-
公开(公告)号：CN104375384A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201310351942.X
申请日：2013-08-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种曝光装置，用于在基底上曝光图形，包括：一激光器，用于提供曝光光源；一光源调整模块，用于调整该曝光光源；一空间光调制器，用于将该曝光光源调制成一图形；一物镜，用于将该图形成像至该基底；一工件台，用于支撑并驱动该基底运动；以及一同步控制单元，用于同步控制该工件台、空间光调制器以及该激光器。本发明同时公开一种曝光方法。
-
公开(公告)号：CN104345577A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201310347666.X
申请日：2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种对准装置，包括照明模块、干涉模块和探测模块，所述干涉模块至少包括一组科斯特（Koster）棱镜，多个波长的光源发出的光束通过所述照明模块输出照明光束，所述照明光束通过所述干涉模块入射到对准标记，所述干涉模块还通过所述科斯特（Koster）棱镜将所述对准标记衍射得到的对称的正负极衍射光进行重合形成探测光，所述探测光被所述探测模块转化为干涉信号并进行收集，从而通过收集得到的干涉信号的信息可以得到所述对准标记的位置信息。本发明在干涉模块中使用了科斯特（Koster）棱镜（Koester棱镜），相比于空间多面体结构的屋脊棱镜，可有效的降低加工制造、装调难度。
-
公开(公告)号：CN102540738B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201010592293.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 发明提供一种光束间不平行角度的补偿方法，该方法应用于光刻机系统，该光刻机系统包括基底台、第一方向干涉仪和与该第一方向垂直的第二方向干涉仪，包括：该基底台沿着该第一方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第一方向干涉仪光束间不平行角度；该基底台沿着该第二方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第二方向干涉仪光束间不平行角度；分别补偿该第一方向干涉仪和该第二方向干涉仪光束间不平行角度。本发明通过补偿干涉仪光束间的不平行角度，得到正确的长条镜面形，进而对测量位置进行面形补偿，提高基底台控位准确性，提高光刻机系统的精度。
-
公开(公告)号：CN103969956A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310029962.5
申请日：2013-01-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块，提供照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，本发明提供的曝光装置节省了现有技术的曝光装置所需损耗的能量，增加了其曝光的效率，并有效降低了其曝光图形的模糊度。
-
公开(公告)号：CN103901730A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210586861.3
申请日：2012-12-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种曝光装置，用于对涂胶基底进行至少两次曝光，包括至少两个SLM、运动机构、投影物镜、工件台、涂胶基底以及控制单元，至少两个空间光调制器分别安装于运动机构上，SLM、所述运动机构以及工件台分别由控制单元控制，载有涂胶基底的工件台在控制单元的控制下运动到待曝光位置，运动机构在控制单元的控制下将至少两个SLM依次调整至投影物镜的物面进行曝光，每个空间光调制器在控制单元的控制下依次进行数据载入阶段、器件重置阶段和图形显示阶段，控制单元控制各空间调制器同时进行上述任一阶段，从而提高所有SLM整体的有效刷新率，提高无掩模光刻设备的产率，并减少了SLM图形的显示时间，可使用连续光源制作高分辨率图形。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102736427A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110086800.6
申请日：2011-04-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种曝光装置及方法，该装置包括照明单元，发出相干光束；棱镜集合，该相干光束经由该棱镜集合形成多数平行的干涉臂出射；干涉头，将该些平行的干涉臂干涉形成干涉条纹；以及基底，该干涉条纹位于该基底表面；其特征在于，该棱镜集合包括第一棱镜及第二棱镜，该第一棱镜与第二棱镜沿光传播方向的间距可调节，且该些平行的干涉臂经由该干涉头后汇聚的高度恒定。
-
公开(公告)号：CN101393009A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200810202282.8
申请日：2008-11-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种大行程激光干涉仪垂向测量装置和方法，包括，固定放置于载物台的第一反射镜和第二反射镜；光路切换装置，放置于干涉仪和载物台之间；控制器，和干涉仪以及光路切换装置相连；干涉仪出射的测量光通过输入通道进入光路切换装置，其出射端设置有一排出射孔，由控制器控制所述第一、第二测量光中至少一束从特定的出射孔垂直入射到第二反射镜，并沿原路被反射回，干涉仪出射的第三测量光垂直入射到第一反射镜上并沿原路被反射回，本发明能以高分辨率测量载物台的垂向距离，有效的扩大了可测行程范围。
-
公开(公告)号：CN107024274A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201610067096.2
申请日：2016-01-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G01J4/00
Abstract: 本发明提供一种适用于光配向设备的检偏方法，将进行对消光比和偏振方向进行初次检测后，进行复检，在初次检测的偏振方向旋转45°，在其附近进行滑动窗口取值，并进行曲线拟合，直至找出随着角度的变化，光强相对于角度的斜率变化最大的角度，再补偿45°后即为精确的偏振方向。这种检测方法，在进行初次检测后，就无需再寻找多个采样点进行反复试验，而是使用计算机曲线拟合的方式，简化了测量方法，同时进行滑动窗口取值，在每个窗口的中心点进行斜率计算，找出斜率变化最大的点所对应的角度，这种滑动窗口取值能够提升测量精度，弱化了噪声的干扰对测量的影响。
-
公开(公告)号：CN106569394A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201510647164.8
申请日：2015-10-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 本发明涉及一种掩模整形装置，包括整形框架、整形玻璃、真空吸附气路及恒压控制气路，整形框架设在掩模边缘上方，并通过若干弹性部件连接掩模台；整形框架中部为中空结构，该中空结构与掩模相对应；整形玻璃固定罩设于整形框架的中空结构上；真空吸附气路与整形框架和掩模台的连接处连通，通过抽气和进气，控制整形框架与掩模接触和分离；整形框架与掩模接触使得中空结构被密封，恒压控制气路与中空结构连通，通过抽气和进气控制密封的中空结构内的气压恒定，补偿掩模由自重产生的变形。本发明掩模整形装置的固定和中空结构的密闭均通过真空吸附方式，没有增加额外的机械结构，降低了整机集成复杂度，避免了结构之间相互摩擦带来的颗粒污染问题。
-
公开(公告)号：CN104345577B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201310347666.X
申请日：2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种对准装置，包括照明模块、干涉模块和探测模块，所述干涉模块至少包括一组科斯特（Koster）棱镜，多个波长的光源发出的光束通过所述照明模块输出照明光束，所述照明光束通过所述干涉模块入射到对准标记，所述干涉模块还通过所述科斯特（Koster）棱镜将所述对准标记衍射得到的对称的正负极衍射光进行重合形成探测光，所述探测光被所述探测模块转化为干涉信号并进行收集，从而通过收集得到的干涉信号的信息可以得到所述对准标记的位置信息。本发明在干涉模块中使用了科斯特（Koster）棱镜（Koester棱镜），相比于空间多面体结构的屋脊棱镜，可有效的降低加工制造、装调难度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
51
records
(took 0.026 seconds)
