公开(公告)号：CN105006238A

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201410454113.9

申请日：2014-09-05

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 木村香里 ,  藤本明 ,  渡部彰

IPC: G11B5/667 ,  G11B5/851

CPC classification number: G11B5/855

Abstract: 本发明的实施方式提供能够形成面内均匀性良好的周期性图案的图案形成方法和磁记录介质的制造方法。根据实施方式，能够提供一种图案形成方法，该方法包括：在基板上，向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂，调制第2分散液，并用该第2保护基修饰具有第1保护基的微粒的工序；向包含具有第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂，调制微粒涂布液的工序；以及，涂布微粒涂布液，在基板上形成微粒层的工序。

公开(公告)号：CN104700850A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201410742467.3

申请日：2014-12-05

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 木村香里 ,  及川壮一 ,  泷泽和孝 ,  藤本明 ,  竹尾昭彦

IPC: G11B5/84

Abstract: 本发明的实施方式提供一种抑制磁性粒子的粒径分散，具有良好的记录再生特性，能够高密度记录的垂直磁记录介质。实施方式涉及的垂直磁记录介质具有：基板、在基板上形成的基底层、和在基底层之上形成的以与膜面垂直的方向为易磁化轴的磁记录层。基底层具有间隔1nm～20nm的距离而排列的多个凸部。磁记录层包含以顶端从基底层的凸部表面开始扩大的方式分别形成的多个磁粒子，至少凸部侧的磁粒子被分离。

公开(公告)号：CN101542602A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200880000667.4

申请日：2008-06-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 汤泽亚希子 ,  樱井正敏 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志 ,  木村香里 ,  鬼塚刚

IPC: G11B5/65 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855 ,  G11B5/65

Abstract: 根据一个实施例，一种磁记录介质包括形成在基底上的凸起的磁图形；以及填充在所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。

公开(公告)号：CN101308669A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810099507.1

申请日：2008-05-13

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 白鸟聪志 ,  镰田芳幸 ,  木村香里

IPC: G11B5/72 ,  G11B5/82

CPC classification number: G11B5/855 ,  G11B5/72

Abstract: 一种磁记录介质，其包括：基底；记录层，形成在所述基底上，具有沟槽图案；以及保护层，形成在所述记录层上，填充所述沟槽图案，其中规定所述记录层具有保留伺服数据的伺服部分和保留记录数据的记录轨道部分，并且其中，在所述伺服部分处的所述保护层的第一膜的厚度比在所述记录轨道部分处的所述保护层的第二膜的厚度大1nm到10nm的厚度范围。

公开(公告)号：CN101079271A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN200710137983.3

申请日：2007-03-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 白鸟聪志 ,  樱井正敏 ,  喜喜津哲 ,  镰田芳幸 ,  木村香里

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/72

CPC classification number: G11B5/82 ,  G11B5/667 ,  G11B5/72 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/7325 ,  G11B5/855

Abstract: 一种磁记录介质，包括：环形基底(11)，其表面分成位于外圆周边缘与内圆周边缘之间的中央部分的记录区域(21)、位于分别从外和内圆周边缘开始的100μm或更大和2,000μm或更小的范围之内的边缘区域(23、25)，以及分别位于各边缘区域(23、25)和记录区域(21)之间的相邻区域(22、24)，基底(11)上的磁性膜(12)，以及磁性膜(12)上的保护膜(13)，其中边缘区域(23、25)的磁性膜(12)比相邻区域(22、24)的磁性膜薄，以及边缘区域(23、25)的保护膜(13)的至少一部分比相邻区域(22、24)的保护膜厚。

公开(公告)号：CN101038752A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710089302.0

申请日：2007-03-16

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 镰田芳幸 ,  樱井正敏 ,  白鸟聪志 ,  木村香里

IPC: G11B5/65 ,  G11B5/633 ,  G11B5/68

CPC classification number: G11B5/82 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/59655 ,  G11B5/743 ,  G11B5/855

Abstract: 图案化介质具有基片，以及在基片上包括凸出的磁性图案的磁性记录层，以及填充在凸出的磁性图案之间的非磁性材料。在图案化介质中，深度Db和深度Da存在关系深度Da大于深度Db，其中Db定义为从磁性图案表面到填充在交叉磁轨方向或沿着磁轨方向上相邻的磁性图案之间的第一中间部中的非磁性材料表面的深度，且Da定义为从磁性图案表面到填充在由四个磁性图案所环绕的部件中的第二中间部中的非磁性材料表面的深度。