大型浸没式环抛机
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103372805A

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201310293836.0

    申请日:2013-07-12

    Abstract: 一种大型浸没式环抛机,主要包括大理石抛光盘和抛光胶盘、大型储液槽、抛光液储液罐、磁力搅拌器、电泵、抛光液过滤设备、喷嘴装置等,抛光液储液罐中有磁力搅拌器持续搅拌,抛光液过滤设备采用多层过滤膜式过滤装置,可以根据需要多层分级过滤。本发明实现了大型环抛机的浸没式抛光加工,温度平衡性好,降低了由于抛光温度不均匀性带来的抛光面形误差,有利于提高大口径平面光学元件的面形精度和表面粗糙度,并能够有效的控制工件的表面疵病。另外,该浸没式抛光机采用抛光液循环利用方式,可以大大降低抛光液的损耗,减小了加工成本。

    大型浸没式环抛机
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103372805B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201310293836.0

    申请日:2013-07-12

    Abstract: 一种大型浸没式环抛机,主要包括大理石抛光盘和抛光胶盘、大型储液槽、抛光液储液罐、磁力搅拌器、电泵、抛光液过滤设备、喷嘴装置等,抛光液储液罐中有磁力搅拌器持续搅拌,抛光液过滤设备采用多层过滤膜式过滤装置,可以根据需要多层分级过滤。本发明实现了大型环抛机的浸没式抛光加工,温度平衡性好,降低了由于抛光温度不均匀性带来的抛光面形误差,有利于提高大口径平面光学元件的面形精度和表面粗糙度,并能够有效的控制工件的表面疵病。另外,该浸没式抛光机采用抛光液循环利用方式,可以大大降低抛光液的损耗,减小了加工成本。

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