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公开(公告)号：CN102268653A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201110172966.X
申请日：2011-06-24
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明属于金刚石涂层技术领域，尤其是一种硬质合金工具金刚石过渡层的制备方法，该方法将经简单表面处理后的硬质合金基底装入等离子体化学气相沉积装置中，通入由H2占总体积比94-98%、硅氧烷占总体积比1-3%、碳氢化合物气体占总体积比1-3%而组成的混合气体，在压力为0.5～8kPa下，在低温放电产生的等离子体的作用下，H2、硅氧烷和碳氢化合物将被激发和分解，同时将硬质合金基底加热至600-850°C，沉积时间为1-10小时，即可在其表面获得以SiC为基的过渡层。本发明的优点在于：既可有效地提高金刚石涂层的附着力和确保硬质合金基底免受常规处理造成的基底机械强度降低的困扰，且过渡层的制备仅使用无毒、廉价的硅氧烷等为原料，其安全性和经济性好。
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公开(公告)号：CN101887134A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN201010195509.8
申请日：2010-05-31
Applicant: 北京科技大学
IPC: G02B1/10 , C23C14/35 , C23C14/06 , C23C16/34 , C23C16/455
Abstract: 本发明属于红外光学薄膜技术领域，具体涉及一种新型的过渡族金属Zr、Hf的氮化物光学薄膜和其应用以及其制备方法。本发明一种红外窗口保护膜材料，所述材料由过渡族金属Zr、Hf的氮化物所组成，成分为(Zr，Hf)Nx，其中x代表氮含量的数值。其中x的取值范围为1.0≤x≤1.5。本发明尤其适合用于制作远红外波段ZnS、ZnSe光学窗口保护膜，其具有高透过率、同时具有高硬度和低内应力。可以用物理气相沉积或化学气相沉积等多种方法制备，具有良好的应用前景。
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公开(公告)号：CN1632166A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN200410101845.6
申请日：2004-12-28
Applicant: 北京科技大学
IPC: C23C16/503 , C23C16/27
Abstract: 本发明提供了直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法。该涂层装置由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成；阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端；一对磁场线圈(12)、(13)同轴地处于真空室(2)外的上下两侧；真空室(2)与真空泵系统(3)、压力测量和控制装置(4)由真空管路相连接。阴极部分(1)由阴极杆(6)、阴极体(7)、保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)以及绝缘体(17)、(18)所组成；在保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)的下方是阴极喷口(16)。本发明的优点在于：寿命与结构稳定性将大幅度的改善并可靠性提高，显著的改善金刚石涂层质量。
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公开(公告)号：CN1275637A
公开(公告)日：2000-12-06
申请号：CN99107912.4
申请日：1999-06-01
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明涉及一种用于硬质合金工具耐磨涂层的金刚石－Co－B化合物复合涂层和相应的制备方法。该复合涂层的特征在于在硬质合金上,形成以Co－B化合物为主的过渡层和以金刚石涂层为耐磨涂层的复合涂层。相应复合涂层的制备方法的特征在于,以硬质合金为基体,以固体、气体或液体渗硼方法制备以CoB化合物为主的过渡层,以化学气相沉积技术制备金刚石耐磨涂层。该复合涂层对硬质合金基体具有很好的附着力,这保证了相应的复合涂层硬质合金工具具有很好的使用性能。
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公开(公告)号：CN202126316U
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201120169816.9
申请日：2011-05-24
Applicant: 北京科技大学
IPC: G01K11/32
Abstract: 本实用新型为一种应用于直流电弧等离子体化学气相沉积法金刚石涂层过程的沉积温度的光纤测量装置。该装置由金属圆环、模拟工件、光学透镜装置、光纤、光纤测温仪等部件所组成；均匀分布地安装在电弧弧柱周围的模拟工件将感应出电弧造成的沉积温度分布；在远离电弧弧柱、处于低温区域的光学透镜装置将模拟工件温度的光学信号传递至光纤端部，然后这些光纤送至CVD沉积室外，再经过光纤测温仪的接收器接收后转换为沉积温度的分布信息。本实用新型的优点在于：它可以避免热电偶式的测温方法容易受到直流电弧高频引燃装置干扰和损坏的问题，方便地在直流电弧等离子体化学气相沉积装置中收集温度分布的信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN2793101Y
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200420121006.6
申请日：2004-12-28
Applicant: 北京科技大学
IPC: C23C16/503 , C23C16/27
Abstract: 本实用新型提供了一种强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置，由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成；阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端；一对磁场线圈(12)、(13)同轴地处于真空室(2)外的上下两侧；真空室(2)与真空泵系统(3)、压力测控装置(4)由真空管路相连接。阴极部分(1)由阴极杆(6)、阴极体(7)、保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)以及绝缘体(17)、(18)所组成；在保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)的下方是阴极喷口(16)。本实用新型的优点在于：寿命与结构稳定性将可获得大幅度的改善并可靠性提高。
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公开(公告)号：CN201063955Y
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200720103741.8
申请日：2007-03-06
Applicant: 北京科技大学
IPC: H05H1/34
Abstract: 一种直流电弧喷射等离子体分束器，属于直流电弧喷射等离子技术领域。由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽板上间隔开出可开闭的束流孔；遮蔽板(1)与封闭栓(2)采用间隙配合，遮蔽板(1)与支杆(3)也采用间隙配合，支杆(3)与底座(4)采用螺纹连接。本实用新型的优点在于，可以对直流电弧喷射等离子体进行分流和约束，使分流束中的等离子体均匀性得到改善，装置简单，操作简便，而且避免了电磁场和流场扰动对等离子体的影响。
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公开(公告)号：CN2763249Y
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200520022774.0
申请日：2005-01-27
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本实用新型属于无机非金属材料领域，特别涉及一种应用在对金刚石膜片进行热化学抛光加工时所采用的夹持装置，尤其适于要求夹具做旋转运动的工况下使用。抛光夹具由齿轮(1)、键(2)、夹套(3)组成；夹套(3)放入齿轮(1)中，用键(2)连接。使用时将将金刚石膜片置入夹套之中，金刚石膜片与夹套间无固定约束，键与金刚石膜之间根据需要加不同重量的金属块，对金刚石膜施加载荷，齿轮和键同时作为载荷施加在陶瓷夹套上，保证陶瓷夹套和抛光盘紧密接触，减少夹具与抛光盘之间的空隙，从而避免金刚石膜片在旋转抛光过程中从夹具与抛光盘之间的空隙处滑脱，且金刚石膜片不随抛光夹具旋转，只是在金属块的压力下与抛光盘做平动运动，不会对金刚石膜造成损害。
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公开(公告)号：CN200970858Y
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200620023026.9
申请日：2006-06-01
Applicant: 北京科技大学
IPC: B28D5/04
Abstract: 一种金刚石膜剪切器，属于金刚石膜加工技术领域。包括：刀杆、刀头、压块和垫块四部分；其中，刀头和刀杆采用钎焊连接，压块和垫块具有同轴螺纹，彼此间采用螺栓连接。刀头和刀杆构成装置的滑动部件，可在压块的特定滑道上高速滑动，起高速冲击剪切的作用；压块和垫块构成装置的夹持部件，起夹持CVD金刚石膜片和稳定装置的作用。本实用新型的优点在于：由于采用冲击剪切的方法，避免了普通剪切要求被剪试样塑性变形的过程，使裂纹只沿剪切平面扩展，保证了切口的平直；由于压块和垫块的紧密压合，切口裂纹不能向非剪切部分扩展，保证了膜体质量不退化。并且装置简单，操作简便。
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公开(公告)号：CN2932338Y
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200620023059.3
申请日：2006-06-09
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 一种等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置，属于金刚石涂层技术领域。包括：阴极部分、真空室、真空泵系统、压力测控装置、电源、阴极杆、阴极体、阳极、直流电弧弧柱、制品架、磁场线圈。在拉长的直流电弧弧柱(9)的周围装置有一金属圆环(14)，金属圆环(14)和其上焊接的异类金属导体(15)都具有较大的热容量；在圆周方向上，金属圆环(14)和其上的异类导体(15)间隔90度设置，保证其对设备几何中心的高度对称性。本实用新型的优点在于：利用结构上高度对称、同时又有较大的热容量的组合式温度测量装置，可克服使用直流电弧等离子体化学气相沉积装置对大量工件进行金刚石涂层时，涂层的沉积温度难于测量的技术难题。
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