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公开(公告)号:CN109397007B
公开(公告)日:2024-03-01
申请号:CN201811257375.0
申请日:2018-10-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘,转盘轴承和出水孔,其中,大理石为中空大理石;本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘,使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动,加快了抛光液的流动,这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀,提高了光学元件的表面质量;表面热场分布均匀,减少了抛光过程中的热积聚现象,提高了面形收敛效率,提高加工效率。
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公开(公告)号:CN108694268B
公开(公告)日:2021-11-05
申请号:CN201810215356.5
申请日:2018-03-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于大数据分析的环抛智能交叉修复调拨系统,其结构示意图如下所示,包括面形数据获取模块、交叉修复匹配分析模块、智能存取调拨模块;面形数据获取模块包括静置恒温单元和面形检测单元,通过数字化干涉仪来获取元件全口径反射面形、透射面形及材料非均匀性分布等数据;交叉修复匹配分析模块包括数据分类单元、指标提取单元、数据分析单元、分析结果驱动单元,功能是对获取的面形数据进行处理、分析、判断,最终形成最佳交叉修复匹配方案;智能交叉修复调拨模块包括元件存储单元和自动传输单元,根据交叉修复匹配方案对元件进行自动存取调拨。本发明的智能交叉修复调拨系统应用在多工位环抛机群批量加工过程中,利用多样化的第一面面形分布和多样化的抛光模面形变化特性,基于大数据分析进行匹配决策,整个过程智能控制,有效提升交叉修复命中率和面形控制效率,具有很强的实用性。
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公开(公告)号:CN109664179B
公开(公告)日:2021-05-04
申请号:CN201910000558.2
申请日:2019-01-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种环形抛光机,包括固定安装有抛光盘的机架,浇注在抛光盘上表面的抛光模,固定在抛光机机架悬臂上的连接杆,与连接杆连接且放置于抛光模上的轴承式校正盘。本发明具有结构简单,操作方便的特点,通过设置校正盘对抛光模相同径向位置同比例的磨削,实现校正盘对抛光模的均匀磨削,保持抛光模面形稳定,有效控制加工的元件面形,提高加工效率。
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公开(公告)号:CN110076696B
公开(公告)日:2020-11-10
申请号:CN201910284428.6
申请日:2019-04-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
IPC: B24B53/017 , B24B53/14 , B24B13/00
Abstract: 一种用于环拋机抛光模面形整平修复的辅助装置,该装置包括线性模组,与线性模组后背板固定连接的安装卡扣,与线性模组的滑块固定连接的测量整平模块。本发明具有结构简单,安装和操作方便的特点,实现抛光模初始面形较差或大起伏面形时的快速整平修复,保证抛光模面形稳定,有效控制加工的元件面形,提高加工效率。
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公开(公告)号:CN108177027B
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201711330838.7
申请日:2017-12-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种平板类光学元件环形抛光面形精调方法,利用平板类光学元件在环抛过程中的热变形来调节其反射/透射面形变化,在抛光模面形保形期创造一种快速、可控的元件面形高低转化,能够大幅提升该类元件环形抛光反射/透射波前分布控制效率。本发明特别适用于热膨胀系数大、易变形的平板类光学元件,如400mm口径激光钕玻璃片状元件,有效克服了该类元件环形抛光过程中面形控制的不确定性,米量级平板类光学元件的加工精度,面形PV优于1/5λ(λ=632.8nm),GRMS优于1/90λ。
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公开(公告)号:CN109664179A
公开(公告)日:2019-04-23
申请号:CN201910000558.2
申请日:2019-01-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种环形抛光机,包括固定安装有抛光盘的机架,浇注在抛光盘上表面的抛光模,固定在抛光机机架悬臂上的连接杆,与连接杆连接且放置于抛光模上的轴承式校正盘。本发明具有结构简单,操作方便的特点,通过设置校正盘对抛光模相同径向位置同比例的磨削,实现校正盘对抛光模的均匀磨削,保持抛光模面形稳定,有效控制加工的元件面形,提高加工效率。
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公开(公告)号:CN109397007A
公开(公告)日:2019-03-01
申请号:CN201811257375.0
申请日:2018-10-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘,转盘轴承和出水孔,其中,大理石为中空大理石;本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘,使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动,加快了抛光液的流动,这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀,提高了光学元件的表面质量;表面热场分布均匀,减少了抛光过程中的热积聚现象,提高了面形收敛效率,提高加工效率。
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公开(公告)号:CN107414676A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:CN201710348482.3
申请日:2017-05-17
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法,该装置包括压力传感器、处理器、滑环和计算机。将压力传感器埋入沥青抛光模内获得模拟信号,通过数据线将模拟信号传输至处理器,处理器包括AD数据采集模块和MCU模块,由处理器输出的数字信号通过无线通讯设备传送至计算机进行存储、分析。该发明可测得抛光机静止及正常作业过程中沥青抛光模的应力分布,依据此应力分布可以推断沥青材料的蠕变变形现象,结合沥青材料的屈服极限可判断是否发生塑性变形及塑性流动现象,根据测量、计算得到的力传递率可推断沥青抛光模上表面的压力分布,以此压力分布结合相对运动可预测抛光模面形变化,使环抛工艺向确定性加工方向发展。
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公开(公告)号:CN109304342B
公开(公告)日:2022-10-11
申请号:CN201811105239.X
申请日:2018-09-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种激光钕玻璃元件机械化清洗装置,该装置包括框架式机架,机架的顶部是风机系统;在水平方向上,机架自右向左,依次是上料单元、研磨抛光单元、喷淋刷洗单元和下料单元。各单元通过传送机构依次连接。本发明的装置整个过程机械控制,对激光钕玻璃元件的清洗,具有操作方便、自动化程度高的特点,不仅保证清洗效果和节省人力,而且提高清洗效率和安全性。
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