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公开(公告)号：CN106052570A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610657239.5
申请日：2016-08-11
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开了一种基于分光激光干涉的六自由度纳米位移台的校准装置，属于激光精密测距技术领域；所述装置包括支撑平台、分光测量装置系统及纳米位移台；这种设计，保证了纳米移动平台6自由度姿态的测量，解决了任意姿态纳米尺度位移测量难题，适用于X轴、Y轴、Z轴和旋转角度的纳米位移台同时变化的全姿态识别与超精密测量校准。
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公开(公告)号：CN113418453B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202110721179.X
申请日：2021-06-28
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种双激光干涉纳米级定位测量系统，包括：光源、第一分束棱镜、第一直角棱镜、第二直角棱镜、第二分束棱镜、标量干涉光采集模块、矢量干涉光采集模块和位移计算模块。本发明中的光电探测器采集待测物体位置移动过程中的反射干涉光的光强，并生成周期性的光强变化曲线，CCD相机采集待测物体位置移动前后的涡旋干涉光电的图像，根据光强变化曲线的整数周期与待测物体位置移动前后的涡旋干涉光的图像的变化的角度计算待测问题的位移量，光电探测器采集的反射干涉光为标量信号，CCD相机采集的涡旋干涉光为矢量信号，将二者综合计算位移量，在提高测量的分辨率的同时实现了干涉信号的快速采集与解调。
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公开(公告)号：CN113405469A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110723170.2
申请日：2021-06-28
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学多倍程纳米级位移测量系统，该系统包括：包括：光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块、第一直角棱镜、第二直角棱镜和位移测量模块；在设置光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块和位移测量模块的基础上增设第一直角棱镜和第二直角棱镜，实现了光束在第一平面反射镜(即测量镜)与第二平面反射镜(即参考镜)间的多次反射，和现有的基于矢量涡旋光场干涉的位移测量相比，增加了信号光与参考光之间的光程差，提高了位移测量的分辨力。
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公开(公告)号：CN108444416A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810606901.3
申请日：2018-06-13
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B15/00
Abstract: 本发明公开了一种用于长度测量校准的标准器组，其包括底座、支撑棒和标准球，所述底板上设置有若干通孔，所述支撑棒的一端设置在所述通孔中，所述支撑棒的另一端设置有一球窝，所述标准球设置在所述球窝内，所述标准球与所述球窝底面之间设置有粘接剂。本发明中采用在棒的顶端加工球窝，并通过粘接剂将标准球进行固定的方式，使得不对标准球进行任何破坏性加工，避免了标准球上破损导致测量结果准确性降低的问题，使得CT测量过程中可以充分利用整个球面，提高了测量结果的准确性。
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公开(公告)号：CN119164292A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411404850.8
申请日：2024-10-09
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种自溯源的二维位移测量装置，涉及精密位移测量技术领域，该装置包括：第一射线源、第二射线源、晶片固定板、第一硅晶片、第二硅晶片、第三硅晶片，第一辐射探测器，第二辐射探测器和XY二维位移平台；其中，包括X方向上的位移测量模块和Y方向上的位移测量模块；第一硅晶片和第二硅晶片平行固定于晶片固定板上；第三硅晶片与第二硅晶片平行，且第三硅晶片到第二硅晶片的距离等于第一硅晶片到第二硅晶片的距离；第三硅晶片固定于XY二维位移平台侧壁；XY二维位移平台带动第三硅晶片一起进行位移，在位移过程中，第三硅晶片与第二硅晶片保持平行且距离不变。本发明可以同时实现二维位移测量，测量分辨率可以达到亚纳米级。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114234818B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202111552361.3
申请日：2021-12-17
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明公开了一种激光干涉位移测量系统和方法，利用光纤跳线的出射端面和被测物表面构成开放式法布里珀罗腔，将激光光束在光纤跳线的出射端面与空气端面发生后向菲涅尔反射的部分作为参考光，将透射至被测物表面并反射耦合进光纤跳线的部分作为测量光，使参考光与测量光在光纤跳线内部发生干涉。当被测物发生位移时，法布里珀罗腔的腔长发生相应改变，相当于改变了测量光和参考光之间的光程差，从而导致测量光和参考光的相位差发生变化，最终影响二者的干涉信号，通过干涉信号调理模块和信号解调模块对干涉信号进行处理，计算得到被测物的位移量，从而实现了对位移的非接触、高精度测量。
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公开(公告)号：CN113405469B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202110723170.2
申请日：2021-06-28
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学多倍程纳米级位移测量系统，该系统包括：包括：光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块、第一直角棱镜、第二直角棱镜和位移测量模块；在设置光源、偏振分束棱镜、第一相位改变模块、第二相位改变模块和位移测量模块的基础上增设第一直角棱镜和第二直角棱镜，实现了光束在第一平面反射镜(即测量镜)与第二平面反射镜(即参考镜)间的多次反射，和现有的基于矢量涡旋光场干涉的位移测量相比，增加了信号光与参考光之间的光程差，提高了位移测量的分辨力。
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公开(公告)号：CN113533785B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202110829985.9
申请日：2021-07-22
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于扫描电子显微镜的纳米线宽自适应测量方法及系统。所述方法包括：利用扫描电子显微镜获取纳米线宽图像并提取其强度曲线；根据均值将强度曲线分解为多个子曲线；提取每个子曲线的特征向量，获得特征向量集合；采用k‑means算法对特征向量集合中的多个特征向量进行簇划分，获得只包含单个特征向量的簇；根据该簇确定线宽曲线；根据线宽曲线确定强度曲线基底的平均强度、线宽顶部强度以及中间线条宽度的强度；根据中间线条宽度的强度计算中间线宽宽度值。本发明方法及系统从自动化测量的角度出发，基于k‑means算法，通过曲线分解和特征提取，将线宽结构从强度曲线中自适应地识别出来，通过计算机实现了线宽的精确自动测量。
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公开(公告)号：CN115574722A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211374220.1
申请日：2022-11-04
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种自溯源干涉式位移传感器，涉及位移传感器领域，包括：光源、第一分束器、反射模块、分析器、光电探测器和信号处理器；所述第一分束器用于将光源产生的光进行分束，得到第一衍射光和第二衍射光；所述反射模块设置在所述第一分束器和所述分析器之间；所述反射模块用于将所述第一衍射光和所述第二衍射光反射至所述分析器；所述第一分束器与所述分析器平行；待测物固定在所述分析器上；所述分析器用于将所述反射模块的反射光进行劳厄衍射，得到干涉光；所述光电探测器用于将所述分析器产生的干涉光转换为电信号；所述信号处理器与所述光电探测器连接；所述信号处理器用于根据所述电信号确定位移。本发明能够增大待测物的安装空间。
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公开(公告)号：CN113533785A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110829985.9
申请日：2021-07-22
Applicant: 中国计量科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于扫描电子显微镜的纳米线宽自适应测量方法及系统。所述方法包括：利用扫描电子显微镜获取纳米线宽图像并提取其强度曲线；根据均值将强度曲线分解为多个子曲线；提取每个子曲线的特征向量，获得特征向量集合；采用k‑means算法对特征向量集合中的多个特征向量进行簇划分，获得只包含单个特征向量的簇；根据该簇确定线宽曲线；根据线宽曲线确定强度曲线基底的平均强度、线宽顶部强度以及中间线条宽度的强度；根据中间线条宽度的强度计算中间线宽宽度值。本发明方法及系统从自动化测量的角度出发，基于k‑means算法，通过曲线分解和特征提取，将线宽结构从强度曲线中自适应地识别出来，通过计算机实现了线宽的精确自动测量。
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