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公开(公告)号：CN119852213A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510072039.2
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的开闭机构、切换机构以及衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN110800086B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN201880041589.6
申请日：2018-06-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理装置，包含：吸引单元，用以吸引存在于连通至喷出口的处理液配管的内部的处理液；以及控制装置。所述控制装置执行：吸引步骤，通过所述吸引单元吸引存在于所述处理液配管的内部的处理液。此外，所述控制装置在所述吸引步骤中选择性地执行：第一吸引步骤，使处理液的前端面后退，并使吸引后的处理液的前端面配置于所述处理液配管的内部中的预先设定的待机位置；以及第二吸引步骤，使处理液的前端面后退至比所述待机位置还后方。此外，所述控制装置在所述第二吸引步骤后进一步执行：待机位置配置步骤，通过所述处理液供给单元对所述处理液配管供给处理液，将处理液的前端面配置于所述待机位置。
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公开(公告)号：CN114429924A
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202111260217.2
申请日：2021-10-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明的衬底处理装置对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。
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公开(公告)号：CN113314437A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202110220015.9
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN112619272A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202010823739.8
申请日：2020-08-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够向处理单元供给颗粒含量少的净化地处理液。基板处理装置(1)包括：药液罐(30)；与药液罐连接的第一循环配管(31)；泵，向第一循环配管(31)送出药液罐内的药液；第二循环配管(32)，与第一循环配管(31)分支连接；过滤器(39)，安装于第一循环配管(31)中的比第二循环配管(32)的连接位置(P2)更靠上游侧的上游侧部分(33)；以及压力调整单元，调整流经上游侧部分(33)的药液的压力。压力调整单元包括调整第二循环配管的开度的调节器(71)。调节器(71)使在基板处理装置的循环空闲状态下流经上游侧部分(33)的药液的压力与在基板处理装置的就绪状态下流经上游侧部分的药液的压力一致或接近。
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公开(公告)号：CN110800086A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880041589.6
申请日：2018-06-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理装置，包含：吸引单元，用以吸引存在于连通至喷出口的处理液配管的内部的处理液；以及控制装置。所述控制装置执行：吸引步骤，通过所述吸引单元吸引存在于所述处理液配管的内部的处理液。此外，所述控制装置在所述吸引步骤中选择性地执行：第一吸引步骤，使处理液的前端面后退，并使吸引后的处理液的前端面配置于所述处理液配管的内部中的预先设定的待机位置；以及第二吸引步骤，使处理液的前端面后退至比所述待机位置还后方。此外，所述控制装置在所述第二吸引步骤后进一步执行：待机位置配置步骤，通过所述处理液供给单元对所述处理液配管供给处理液，将处理液的前端面配置于所述待机位置。
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公开(公告)号：CN108461419A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201810083053.2
申请日：2018-01-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B08B17/025 , B08B3/041 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B2203/007 , H01L21/67051 , H01L21/67253
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，具有：共用配管，向分支部引导处理液；供给配管，从分支部向药液喷嘴引导处理液；返回配管，沿着与供给配管不同的路径，从分支部引导处理液；喷出阀，变更从共用配管向分支部供给的处理液的流量。喷出阀使阀芯在包括喷出执行位置和喷出停止位置的多个位置静止，其中，所述喷出执行位置指，以大于吸引流量的最大值的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置，所述吸引流量表示，从分支部向返回配管侧流动的处理液的流量，所述喷出停止位置指，以吸引流量的最大值以下的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置。
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公开(公告)号：CN113632012B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202080020066.0
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供衬底处理方法，其解决了若欲仅依赖臭氧的分解作用来除去阻剂膜，则处理时间变长的课题；虽然利用使阻剂膜溶胀而促进剥离，但在溶胀进行的程度上还存在较大改善的余地的课题，能够抑制废液处理的负担，并且能够在短时间内从衬底除去阻剂膜。衬底处理方法，其具备：使含臭氧水溶液(920)与衬底(901)上的阻剂膜接触的工序；以及使与含臭氧水溶液(920)相比以高浓度含有氨的含氨水溶液(930)与阻剂膜中的、已经与含臭氧水溶液(920)相接触的部分(P1)接触的工序。
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公开(公告)号：CN114365264A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080060887.7
申请日：2020-08-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , B08B3/08 , B08B3/10
Abstract: 一种基板处理方法，具备：保持具有第1面(S1)及与第1面(S1)相反的第2面(S2)的基板(WF)的步骤；对晶圆(WF)的第2面(S2)供给混入了含有臭氧气体的粒径50nm以下的气泡的处理液的步骤；以及在用以进行基板(WF)的处理的使用点对处理液进行加热的步骤。
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公开(公告)号：CN114121719A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110980004.0
申请日：2021-08-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明提供一种衬底处理装置，包含：分度器块；及处理块，在所述分度器块的横向上相邻，在上下方向积层着多个处理块层。所述分度器块包含：收容器保持部，用来保持收容衬底的衬底收容器；及第1搬送机构，在保持在所述收容器保持部的衬底收容器与所述处理块之间搬送衬底。各处理块层包含：多个处理单元，对衬底进行处理；衬底载置部，暂时保持在所述第1搬送机构与所述处理块层之间交接的衬底；伪衬底收容部，收容所述多个处理单元中能使用的伪衬底；及第2搬送机构，在所述衬底载置部与所述多个处理单元之间搬送衬底，在所述伪衬底收容部与所述多个处理单元之间搬送伪衬底。
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