基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统

    公开(公告)号:CN110968000B

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201911211916.0

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统,包括:硅片对准测量分系统,内置有对准测量并行计算板卡;工件台位置测量分系统,与硅片对准测量分系统通过光纤数据通道和外同步总线实现互连;以及系统同步控制时序,基于操作系统并结合硅片对准测量分系统和工件台位置测量分系统共同实现同步控制。本发明提供的该基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统,具有灵活的网络拓扑结构,能够完成测控系统精确的同步控制和高精度并行计算。

    硅片对准标记布局的优化方法

    公开(公告)号:CN110880469A

    公开(公告)日:2020-03-13

    申请号:CN201911178873.0

    申请日:2019-11-26

    Abstract: 一种硅片对准标记布局的优化方法,该方法包括初始化对准标记个数,选取对准标记所在的场格;根据硅片变形数据,优化对准标记所处场格;优化对准标记在场格中的位置;计算最小的对准标记个数,即完成所述硅片对准标记布局优化。本发明通过优化方法给出最优的对准标记位置,从而提高套刻对准性能;通过优化方法给出最少对准标记测量个数,从而减少对准系统测量时间,为提升产率提供可能。

    一种光学硅片检测系统中的对焦控制装置及方法

    公开(公告)号:CN110057839A

    公开(公告)日:2019-07-26

    申请号:CN201910313182.0

    申请日:2019-04-18

    Abstract: 本发明公开了一种光学硅片检测系统中的对焦控制装置及方法,记录最佳焦平面位置处的光栅像位置设为目标位置;测量光栅像中的其中一根光栅线在数字相机成像面上的位置为目标高度a;当硅片在z轴方向移动后,测量前述光栅线位置测量高度a’,与a进行对比,获得硅片位移量信息;根据硅片位移量信息,将工件台调整至对焦控制范围内。通过选取光栅图像中受到硅片图形影响较小的区域进行测量,保证测量精度。利用正负反馈结合的对焦控制方法,在进行对焦控制时,通过硅片高度测量装置测量硅片高度,并将该信号提供给工件台,使其逐步移动到预定位置,解决了不采用反馈控制时精度较低或仅采用负反馈控制导致循环次数较多,影响检测速度的技术问题。

    一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法

    公开(公告)号:CN111580466A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010509701.3

    申请日:2020-06-05

    Abstract: 一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法,应用于运动控制控制技术领域,包括:将多轴运动系统中任意一个运动系统设置为主动系统,剩余运动系统设置为从动系统;采集主动系统和从动系统的位置输出量,以及从动系统的前两次的输入控制量;利用主动系统和从动系统的位置输出量,以及从动系统的前两次的输入控制量,以及预设的遗忘因子,构造迭代学习律;根据迭代学习律,迭代计算从动系统的最终输入控制量;按照所述从动系统的最终输入控制量,调整从动系统,以使从动系统与主动系统同步。可提高多轴运动系统之间的同步性能,加快迭代学习的收敛速度,提高控制算法的鲁棒性。

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