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公开(公告)号：CN111788668A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015141.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够对在规定位置交付基板进行可靠检测的基板搬运装置以及基板搬运方法。基板搬运装置包括：保持基板的保持部；使所述保持部相对于规定位置往复移动的往复机构；光学传感器，其在通过所述往复机构使所述保持部移动的路径上形成传感器区；以及控制部。控制部在基板的交付动作中对搬运异常进行判断。基板的交付动作包括通过所述往复机构将所述保持部趋向规定位置移动的前往动作，和所述保持部远离规定位置的返回动作。控制部在基板的交付动作中检测第1通过期间，在该第1通过期间与预先设定的第1正常期间不同时判断为搬运异常，该第1通过期间为所述保持部或者由该保持部保持的基板从所述传感器区通过的期间。
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公开(公告)号：CN111771261B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980014804.8
申请日：2019-02-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。首先，在腔室内执行作为预处理的第一处理。当第一处理结束后，通过热成像照相机(70)来测定腔室内的规定的对象区域(A)的温度。接着，基于所获取的测定温度信息(T1)来判断能否开始对基板(W)的第二处理。结果，在判断为能够开始第二处理的情况下，执行第二处理。如此，能够在腔室内的对象区域(A)的温度稳定的状态下，开始对基板(W)的第二处理。由此，能够对多个基板(W)均匀地进行第二处理。即，能够抑制由腔室内的温度环境引起的处理的不均。
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公开(公告)号：CN112840439B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201980067612.3
申请日：2019-09-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种较佳地进行基板的蚀刻处理的技术。基板保持台(20)将基板(W)保持于既定位置。蚀刻液供给部(37)及喷嘴(30)将蚀刻液供给至既定位置的基板(W)。旋转马达(22)使基板保持台(20)绕既定的旋转轴线(Ax1)进行旋转。热像仪(70)取得腔室(10)内的处理空间(TS1)的基板W配置于既定位置的情况下所占有的基板区域的周围的周边区域(PA1)的热像(温度分布)。特征值运算部(902)从热像算出特征值，特征值与使用了蚀刻液的蚀刻处理所致的蚀刻量相关。蚀刻判定部(9031)基于所算出的特征值来判定蚀刻处理的良否。
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公开(公告)号：CN112185851B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202010634817.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119297117A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202411394697.5
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
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公开(公告)号：CN112185851A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010634817.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
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公开(公告)号：CN111788668B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN201980015141.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够对在规定位置交付基板进行可靠检测的基板搬运装置以及基板搬运方法。基板搬运装置包括：保持基板的保持部；使所述保持部相对于规定位置往复移动的往复机构；光学传感器，其在通过所述往复机构使所述保持部移动的路径上形成传感器区；以及控制部。控制部在基板的交付动作中对搬运异常进行判断。基板的交付动作包括通过所述往复机构将所述保持部趋向规定位置移动的前往动作，和所述保持部远离规定位置的返回动作。控制部在基板的交付动作中检测第1通过期间，在该第1通过期间与预先设定的第1正常期间不同时判断为搬运异常，该第1通过期间为所述保持部或者由该保持部保持的基板从所述传感器区通过的期间。
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公开(公告)号：CN112840439A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201980067612.3
申请日：2019-09-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种较佳地进行基板的蚀刻处理的技术。基板保持台(20)将基板(W)保持于既定位置。蚀刻液供给部(37)及喷嘴(30)将蚀刻液供给至既定位置的基板(W)。旋转马达(22)使基板保持台(20)绕既定的旋转轴线(Ax1)进行旋转。热像仪(70)取得腔室(10)内的处理空间(TS1)的基板W配置于既定位置的情况下所占有的基板区域的周围的周边区域(PA1)的热像(温度分布)。特征值运算部(902)从热像算出特征值，特征值与使用了蚀刻液的蚀刻处理所致的蚀刻量相关。蚀刻判定部(9031)基于所算出的特征值来判定蚀刻处理的可否。
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公开(公告)号：CN111771261A
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201980014804.8
申请日：2019-02-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 首先，在腔室内执行作为预处理的第一处理。当第一处理结束后，通过热成像照相机(70)来测定腔室内的规定的对象区域(A)的温度。接着，基于所获取的测定温度信息(T1)来判断能否开始对基板(W)的第二处理。结果，在判断为能够开始第二处理的情况下，执行第二处理。如此，能够在腔室内的对象区域(A)的温度稳定的状态下，开始对基板(W)的第二处理。由此，能够对多个基板(W)均匀地进行第二处理。即，能够抑制由腔室内的温度环境引起的处理的不均。
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