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公开(公告)号：CN114717539B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202210514782.5
申请日：2022-05-12
Applicant: 季华实验室
IPC: C23C16/48 , C23C16/44 , G01N23/20058
Abstract: 本申请涉及薄膜监测技术领域，公开了一种带反射式高能电子衍射仪的MOCVD腔体，所述MOCVD反应腔的侧面开设有第一安装孔和第二安装孔，所述第一安装孔用于连接所述电子枪结构，所述第二安装孔用于连接所述荧光屏结构；所述电子枪结构和所述第一安装孔的连接处、所述荧光屏结构和所述第二安装孔的连接处均设置有阀板闸，两个所述阀板闸分别用于控制所述MOCVD反应腔和所述电子枪结构之间的连通和隔绝、所述MOCVD反应腔和所述荧光屏结构之间的连通和隔绝；本发明具有监测效果好和隔热效果好的有益效果。
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公开(公告)号：CN111940756A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010753405.8
申请日：2020-07-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开基于水相合成的合金半导体复合纳米材料制备方法及合金半导体复合纳米材料，所述制备方法包括纳米金种制备、纳米合金制备及复合纳米材料制备。本发明所提供的方法通过结合种子生长法和化学置换法，可制备得到两种或多种光电应用性质理想且粒径、厚度可控的复合纳米材料，所制备材料与其他单组分或其他方式合成的复合材料相比，局域表面等离子体耦合更理想，光热转换效率更高。
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公开(公告)号：CN118377217B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410804206.3
申请日：2024-06-21
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本公开涉及气体压力控制技术领域，尤其提供一种蝶阀开度的控制方法、控制器、系统和存储介质，该方法包括：基于腔体内部的当前压力和预设压力，确定控制误差信号以及误差信号变化率；基于当前压力和预先确定的电机步数与实际压力的对应关系，确定当前压力对应的实际步数；基于实际步数以及电机步数与修正参数的对应关系确定目标修正参数；对控制误差信号以及误差信号变化率进行模糊处理，得到PID调整量；基于目标修正参数、PID调整量以及初始时刻PID参数，确定当前时刻的PID参数；基于当前时刻的PID参数以及PID控制算法计算蝶阀的控制信号，控制信号用于控制蝶阀的开度。可以提高气体压力的控制精度。
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公开(公告)号：CN111940252B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010751469.4
申请日：2020-07-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于真空环境下回收粉末装置，包括可通过气体但粉末不能通过的粉末收集罐，所述粉末收集罐的气体入口与真空腔体连通，粉末收集罐的气体出口与抽真空装置连通：抽真空装置启动，使真空腔体内形成真空环境，对真空腔体内的芯片进行粉末喷涂，真空腔体内多余的粉末由于压力差被吸入到粉末收集罐内实现收集；本基于真空环境下回收粉末装置的结构简易，能在保持真空环境的同时对粉末尤其是荧光粉等纳米级粉末实现过滤回收；粉末收集罐内设置硫化过滤板，可以实现对纳米级粉末的有效过滤回收；本回收粉末装置无需其他外力，只需要真空泵抽真空时形成的压力差就可以把粉末带到粉末收集罐内，提高工作效率，节省能源。
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公开(公告)号：CN111093347B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201911379925.0
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
IPC: H05K7/20
Abstract: 本发明公开了一种自循环高效散热器，采用封闭式管道，无需外连冷却水进行外循环，有利于降低冷却成本，操作方便；通过采用TiO2‑水纳米流体作为冷却剂，在TiO2‑水纳米流体中，TiO2的浓度在0.2%‑0.5%范围内最佳，相较于常规散热器采用的自来水冷却剂可将换热系数提高25%左右；同时，散热基板内设有可自旋转的螺旋形旋转轴，螺旋形旋转轴的持续自旋转加强了管路内TiO2‑水纳米流体的扰动，将TiO2‑水纳米流体由层流变成紊流，将很大程度上提高散热能力，换热系数将提高50%。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112834110A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN202011604898.5
申请日：2020-12-30
Applicant: 季华实验室
IPC: G01L21/00
Abstract: 本发明提供了一种高精度电容薄膜真空计，包括:壳体,具有一容置腔;两个感应膜片，平行地设置在所述容置腔中，并把所述容置腔分隔为参考真空室和两个待测腔室，且两个所述待测腔室分别位于所述参考真空室的两侧；两个所述待测腔室之间连通，且均与所述参考真空室隔离；连接管，与其中一个待测腔室连通；固定基板，设在所述参考真空室中并与两个所述感应膜片平行；固定基板的两侧分别设置有导电膜，所述固定基板两侧的导电膜分别与相邻的感应膜片组成电容器；该电容薄膜真空计的测量精度和灵敏度较高。
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公开(公告)号：CN111088526B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201911379938.8
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种多片装载的碳化硅外延生长设备，包括基座，设置在基座上的反应室，设置在反应室左侧的进气机构，设置在反应室右侧的出气机构，设置在反应室底部的加热线圈，可转动地设置在反应室中部的托盘架，以及用于驱动托盘架转动的驱动机构；所述托盘架包括一根竖直的旋转杆，以及多个水平地串接在旋转杆上的石墨托盘；每个石墨托盘上表面均匀设置有多个用于放置衬底的定位凹槽。该碳化硅外延生长设备可一次生产多个外延片且结构紧凑、节能环保。
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公开(公告)号：CN111020693B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201911379922.7
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种碳化硅外延生长设备的进气装置，包括进气装置主体，进气装置主体的前部设置有混合腔、后部设置有冷却腔；混合腔的前侧设置有进气管、后侧设置有多根出气管，出气管穿过所述冷却腔；还包括插接在进气装置主体前部并与冷却腔连通的冷却液入口管和冷却液出口管，以及多根穿设在进气装置主体上、下部的吹扫管；所述进气装置主体的后部穿过碳化硅外延生长设备的过渡区域。该进气装置可抑制反应气体的预反应。
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公开(公告)号：CN111719141A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010554568.3
申请日：2020-06-17
Applicant: 季华实验室
IPC: C23C16/458
Abstract: 旋转承载盘结构及承载盘，涉及化学气相沉积技术领域，旋转承载盘结构，应用于化学气相沉积工艺，包括旋转轴、用于承载衬底的承载盘，旋转轴与承载盘中心连接，以驱动承载盘旋转，旋转轴包括轴体、隔热件，隔热件设在轴体与承载盘之间，以隔开轴体与承载盘，使轴体与承载盘不接触。承载盘，应用于化学气相沉积工艺，用于承载衬底，用于给所述承载盘加热的热源位于所述承载盘下方，所述承载盘的底面为非平面，以使承载盘底面不同区域与热源的距离不同。
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公开(公告)号：CN111134526A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201911382860.5
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
IPC: A47J27/092 , A47J27/08
Abstract: 本发明公开了一种快速降压的压力容器，包括内胆以及热电制冷电偶，热电制冷电偶包括冷端面和热端面，所述热电制冷电偶的冷端面与内胆的外侧壁面贴合，热电制冷电偶通电后冷端面将从内胆上快速吸收热量并通过热端面向四周环境放热；本技术方案通过在内胆的外壁上设置热电制冷电偶，能实现快速的冷却降压，有助于加热完成后快速开盖；本技术方案的冷却降压过程无需排气，不会造成容器内液体或流质随排气过程喷出而污染器具或环境；热电制冷电偶布置在内胆的外壁上，不破坏整体密封性，不会带来漏气漏液风险；本快速降压的压力容器的冷却降压速度快，通电后即可开始恒定功率的制冷，操作简单方便。
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