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公开(公告)号：CN1649109A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200410091294.X
申请日：2004-12-01
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/324 , H01L21/477 , H01L21/20 , B23K26/00
CPC classification number: H01L21/02691 , B23K26/0738 , C30B13/24 , C30B29/06 , H01L21/02678 , H01L21/02683 , H01L21/2026 , H01L29/04 , H01L29/78675
Abstract: 在用光束整形器把由调制器调制过的激光整形成细长形的光束时，使光束整形器整形为细长形的光束沿扫描方向的尺寸为2～10μm、2～4μm更好，扫描速度为300～1000mm/s、500～1000mm/s更好，从而使激光能源利用效率高，而且能够不易对硅薄膜产生损伤。这样，就能够以高产量在扫描照射激光的基板上的规定区域内得到横方向生长结晶(带状结晶)的区域。
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公开(公告)号：CN1649081A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200410097883.9
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/20 , H01L21/477 , B23K26/00
Abstract: 提供一种激光退火方法及激光退火装置。借助插入到光束整形器和基板之间的转像器的以光轴为中心的转动，将利用调制器进行时间调制、利用光束整形器整形为细长形状的光束的激光的纵向方向围绕光轴转动，在对基板上的多个方向进行退火时，使整形为细长形状的激光在基板上转动，承载基板的基座只在XY两个方向上移动。由此，就可以将进行过时间调制，并且整形为细长形状的连续振荡的激光，在不使基板转动的情况下进行高速扫描对半导体薄膜进行退火。
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公开(公告)号：CN100595638C
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200410003629.8
申请日：2004-02-04
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786 , G09G3/36
CPC classification number: H01L27/1296 , G02F1/13624 , G02F1/136277 , H01L27/1285 , H01L29/04 , H01L29/78621 , H01L29/78627
Abstract: 本发明的课题是实现构成驱动以矩阵状配置的像素部用的驱动电路的薄膜晶体管的高速化。在玻璃基板SUB上的显示区域DSP中以矩阵状配置多个像素PXL，在该显示区域DSP的周边配置由漏移位寄存器DSR、数模变换器DAC、漏电平移动器DLS、缓冲器BF、取样开关SSW构成的漏侧像素驱动电路、由栅移位寄存器GSR、栅电平移动器GLS等构成的栅侧像素驱动电路和各种电路。在每个电路中使构成这些像素驱动电路的高速工作所必要的电路区域SX的薄膜晶体管的电流迁移率最佳化，使多个布局和配置结构最佳化，在各电路中满足特有的规格。
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公开(公告)号：CN100592524C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200710166857.0
申请日：2007-10-22
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L27/12 , H01L23/522 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L29/4908 , G09G3/3233 , G09G2300/0842 , G09G2300/0861 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L27/3244 , H01L29/41733 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种图像显示装置及其制造方法，通过做成具有能够削减注入和光刻的工序数的结构的薄膜晶体管，缩短了制造所花费的时间。栅极电极(GT)具有薄的下层金属(GMB)与上层金属(GMT)的层叠结构，保持电容(Cst)部分的上层电极取为仅有下层金属(GMB)。而且，使保持电容(Cst)的下部电极用注入通过薄的下层金属(GMB)与源极/漏极的注入同时进行。(PMOSTFT)的栅极电极也取为仅有下层金属(GMB)，利用相同的抗蚀剂进行源极/漏极的注入和阈值调整注入。通过将薄膜晶体管和保持电容取为这样的结构，能够削减1个光刻工序和1个注入工序，能以更短的时间、更低廉的价格获得用于图像显示装置的有源矩阵基板。
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公开(公告)号：CN101345218A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810130304.4
申请日：2008-07-04
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/84 , H01L27/12 , G02F1/136 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L27/1266 , G02F1/133305 , H01L27/1214 , H01L27/1218 , H01L29/78603
Abstract: 本发明的课题在于提供一种采用转印方式在树脂基板上形成TFT的方法，所述方法不需降低操作温度，可以使用现有的生产线，同时能够抑制成本。本发明涉及一种半导体装置的制造方法，所述半导体装置的制造方法包含如下工序：在支承基板的上层形成树脂膜(a)的工序、在树脂膜(a)的上层形成半导体元件的工序、和从形成有半导体元件的树脂膜(a)上剥离支承基板的工序，其中，树脂膜(a)的膜厚为1μm以上30μm以下，波长400nm以上800nm以下的可见光的透过率为80％以上，重量减少3％的温度为300℃以上，熔点为280℃以上。
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公开(公告)号：CN101207164A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710198851.1
申请日：2007-12-14
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L31/112 , H01L27/144 , G09G3/00 , G02F1/1362 , H04N3/15
CPC classification number: H01L27/1214 , G09G2360/14 , H01L31/1136
Abstract: 本发明提供一种高灵敏度的光传感元件和传感器驱动电路，其利用平面工艺仅用多晶材料在绝缘膜基板上形成。用多晶硅膜制作光传感元件和传感器驱动电路这两者，作为光传感元件，利用具有在绝缘性基板(10)上形成的第一电极(11)、受光区域(14)、第二电极和在受光区域(14)上形成的第三电极(13)的TFT而形成光电晶体管，在第三电极(13)下方的两侧的区域(15和16)或一侧的区域(15或16)中设置接近本征层的杂质层(活性杂质浓度在1017cm－3以下)。
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公开(公告)号：CN101106162A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710112587.5
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L29/786 , H01L29/423 , H01L27/12 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L29/78612 , H01L27/12 , H01L29/42384
Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管，消除在顶层栅极型薄膜晶体管的岛状半导体薄膜的端部发生的、由在硅薄膜端部处的栅极电场的集中和硅薄膜端部附近的固定电荷引起的阈值偏差而导致的电流成分。在岛状半导体薄膜(SEMI－I)的源极侧或漏极侧的某一单侧，使栅电极(GT)沿着该岛状半导体薄膜(SEMI－I)的轮廓不间断地延伸而设置分支闭路(DET)，取消作为子沟道的岛状半导体薄膜(SEMI－I)的端部的电流成分路径。
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公开(公告)号：CN100347814C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200410097883.9
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/20 , H01L21/477 , B23K26/00
Abstract: 提供一种激光退火方法及激光退火装置。借助插入到光束整形器和基板之间的转像器的以光轴为中心的转动，将利用调制器进行时间调制、利用光束整形器整形为细长形状的光束的激光的纵向方向围绕光轴转动，在对基板上的多个方向进行退火时，使整形为细长形状的激光在基板上转动，承载基板的基座只在XY两个方向上移动。由此，就可以将进行过时间调制，并且整形为细长形状的连续振荡的激光，在不使基板转动的情况下进行高速扫描对半导体薄膜进行退火。
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公开(公告)号：CN100343951C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200410098335.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/324 , H01L21/336 , G02F1/136 , G09G3/36 , G09G3/38 , B23K26/00
CPC classification number: B23K26/073 , B23K26/702 , H01L27/14625
Abstract: 提供一种平面显示装置的制造装置。设有一直测定激光的空间强度分布及光轴的偏移的机构，入射到激光整形光学元件上的入射激光偏离了规定的条件时，对测定的信号进行处理，根据该处理结果，利用配置在光轴上的被插入构成光束放大器的透镜的焦点位置的空间滤波器，使入射到激光整形光学元件上的激光的光束形状、光束直径、入射位置一直保持预定的条件。因此，能在构成平面显示装置的显示面板的绝缘基板上，以高合格率稳定地形成有均匀的结晶性的硅薄膜。
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