-
公开(公告)号：CN117059526A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311246430.7
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 根据本发明的基板处理方法，其包括：基板保持工序，通过从基座的上表面向上方隔开间隔而水平地保持基板的基板夹具来保持基板；第一处理液供应工序，向被所述基板夹具保持的基板的上表面供应第一处理液；清洗液供应工序，向所述基座的上表面供应用于冲洗附着在所述基座上表面的第一处理液的清洗液，并且以使所述基座上的所述清洗液不与被所述基板夹具保持的基板的下表面相接触的方式，向所述基座的上表面供应所述清洗液；排除工序，从所述基座的上表面排除所述清洗液。
-
公开(公告)号：CN110114858B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201780080296.4
申请日：2017-11-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 太田乔
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 处理液供给装置对处理基板的处理单元供给处理液。处理液供给装置包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。
-
公开(公告)号：CN110192267B
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN201780083713.0
申请日：2017-11-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法，其目的在于，对基板的上表面整个区域供给药液并提高供给到基板的中央区域的药液的膜厚的均匀性。为了达成该目的，第一喷嘴喷出药液时的喷出方向是含有以下分量的方向：沿着第一液体接触位置的切线方向，且朝向上游侧的分量；以及沿着与切线正交的基板的径向，从第一液体接触位置朝向旋转轴的分量；第一喷嘴的药液的喷出速度在切线方向上的速度分量具有能够克服朝向下游侧的力而使该药液向上游侧流动的大小，喷出速度在径向上的速度分量具有能够克服离心力而使该药液向旋转轴侧流动的大小。当从第二喷嘴的上方观察时，第二喷嘴喷出药液时的喷出方向是含有以下分量的方向：沿着第二液体接触位置的切线方向，且朝向下游侧的分量。
-
公开(公告)号：CN108962788B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201810495772.5
申请日：2018-05-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理装置，具备：基板保持单元，将基板保持为水平；处理液供给单元，具有喷出处理液的处理液喷嘴，向基板的上表面供给处理液；移动单元，使处理液供给单元在处理液喷嘴与基板的上表面相对的处理位置和处理液喷嘴从与基板的上表面相对的位置退避的退避位置之间移动，处理液供给单元具有：第一流路，形成于处理液喷嘴，在处理液供给单元位于处理位置的状态下，一端部与基板的中央区域相对且另一端部与基板的外周区域相对；第二流路，从第一流路的一端部折返延伸，向第一流路的一端部供给处理液；多个喷出口，形成于处理液喷嘴，沿着第一流路延伸的方向排列，向基板的上表面喷出第一流路内的处理液。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112185851A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010634817.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
-
公开(公告)号：CN110192267A
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201780083713.0
申请日：2017-11-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法，其目的在于，对基板的上表面整个区域供给药液并提高供给到基板的中央区域的药液的膜厚的均匀性。为了达成该目的，第一喷嘴喷出药液时的喷出方向是含有以下分量的方向：沿着第一液体接触位置的切线方向，且朝向上游侧的分量；以及沿着与切线正交的基板的径向，从第一液体接触位置朝向旋转轴的分量；第一喷嘴的药液的喷出速度在切线方向上的速度分量具有能够克服朝向下游侧的力而使该药液向上游侧流动的大小，喷出速度在径向上的速度分量具有能够克服离心力而使该药液向旋转轴侧流动的大小。当从第二喷嘴的上方观察时，第二喷嘴喷出药液时的喷出方向是含有以下分量的方向：沿着第二液体接触位置的切线方向，且朝向下游侧的分量。
-
公开(公告)号：CN110071055A
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201811531441.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理方法对基板(W)进行处理。基板处理方法包含：利用磷酸液(Lp)对基板(W)进行处理的步骤、利用淋洗液(Lr)对基板(W)进行处理的步骤及利用含有氨的药液(Lc)对基板(W)进行处理的步骤。在利用淋洗液(Lr)对基板(W)进行处理后，利用药液(Lc)对基板(W)进行处理的步骤从利用磷酸液(Lp)对基板(W)进行了处理时形成在基板(W)上的磷扩散区域(PD)中去除磷扩散区域(PD)的深度方向上的一部分的厚度的膜。
-
公开(公告)号：CN119673836A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411175630.2
申请日：2024-08-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供基板搬送装置以及具备该基板搬送装置的基板处理装置。基板搬送装置能够隔开间隙地层叠并收容多张基板，且与在一侧面具有搬入搬出口的载体之间搬送所述基板，所述装置包括以下的要素。搬送部，其具有保持所述基板的保持手，通过使所述保持手从所述载体的所述搬入搬出口相对于所述基板间的间隙进退来搬送所述基板；获取部，其在所述载体收容有所述基板的状态下，获取在所述保持手的进退方向上从所述载体的搬入搬出口侧观察所述基板时的、所述基板的形状信息；以及基于所述形状信息控制所述搬送部的控制部，所述获取部通过从所述保持手的进退方向照射波长范围比可视光长的光而得到所述基板的形状信息。
-
公开(公告)号：CN114616649B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202080074806.9
申请日：2020-10-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/66
Abstract: 基板(WF)具有设置了成为功率器件的构造的多个芯片区域(RS)，并设置有被处理膜(501)。通过一边使基板(WF)旋转一边使传感器(81)在径向上进行扫描，测定径向上的被处理膜(501)的厚度分布。计算出厚度分布的平均厚度(davg)。提取厚度分布具有平均厚度(davg)的至少一个径向位置来作为至少一个候补位置。将至少一个候补位置中的至少一个决定为至少一个测定位置。一边使基板(WF)旋转一边自喷嘴(52)朝基板(WF)的被处理膜(501)上供给处理液。一边使基板(WF)旋转，一边通过传感器(81)在至少一个测定位置对被处理膜(501)的厚度的随时间的变化进行监视。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
58
records
(took 0.04 seconds)
