具备：蒸镀源（60），该蒸镀源（60）具备放出蒸镀颗粒（91）的多个蒸镀源开口（61）；限制单元（80），该限制单元（80）具备多个限制开口（82）；和蒸镀掩模（70），该蒸镀掩模（70）仅在分别通过多个限制开口的蒸镀颗粒到达的多个蒸镀区域（72）内形成有多个掩模开口（71）。多个蒸镀区域，沿与基板（10）的法线方向和基板的移动方向正交的第二方向，夹着蒸镀颗粒不到达的非蒸镀区域（73）配置。在沿基板的法线方向看时，相对于与第二方向平行的直线上的非蒸镀区域，在基板的移动方向上的不同位置，形成有蒸镀颗粒通过的掩模开口。由此，能够在基板上的期望的位置稳定地形成端缘的模糊被抑制的蒸镀覆膜。
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公开(公告)号：CN103328681A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201280005720.6
申请日：2012-01-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/448 , C23C14/243 , C23C16/042 , G03B37/06 , H01L51/0008
Abstract: 本发明的坩埚（50）具备：对被成膜基板射出蒸镀颗粒的开口部（55a）；在与开口部（55a）相对的位置设置，对从开口部（55a）射出的蒸镀颗粒进行反射的焦点部件（54a）；和将由焦点部件（54a）反射后的蒸镀颗粒向被成膜基板反射的旋转抛物面（55b）。
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公开(公告)号：CN103299712A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201280004717.2
申请日：2012-01-12
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/5036 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L27/3276 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L2227/323
Abstract: 一种TFT基板（10），利用蒸镀装置（50）在TFT基板（10）上形成蒸镀层，蒸镀装置（50）具有：具备射出口（86）的蒸镀源（85）；和具备从射出口（86）射出的蒸镀颗粒通过的开口部（82）的蒸镀掩模（81），蒸镀颗粒通过开口部（82）被蒸镀而形成蒸镀层，TFT基板（10）具有二维地排列有多个像素的像素区域（AG），与各像素电连接的多条配线（14）的端子汇集到蒸镀层的形成区域外。
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公开(公告)号：CN103282543A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201280004309.7
申请日：2012-03-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/5012 , C23C14/042 , C23C14/243 , C23C14/564 , H01L51/0011 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 从至少1个蒸镀源开口（61）放出的蒸镀颗粒（91），通过限制单元（80）的多个限制开口（82）和蒸镀掩模（70）的多个掩模开口（71），附着在沿第二方向（10a）相对移动的基板（10）上形成覆膜。限制单元包括叠层的多个板材。由此，能够高效率并且低成本地在大型基板上形成端缘的模糊被抑制的蒸镀覆膜。
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