一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法

    公开(公告)号:CN109397007B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN201811257375.0

    申请日:2018-10-26

    Abstract: 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘,转盘轴承和出水孔,其中,大理石为中空大理石;本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘,使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动,加快了抛光液的流动,这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀,提高了光学元件的表面质量;表面热场分布均匀,减少了抛光过程中的热积聚现象,提高了面形收敛效率,提高加工效率。

    基于大数据分析的智能环抛交叉修复调拨系统

    公开(公告)号:CN108694268B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN201810215356.5

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种基于大数据分析的环抛智能交叉修复调拨系统,其结构示意图如下所示,包括面形数据获取模块、交叉修复匹配分析模块、智能存取调拨模块;面形数据获取模块包括静置恒温单元和面形检测单元,通过数字化干涉仪来获取元件全口径反射面形、透射面形及材料非均匀性分布等数据;交叉修复匹配分析模块包括数据分类单元、指标提取单元、数据分析单元、分析结果驱动单元,功能是对获取的面形数据进行处理、分析、判断,最终形成最佳交叉修复匹配方案;智能交叉修复调拨模块包括元件存储单元和自动传输单元,根据交叉修复匹配方案对元件进行自动存取调拨。本发明的智能交叉修复调拨系统应用在多工位环抛机群批量加工过程中,利用多样化的第一面面形分布和多样化的抛光模面形变化特性,基于大数据分析进行匹配决策,整个过程智能控制,有效提升交叉修复命中率和面形控制效率,具有很强的实用性。

    平板类光学元件环形抛光面形精调方法

    公开(公告)号:CN108177027B

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201711330838.7

    申请日:2017-12-13

    Abstract: 本发明公开了一种平板类光学元件环形抛光面形精调方法,利用平板类光学元件在环抛过程中的热变形来调节其反射/透射面形变化,在抛光模面形保形期创造一种快速、可控的元件面形高低转化,能够大幅提升该类元件环形抛光反射/透射波前分布控制效率。本发明特别适用于热膨胀系数大、易变形的平板类光学元件,如400mm口径激光钕玻璃片状元件,有效克服了该类元件环形抛光过程中面形控制的不确定性,米量级平板类光学元件的加工精度,面形PV优于1/5λ(λ=632.8nm),GRMS优于1/90λ。

    一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法

    公开(公告)号:CN109397007A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201811257375.0

    申请日:2018-10-26

    Abstract: 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘,转盘轴承和出水孔,其中,大理石为中空大理石;本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘,使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动,加快了抛光液的流动,这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀,提高了光学元件的表面质量;表面热场分布均匀,减少了抛光过程中的热积聚现象,提高了面形收敛效率,提高加工效率。

    环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107414676A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201710348482.3

    申请日:2017-05-17

    CPC classification number: B24B49/04 B24B49/10 G01N3/02

    Abstract: 一种环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法,该装置包括压力传感器、处理器、滑环和计算机。将压力传感器埋入沥青抛光模内获得模拟信号,通过数据线将模拟信号传输至处理器,处理器包括AD数据采集模块和MCU模块,由处理器输出的数字信号通过无线通讯设备传送至计算机进行存储、分析。该发明可测得抛光机静止及正常作业过程中沥青抛光模的应力分布,依据此应力分布可以推断沥青材料的蠕变变形现象,结合沥青材料的屈服极限可判断是否发生塑性变形及塑性流动现象,根据测量、计算得到的力传递率可推断沥青抛光模上表面的压力分布,以此压力分布结合相对运动可预测抛光模面形变化,使环抛工艺向确定性加工方向发展。

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