一种保护32位存储器数据的低冗余正交拉丁码扩展方法

    公开(公告)号:CN106095610B

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201610393856.9

    申请日:2016-06-06

    Abstract: 一种保护32位存储器数据的低冗余正交拉丁码扩展方法,本发明涉及低冗余正交拉丁码扩展方法。本发明是要解决现有存储器容错技术需要耗费较多的冗余位及较大的硬件开销,严重影响存储器性能的问题,而提出的一种保护32位存储器数据的低冗余正交拉丁码扩展方法。该方法是通过一、总结正交拉丁码奇偶校验矩阵H的构造规则;二、构成新的H’矩阵;步骤三、根据步骤二扩展得到的H’矩阵,通过对32位数据位编码,获得相应的码字C;步骤四、采用大数逻辑译码算法纠正错误将步骤三得到的码字C中出现的1~t位的随机错误所对应的码字C’译出正确的数据douta等步骤实现的。本发明应用于低冗余正交拉丁码扩展领域。

    抗二倍频锁定时钟数据恢复电路

    公开(公告)号:CN102710255A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201210196480.4

    申请日:2012-06-14

    Abstract: 抗二倍频锁定时钟数据恢复电路,本发明具体涉及抗二倍频锁定时钟数据恢复电路。它为了解决现有的时钟数据恢复电路在相对较低的数据速率下工作时存在倍频锁定问题。本发明电路的频率环路锁定后,监测电路对时钟数据恢复电路进行监测,根据监测结果的极性即信号的高低判断出时钟数据恢复电路锁定的正确与否,进而进行相应的操作。本发明能够有效阻止时钟数据恢复电路的二倍频锁定问题,从而正确的恢复出时钟和数据。本发明还能够缩短时钟数据恢复电路的锁定时间。监测电路可以辅助频率追踪环路,完成频率追踪,进而缩短锁定时间。本发明适用于电信、光收发器、数据存储局域网以及无线网络领域。

    一种电子元器件的功率循环测试系统及其测试方法

    公开(公告)号:CN118858867A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410829095.1

    申请日:2024-06-25

    Abstract: 一种电子元器件的功率循环测试系统及其测试方法,属于电子元器件的性能测试技术领域,为解决现有电子元器件检测过程中功率循环测试技术存在缺陷的问题,它包括:数据采集模块,以设定采样频率实时或定点采集电子元器件的电性能参数;环境模拟模块,模拟电应力条件以实现功率循环;自动控制模块,通过预设测试参数,动态调整电子元器件的运行状态,当电子元器件的实际参数达到预设测试参数范围时,停止测试;数据处理显示模块,用于显示数据采集模块的电性能参数,还用于对定点采集的电性能参数进行数据提取,并对测试过程中电性能参数的数据变化进行显示。用于实现多个电子元器件在不同的测试条件下进行实时检测。

    一种太阳电池低温量子效率试验装置及其方法

    公开(公告)号:CN114236339B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202111546467.2

    申请日:2021-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种太阳电池低温量子效率试验装置及其方法,该装置包括:恒温真空舱、光源控制单元、氙灯光源、测试单元和控制模块;方法包括以下步骤:S1.氙灯光源产生入射光;入射光包括单色光和偏置光;S2.将恒温真空舱横向放置,舱头部的光学窗口正对单色光下方,确保单色光和偏置光入射至待测电池表面,通过探针连接待测电池电极,并通过测试线将探针与测试单元相连,确认无断触后关闭舱门;S3.将恒温真空舱抽成真空;S4.达到真空度要求后进行降温;S5.通过测试单元进行量子效率性能测试得到量子效率曲线,根据量子效率曲线获取短路电流密度,以及半导体材料在当前温度下的带隙。本发明为深空太阳电池低温量子效率测试提供了试验条件。

    基于深层离子注入方式的PIN二极管抗位移辐照加固方法

    公开(公告)号:CN109888025B

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN201910219155.7

    申请日:2019-03-21

    Abstract: 本发明一种基于深层离子注入方式的PIN二极管抗位移辐照加固方法涉及半导体器件领域,目的是为了克服PIN二极管受空间辐照效应,导致本征区的载流子被辐射缺陷俘获造成正向特性的退化的问题,具体方法为:步骤一、通过PIN二极管的结构参数和需注入PIN二极管的离子类型,计算离子注入所述PIN二极管的离子注入深度D和与离子注入深度D所对应的离子能量E;步骤二、计算离子注入量Ф;步骤三、通过所述离子能量E计算离子源电压值V;步骤四、通过所述离子注入量Ф确定离子注入时间t,并计算离子束电流值I;步骤五、根据所述离子注入深度D、离子源电压值V、离子束电流值I和离子注入时间t,向PIN二极管的本征区注入离子。

    基于深层离子注入方式的肖特基二极管抗位移辐照加固方法

    公开(公告)号:CN109860033B

    公开(公告)日:2021-07-20

    申请号:CN201910110228.9

    申请日:2019-02-11

    Abstract: 本发明的基于深层离子注入方式的肖特基二极管抗位移辐照加固方法涉及半导体器件的制造或处理领域,目的是为了克服肖特基二极管受到位移辐射造成的缺陷导致正向特性退化的问题,具体步骤为计算离子源电压值V、离子束电流值I、离子注入深度D和离子注入时间t,对肖特基二极管的有源区进行离子注入。本发明的有益效果是:本发明通过深层离子注入的方式,在肖特基二极管内部的一定深度范围内通过离子注入的方式人为地引入缺陷陷阱,可以对由位移辐射造成的缺陷产生复合作用,使器件内部的位移辐射缺陷保持稳定,不因辐射注量的增大而明显变化,从而提高肖特基二极管的抗辐照能力。

    基于衬底深层离子注入的单晶Si太阳电池抗位移辐照方法

    公开(公告)号:CN110459649B

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN201910774690.9

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 一种基于衬底深层离子注入的单晶Si太阳电池抗位移辐照方法,属于太阳电池微电子技术领域。本发明针对现有太阳电池由于空间带电粒子的辐照会产生辐照缺陷,进而造成太阳电池I‑V特性退化的问题。它根据原单晶Si太阳电池的结构参数,确定离子的欲注入位置,并根据欲注入位置模拟确定离子的能量和射程;然后模拟离子注入过程中的目标I‑V变化曲线,当目标I‑V变化曲线的变化量小于原单晶Si太阳电池I‑V变化曲线的10%时,记录离子注入量;再计算离子注入机的离子源电压、离子束电流和离子注入时间;设置离子注入机,对原单晶Si太阳电池进行离子注入并进行退火处理,实现对原单晶Si太阳电池的抗位移辐照加固。本发明用于单晶Si太阳电池的加固。

    基于深层离子注入方式的MOS场效应管抗位移辐照加固方法

    公开(公告)号:CN109712873B

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN201910110168.0

    申请日:2019-02-11

    Abstract: 本发明的基于深层离子注入方式的MOS场效应管抗位移辐照加固方法涉及半导体器件领域,目的是为了克服MOS型器件易受总剂量辐射损伤导致MOS型器件抗辐照能力低下的问题,具体步骤为计算离子源电压值V、离子束电流值I、离子注入深度D和离子注入时间t,并向MOS场效应管的栅极氧化层注入离子。本发明通过离子注入的方式,在MOS场效应管的栅极氧化层内人为地引入缺陷陷阱,可以对由总剂量辐射效应造成的电子空穴对产生复合作用,并对器件内部由于总剂量辐射缺陷所产生的电场产生补偿作用,从而提高MOS场效应管的抗辐照能力。能大幅度降低总剂量辐照诱导的氧化物俘获正电荷和界面态影响,可以增强MOS器件的抗辐照性能。

    基于深层离子注入方式的倒置四结太阳电池抗位移辐照加固方法

    公开(公告)号:CN110491970A

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201910775586.1

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 基于深层离子注入方式的倒置四结太阳电池抗位移辐照加固方法,属于微电子技术领域,本发明为解决现有倒置四结太阳电池在空间带电粒子的辐照下抗位移辐照能力差,易产生位移辐射损伤,从而严重地影响太阳电池的性能参数的问题。本发明向倒置四结太阳电池的第四结有源区和第三结有源区模拟注入离子,获得离子能量和射程信息,模拟I-V特性,记录与未注入离子时的I-V特性变化量小于10%时的注入离子量,计算注入离子电压和离子束电流,设置注入离子时间,采用设置后的注入离子机进行离子注入,对完成离子注入的倒置四结太阳电池进行退火处理。本发明用于对倒置四结太阳电池进行抗位移辐照加固。

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