一种双激光干涉纳米级定位测量系统

    公开(公告)号:CN113418453A

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN202110721179.X

    申请日:2021-06-28

    Abstract: 本发明公开了一种双激光干涉纳米级定位测量系统,包括:光源、第一分束棱镜、第一直角棱镜、第二直角棱镜、第二分束棱镜、标量干涉光采集模块、矢量干涉光采集模块和位移计算模块。本发明中的光电探测器采集待测物体位置移动过程中的反射干涉光的光强,并生成周期性的光强变化曲线,CCD相机采集待测物体位置移动前后的涡旋干涉光电的图像,根据光强变化曲线的整数周期与待测物体位置移动前后的涡旋干涉光的图像的变化的角度计算待测问题的位移量,光电探测器采集的反射干涉光为标量信号,CCD相机采集的涡旋干涉光为矢量信号,将二者综合计算位移量,在提高测量的分辨率的同时实现了干涉信号的快速采集与解调。

    一种多维纳米位移装置
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111739830A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010719317.6

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本发明公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。

    用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置

    公开(公告)号:CN110208936A

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201910468723.7

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置,由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节,由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节,通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性,以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷,并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用,以应用于相应需求场合。本发明通过控制器控制其进行纳米微位移调节,可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好,从而使调节精度得到保障,实用性强。

    用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置

    公开(公告)号:CN209962001U

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201920818267.X

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本实用新型公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置,由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节,由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节,通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性,以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷,并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用,以应用于相应需求场合。本实用新型通过控制器控制其进行纳米微位移调节,可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好,从而使调节精度得到保障,实用性强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种表面微观形貌测量传感器

    公开(公告)号:CN211696278U

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN202020562698.7

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本实用新型通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构

    公开(公告)号:CN212207832U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202020635834.0

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本实用新型公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构,主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置,能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直,通过移动可变光阑上的拨杆,能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围,通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉,能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调,紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下,互相配合,共同作用,从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种多维纳米位移装置
    38.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212209444U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202021474545.3

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪

    公开(公告)号:CN212158499U

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202020564296.0

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪,垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置,移动架竖向滑动连接于固定架上,移动架上设置针杆,移动架的底板上设有导向装置,导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动,针杆的底端固定设置有触针,针杆穿过导向装置,触针贯穿移动架的底板,位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离;表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本实用新型中,触针与针杆在导向装置的作用下,测量过程中始终与工件表面垂直,操作简便、测量精准程度高。

    一种用于长度测量校准的标准器组

    公开(公告)号:CN208432233U

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201820913070.X

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于长度测量校准的标准器组,其包括底座、支撑棒和标准球,所述底板上设置有若干通孔,所述支撑棒的一端设置在所述通孔中,所述支撑棒的另一端设置有一球窝,所述标准球设置在所述球窝内,所述标准球与所述球窝底面之间设置有粘接剂。本实用新型中采用在棒的顶端加工球窝,并通过粘接剂将标准球进行固定的方式,使得不对标准球进行任何破坏性加工,避免了标准球上破损导致测量结果准确性降低的问题,使得CT测量过程中可以充分利用整个球面,提高了测量结果的准确性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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