公开(公告)号：CN115116886B

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202210026498.3

申请日：2022-01-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 伊藤明 ,  山口贵大

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H10H20/01

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。能通过从配置在绕旋转轴旋转的衬底的一个主面的正下方，且从衬底的端面朝旋转轴侧离开的位置的发光元件射出的光，将衬底的周缘部有效加热，而在短时间内执行处理液的处理。本发明的发光元件以发光面朝向衬底的周缘部的方式，相对于水平面倾斜配置。因此，从发光元件的发光面射出的光照射到衬底的下表面周缘部或其附近区域。

公开(公告)号：CN113314435B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202011373950.0

申请日：2020-11-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  小林健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。

公开(公告)号：CN113314437B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202110220015.9

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。

公开(公告)号：CN116490956A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202180076552.9

申请日：2021-10-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  犹原英司 ,  冲田有史 ,  东克荣 ,  山口贵大 ,  冢原隆太 ,  石丸慧

IPC: H01L21/027

Abstract: 基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持在被筒状的防护罩包围的保持位置；处理液供给工序，一边使被保持在所述保持位置的所述基板绕穿过所述基板的中央部的旋转轴线旋转，一边将处理所述基板的被处理面的处理液供给至所述基板的被处理面；图像取得工序，在对所述基板的被处理面供给处理液的期间，取得所述基板的被处理面的图像以及所述防护罩的内壁面的图像；以及检测工序，监视在所述图像取得工序中取得的图像的亮度值，并检测处理结束时间点，所述处理结束时间点为处理液对于所述基板的被处理面的处理结束的时间点。

公开(公告)号：CN115116897A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210273419.9

申请日：2022-03-18

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 相原友明 ,  山口贵大 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/67 ,  B01D35/00

Abstract: 本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)具有：处理单元、贮存部(31)、处理液配管(32)、泵(34)、过滤器(35)、第一流量部(36)、第一返送管(51)、第一调整阀(52)、第二返送管(41)、分支供给管(16)、第二流量部(42)以及控制部。第一流量部(36)配置在处理液配管(32)，测定在处理液配管(32)中流动的处理液的流量或压力。第一调整阀(52)配置在第一返送管(51)，调整在第一返送管(51)中流动的处理液的流量。控制部根据由第一流量部(36)测定出的处理液的流量或压力来控制第一调整阀(52)的开度。

公开(公告)号：CN115050668A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202210184146.0

申请日：2022-02-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  难波敏光 ,  根来世

IPC: H01L21/67 ,  B01D46/00

Abstract: 本发明提供一种能减少供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理外壳(22)与供气单元(30)。处理外壳(22)在处理外壳(22)的内部处理衬底(W)。供气单元(30)将气体供给到处理外壳(22)的内部。供气单元(30)具备过滤器(31)、导管(32)及风扇(41)。过滤器(31)配置在处理外壳(22)的上部。过滤器(31)将气体吹出到处理外壳(22)的内部。导管(32)设置在处理外壳(22)的外部。导管(32)连接到过滤器(31)。风扇(41)设置在处理外壳(22)的外部。风扇(41)连接到导管(32)。风扇(41)在俯视下配置在不与过滤器(31)重叠的位置。风扇(41)的至少一部分配置在与处理外壳(22)相同的高度位置。

公开(公告)号：CN114975170A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210136701.2

申请日：2022-02-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能将处理单元的构造共通化的衬底处理装置。在衬底处理装置(1)中，第1处理单元(12A)配置在搬送空间(12A)的右方。第1处理单元(21A1)具备第1保持部(25A)。第2处理单元(21B1)配置在搬送空间(12A)的左方。第2处理单元(21B1)具备第2保持部(25B)。第1保持部(25A)具有俯视下位于比第1处理单元(21A1)的中心(24A)更后方的中心(26A)。第2保持部(25B)具有俯视下位于比第2处理单元(21B1)的中心(24B)更前方的中心(26B)。第2处理单元(21B1)的前端(22B)配置在比第1处理单元(21A1)的前端(22A)更后方，且配置在比第1处理单元(21A1)的后端(23A)更前方。第1液体存储部(31)配置在搬送空间(12A)的左方，与第2处理单元(21B1)的前方相邻。

公开(公告)号：CN114944349A

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN202210134253.2

申请日：2022-02-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  泽岛隼 ,  远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板处理装置及筒状护罩的加工方法。基板处理装置具备：旋转保持部件，其在保持基板的同时使上述基板绕着规定的旋转轴线旋转；液体供给部件，其向保持于上述旋转保持部件的基板供给液体；和树脂制的筒状护罩，其包围保持于上述旋转保持部件的基板。上述筒状护罩具有内周面和设于上述内周面的凹凸部。上述凹凸部具有多个凹部和位于彼此相邻的上述凹部彼此之间的多个凸部。上述凹部具有比从保持于上述旋转保持部件的基板飞散的液滴的直径小的宽度、和在上述液滴与多个上述凸部接触的状态下使上述液滴不与上述凹部的底部接触的深度。上述凸部具有比上述液滴的直径小且比上述凹部的宽度小的宽度。

公开(公告)号：CN112619272B

公开(公告)日：2022-12-20

申请号：CN202010823739.8

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  山口直子 ,  藤田惠理 ,  髙桥贤二郎 ,  樋口鲇美 ,  脇田明日香 ,  相原友明 ,  田原香奈

IPC: B01D36/00 ,  B01D29/35 ,  B01D35/01 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够向处理单元供给颗粒含量少的净化地处理液。基板处理装置(1)包括：药液罐(30)；与药液罐连接的第一循环配管(31)；泵，向第一循环配管(31)送出药液罐内的药液；第二循环配管(32)，与第一循环配管(31)分支连接；过滤器(39)，安装于第一循环配管(31)中的比第二循环配管(32)的连接位置(P2)更靠上游侧的上游侧部分(33)；以及压力调整单元，调整流经上游侧部分(33)的药液的压力。压力调整单元包括调整第二循环配管的开度的调节器(71)。调节器(71)使在基板处理装置的循环空闲状态下流经上游侧部分(33)的药液的压力与在基板处理装置的就绪状态下流经上游侧部分的药液的压力一致或接近。

公开(公告)号：CN108461419B

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN201810083053.2

申请日：2018-01-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 长田直之 ,  山口贵大 ,  藤田惠理 ,  岩﨑晃久 ,  樋口鲇美 ,  岩畑翔太

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，具有：共用配管，向分支部引导处理液；供给配管，从分支部向药液喷嘴引导处理液；返回配管，沿着与供给配管不同的路径，从分支部引导处理液；喷出阀，变更从共用配管向分支部供给的处理液的流量。喷出阀使阀芯在包括喷出执行位置和喷出停止位置的多个位置静止，其中，所述喷出执行位置指，以大于吸引流量的最大值的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置，所述吸引流量表示，从分支部向返回配管侧流动的处理液的流量，所述喷出停止位置指，以吸引流量的最大值以下的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置。