环抛机工艺参数预测方法、系统、应用、终端及介质

    公开(公告)号:CN113592064B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202110756637.3

    申请日:2021-07-05

    Abstract: 本发明提供了一种环抛机工艺参数预测方法及系统,方法包括:数据获取及预处理;构建双LSTM网络关联模型,对所述双LSTM网络关联模型进行训练;利用训练后的关联模型,得到加工参数期望数据,完成对环抛机工艺参数的预测,得到面形参数实际数据作为新的输入,对LSTM网络模型进行动态优化。同时提供了一种利用环抛机工艺参数预测方法实现的环抛机工位/工件调度方法,其中每一个加工工位均采用环抛机工艺参数预测方法,根据训练过程得到的专用预测模型,利用该模型分别完成工件/工位间交叉预测,根据预测数据完成环抛机工件/工位的优化调度。同时提供了一种终端及介质。本发明能够提升加工效率、减少人力成本。

    平板类光学元件环形抛光面形精调方法

    公开(公告)号:CN108177027A

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201711330838.7

    申请日:2017-12-13

    CPC classification number: B24B1/00 B24B13/00

    Abstract: 本发明公开了一种平板类光学元件环形抛光面形精调方法,利用平板类光学元件在环抛过程中的热变形来调节其反射/透射面形变化,在抛光模面形保形期创造一种快速、可控的元件面形高低转化,能够大幅提升该类元件环形抛光反射/透射波前分布控制效率。本发明特别适用于热膨胀系数大、易变形的平板类光学元件,如400mm口径激光钕玻璃片状元件,有效克服了该类元件环形抛光过程中面形控制的不确定性,米量级平板类光学元件的加工精度,面形PV优于1/5λ(λ=632.8nm),GRMS优于1/90λ。

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